JP2013084933A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持する支持体と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、測定システムであって、測定放射ビームを提供する測定放射システムと、リフレクタ間で測定ビームの一部分を反射する少なくとも2つのリフレクタと、リフレクタの1つを通して伝送される測定ビームの少なくとも一部分の波長を検出するディテクタとを備える測定システムと、を含む。
【選択図】図1
Description
Claims (15)
- 基板を支持する基板テーブルと、
パターン付放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
測定システムであって、
測定放射ビームを提供する測定放射システムと、
リフレクタ間で測定ビームの一部分を反射する少なくとも2つのリフレクタと、
前記リフレクタの1つを通して伝送される測定ビームの少なくとも一部分の波長を検出するディテクタと
を備える測定システムと、
を備えるリソグラフィ装置。 - 前記測定システムの前記少なくとも2つのリフレクタは、前記リソグラフィ装置のコンポーネント内に設けられて、該コンポーネントの変形を測定する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コンポーネントは、前記基板テーブル、マスク支持構造、基準フレーム及び前記投影システムのうち少なくとも1つである、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記一部分は、前記測定ビームの放射の95〜99%である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リフレクタは、ミラーを備える、請求項1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記リフレクタは、透過体のコーティングされた側を備える、請求項1から5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記リフレクタは、屈折率変調を有するファイバコアを備える、請求項1から5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 屈折率変調を有する前記ファイバコアは、第1の屈折率を有する前記コアの第1の部分と、第2の屈折率を有する前記コアの第2の部分とを備え、前記コアの第1の領域で前記第1の部分の間の距離は第1の定数値を有する、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 屈折率変調を有する前記ファイバコアは、第1の屈折率を有する前記コアの第1の部分と、第2の屈折率を有する前記コアの第2の部分とを備え、前記第1及び第2の反射領域内で第1の部分の間の距離は第2の定数値を有し、前記第1及び第2の反射領域の間の距離は第3の値に等しい、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ディテクタは、広波長スペクトルにわたって測定を実行する、請求項1から9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射システムは、測定ビームに広波長スペクトルを提供する、請求項1から10のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記広波長スペクトルは、0.1〜200nm、好ましくは1〜50nm、最も好ましくは2〜20nmである、請求項8又は9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射システムは、高周波変調発光ダイオード、超蛍光発光ダイオード、及び可変波長レーザのうち1つを備える、請求項1から12のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記2つのリフレクタは、互いに1mm未満、好ましくは0.05〜1mm、さらに好ましくは0.1〜0.2mmの距離で設けられる、請求項1から13のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するステップと、
リフレクタへ向けて測定放射ビームを放射することで2つのリフレクタ間の距離を測定するステップと、
前記リフレクタ間で前記測定ビームの大部分を反射させるステップと、
前記リフレクタの1つを通して伝送されるビームの波長を検出するステップと
を含むデバイス製造方法。
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