JP5699115B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 74
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 73
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 64
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 31
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 15
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 3
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/7085—Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70575—Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
Description
Claims (14)
- 基板を支持する基板テーブルと、
パターン付放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
測定放射ビームを提供する測定放射システムと、
リフレクタ間で前記測定放射ビームの一部分を反射する少なくとも2つのリフレクタと、
前記リフレクタの1つを通して伝送される前記測定放射ビームの少なくとも一部分の波長を検出するディテクタと、を備え、
前記少なくとも2つのリフレクタはリソグラフィ装置の第1のコンポーネントに設けられ、前記第1のコンポーネントは、前記基板テーブル、マスク支持構造、基準フレーム及び前記投影システムのうちの少なくとも1つであり、
前記測定放射システム及び/又は前記ディテクタは、前記第1のコンポーネントとは異なる前記リソグラフィ装置の第2のコンポーネントに設けられ、
前記第1のコンポーネントと前記第2のコンポーネントとの間に物理的接続がない、リソグラフィ装置。 - 検出された前記波長に基づき前記少なくとも2つのリフレクタ間の距離を決定することによって前記第1のコンポーネントの変形を測定する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記一部分は、前記測定放射ビームの放射の95〜99%である、請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リフレクタはミラーを備える、請求項1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記リフレクタは、透過体のコーティングされた側を備える、請求項1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記リフレクタは、屈折率変調を有するファイバコアを備える、請求項1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記ファイバコアは、第1の屈折率を有する第1の部分と、第2の屈折率を有する第2の部分とを備え、前記ファイバコアの第1の領域で前記第1の部分の間の距離は第1の定数値を有する、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ファイバコアは、第1の屈折率を有する第1の部分と、第2の屈折率を有する第2の部分とを備え、前記ファイバコアの第1及び第2の反射領域内で第1の部分の間の距離は第2の定数値を有し、前記第1及び第2の反射領域の間の距離は第3の定数値を有する、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ディテクタは、広波長スペクトルにわたって測定を実行する、請求項1から8のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定放射システムは、測定放射ビームに広波長スペクトルを提供する、請求項1から9のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記広波長スペクトルは、0.1〜200nm、又は、1〜50nm、又は、2〜20nmである、請求項9又は10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定放射システムは、高周波変調発光ダイオード、超蛍光発光ダイオード、及び可変波長レーザのうち1つを備える、請求項1から11のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記2つのリフレクタは互いに、1mm未満、又は、0.05〜1mm、又は、0.1〜0.2mmの距離で設けられる、請求項1から12のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するステップと、
測定放射システムからリフレクタへ向けて測定放射ビームを放射することで2つのリフレクタ間の距離を測定するステップと、
前記リフレクタ間で前記測定放射ビームの大部分を反射させるステップと、
前記リフレクタの1つを通して伝送されるビームの波長をディテクタで検出するステップと、を含み、
前記2つのリフレクタはリソグラフィ装置の第1のコンポーネントに設けられ、前記第1のコンポーネントは、基板テーブル、マスク支持構造、基準フレーム及び投影システムのうち少なくとも1つであり、
前記測定放射システム及び/又は前記ディテクタは、前記第1のコンポーネントとは異なる前記リソグラフィ装置の第2のコンポーネントに設けられ、
前記第1のコンポーネントと前記第2のコンポーネントとの間に物理的接続がない、デバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161539826P | 2011-09-27 | 2011-09-27 | |
US61/539,826 | 2011-09-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013084933A JP2013084933A (ja) | 2013-05-09 |
JP5699115B2 true JP5699115B2 (ja) | 2015-04-08 |
Family
ID=47910966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012206549A Active JP5699115B2 (ja) | 2011-09-27 | 2012-09-20 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9207547B2 (ja) |
JP (1) | JP5699115B2 (ja) |
NL (1) | NL2009357A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL2008353A (nl) * | 2011-03-30 | 2012-10-02 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and method. |
WO2015178975A2 (en) * | 2014-02-13 | 2015-11-26 | Micatu Inc. | An optical sensor system and methods of use thereof |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2705694B2 (ja) | 1996-08-05 | 1998-01-28 | 株式会社ニコン | 投影光学装置 |
JP3445102B2 (ja) | 1997-06-13 | 2003-09-08 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2001267234A (ja) | 2000-03-22 | 2001-09-28 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2003211506A (ja) | 2002-01-23 | 2003-07-29 | Toshiba Mach Co Ltd | 射出成形機及びダイカストマシン |
JP2004281654A (ja) | 2003-03-14 | 2004-10-07 | Canon Inc | 駆動機構及びそれを用いた露光装置、デバイスの製造方法 |
FR2854689B1 (fr) * | 2003-05-07 | 2005-09-02 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif, systeme et procede de mesure de deformations mecaniques et/ou thermiques uniaxiales au moyen d'une fibre optique a reseau de bragg |
JP4738829B2 (ja) * | 2005-02-09 | 2011-08-03 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置 |
JP5040657B2 (ja) | 2005-10-24 | 2012-10-03 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法、デバイス組立方法 |
JP2007183105A (ja) | 2005-12-30 | 2007-07-19 | Railway Technical Res Inst | ころ軸受転動体軸方向ひずみ検出方法、及びころ軸受転動体軸方向ひずみ検出装置 |
JP2008173397A (ja) | 2007-01-22 | 2008-07-31 | Olympus Corp | 内視鏡システム |
JP5350139B2 (ja) | 2008-10-01 | 2013-11-27 | キヤノン株式会社 | 露光装置、及びデバイスの製造方法 |
US8351024B2 (en) * | 2009-03-13 | 2013-01-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method involving a level sensor having a detection grating including three or more segments |
-
2012
- 2012-08-24 NL NL2009357A patent/NL2009357A/en not_active Application Discontinuation
- 2012-09-11 US US13/610,466 patent/US9207547B2/en active Active
- 2012-09-20 JP JP2012206549A patent/JP5699115B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130077072A1 (en) | 2013-03-28 |
NL2009357A (en) | 2013-03-28 |
US9207547B2 (en) | 2015-12-08 |
JP2013084933A (ja) | 2013-05-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130930 |
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A977 | Report on retrieval |
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