JP2012009859A - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調節する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付与された放射ビームを形成可能なパターニングデバイス、を支持するよう構成されたサポートと、基板を保持するよう構成された基板テーブルと、基板テーブルを基準構造に対して位置決めするためのステージシステムと、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、センサ部と光学部とを有する光学測定システムと、を備える。光学部は、パターン付与された放射ビームと光学的に相互作用し、その相互作用の結果を出力としてセンサ部に送信する。光学部は基板テーブルに設けられ、センサ部はステージシステムまたは基準構造に設けられる。
【選択図】図1
Description
1.ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射でターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTもしくは「マスクサポート」および基板テーブルWTもしくは「基板サポート」は、実質的に静止状態とされる(すなわち1回の静的な露光)。そして基板テーブルWTもしくは「基板サポート」がX方向及び/またはY方向に移動されて、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズによって、1回の静的露光で結像されるターゲット部分Cの寸法が制限されることになる。
2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTもしくは「マスクサポート」および基板テーブルWTもしくは「基板サポート」は、同期して走査される(すなわち1回の動的な露光)。パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTもしくは「マスクサポート」に対する基板テーブルWTもしくは「基板サポート」の速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが1回の動的露光でのターゲット部分Cの(非走査方向の)幅を制限し、走査移動距離がターゲット部分の(走査方向の)長さを決定する。
3.その他のモードにおいては、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTもしくは「マスクサポート」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、基板テーブルWTもしくは「基板サポート」が移動またはスキャンされる。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、スキャン中、基板テーブルWTもしくは「基板サポート」が移動する毎に、あるいは連続する放射パルス間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、上述したタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用しているマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (11)
- 放射ビームを調節する照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付与された放射ビームを形成可能なパターニングデバイス、を支持するよう構成されたサポートと、
基板を保持するよう構成された基板テーブルと、
基板テーブルを基準構造に対して位置決めするためのステージシステムと、
パターン付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
センサ部と光学部とを有する光学測定システムと、を備え、
光学部は、パターン付与された放射ビームの一部と光学的に相互作用し、その相互作用の結果を出力としてセンサ部に送信し、
光学部は基板テーブルに設けられ、センサ部はステージシステムまたは基準構造に設けられる、リソグラフィ装置。 - 光学部は回折格子を有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- センサ部は、光学部の出力を電気信号に変換する検出器を有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 検出器は放射感応性の検出面を有し、その検出面はパターン付与された放射ビームと実質的に直交する平面内にある、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 検出器は放射感応性の検出面を有し、その検出面はパターン付与された放射ビームと実質的に直交しない平面内にある、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 検出面はパターン付与された放射ビームと実質的に平行である、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 光学部は平行ビームをセンサ部に向けて出力する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 光学部は相互作用の結果を基準ビームと組み合わせて出力し、その相互作用の結果の空間座標はその基準ビームから導出可能である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 検出器は光検出器またはCCDカメラである、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 光学測定システムは基板テーブルとパターニングデバイスとの相対位置を測定する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 光学測定システムは投影システムの特性を示す、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
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