JPH07321179A - 基板搬送装置 - Google Patents
基板搬送装置Info
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- JPH07321179A JPH07321179A JP6109515A JP10951594A JPH07321179A JP H07321179 A JPH07321179 A JP H07321179A JP 6109515 A JP6109515 A JP 6109515A JP 10951594 A JP10951594 A JP 10951594A JP H07321179 A JPH07321179 A JP H07321179A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 搬送対象とする基板の搬送経路を短縮し、基
板交換を高速に行う。 【構成】 レチクルライブラリー4から多軸ロボットハ
ンド6により取り出したレチクルを一時保管棚13の待
機面16a上の基板支持ピン17上に載置する。このレ
チクルの下で回転アーム18のアーム23A,23Bを
閉じ、レチクルステージ25上のレチクルの下でもアー
ム24A,24Bを閉じてから、Z軸スライダ20を上
昇させて回転部21を180°回転させる。その後、Z
軸スライダ20を下降させて、レチクルステージ25及
び基板支持ピン17上にそれぞれレチクルを載置する。
板交換を高速に行う。 【構成】 レチクルライブラリー4から多軸ロボットハ
ンド6により取り出したレチクルを一時保管棚13の待
機面16a上の基板支持ピン17上に載置する。このレ
チクルの下で回転アーム18のアーム23A,23Bを
閉じ、レチクルステージ25上のレチクルの下でもアー
ム24A,24Bを閉じてから、Z軸スライダ20を上
昇させて回転部21を180°回転させる。その後、Z
軸スライダ20を下降させて、レチクルステージ25及
び基板支持ピン17上にそれぞれレチクルを載置する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばガラス基板等を
搬送するための基板搬送装置に関し、特に例えば半導体
素子又は液晶表示素子等を製造する際に使用される露光
装置のレチクルローダ系等に適用して好適なものであ
る。
搬送するための基板搬送装置に関し、特に例えば半導体
素子又は液晶表示素子等を製造する際に使用される露光
装置のレチクルローダ系等に適用して好適なものであ
る。
【0002】
【従来の技術】レチクル(又はフォトマスク等)のパタ
ーンをフォトレジストが塗布されたウエハ(又はガラス
プレート等)上に露光する露光装置において、例えば特
定用途向けIC(Application-specific IC:ASIC)
を製造する場合には、1枚のウエハ上の異なるショット
領域に複数種類のレチクルのパターンを切り換えて露光
する必要がある。このように複数種類のレチクルのパタ
ーンを順次切り換えて露光するには、異なるレチクルを
効率的に切り換えて露光装置のレチクルステージ上にロ
ードし、且つそのレチクルステージからアンロードする
レチクルローダ系が必要となる。
ーンをフォトレジストが塗布されたウエハ(又はガラス
プレート等)上に露光する露光装置において、例えば特
定用途向けIC(Application-specific IC:ASIC)
を製造する場合には、1枚のウエハ上の異なるショット
領域に複数種類のレチクルのパターンを切り換えて露光
する必要がある。このように複数種類のレチクルのパタ
ーンを順次切り換えて露光するには、異なるレチクルを
効率的に切り換えて露光装置のレチクルステージ上にロ
ードし、且つそのレチクルステージからアンロードする
レチクルローダ系が必要となる。
【0003】図6は、本出願人が既に提案した効率的に
レチクルのロード及びアンロードを行うレチクルローダ
系を示し、この図6において、レチクルステージ25上
のレチクル(不図示)が不図示の照明光学系からの露光
光により照明され、その露光光のもとでレチクルのパタ
ーンが投影光学系PLを介してウエハステージ26上の
ウエハWの所定のショット領域に露光される。この場
合、投影光学系PLの光軸に平行にZ軸を取り、Z軸に
垂直な平面の直交座標系をX軸、及びY軸とする。ま
た、その露光装置で露光対象とされる多数のレチクル
は、初期状態ではレチクルライブラリー4中の各レチク
ルケース5中に収納されている。
レチクルのロード及びアンロードを行うレチクルローダ
系を示し、この図6において、レチクルステージ25上
のレチクル(不図示)が不図示の照明光学系からの露光
光により照明され、その露光光のもとでレチクルのパタ
ーンが投影光学系PLを介してウエハステージ26上の
ウエハWの所定のショット領域に露光される。この場
合、投影光学系PLの光軸に平行にZ軸を取り、Z軸に
垂直な平面の直交座標系をX軸、及びY軸とする。ま
た、その露光装置で露光対象とされる多数のレチクル
は、初期状態ではレチクルライブラリー4中の各レチク
ルケース5中に収納されている。
【0004】そして、実際に所定のASICのパターン
をウエハW上に露光する際には、露光対象のレチクルが
第1搬送系51、第2搬送系61、及び第3搬送系55
を介してレチクルステージ25上にロードされ、露光が
終わってアンロードされたウエハは順次第3搬送系55
を介して一時保管棚13内に収納される。より詳細に説
明すると、第1搬送系51は、Z軸に平行なガイド52
と、ガイド52に沿ってスライドするZ軸スライダ53
と、Z軸スライダ53に沿ってY方向に移動してレチク
ルライブラリー4とレチクルRAの受渡しを行うアーム
54とより構成されている。
をウエハW上に露光する際には、露光対象のレチクルが
第1搬送系51、第2搬送系61、及び第3搬送系55
を介してレチクルステージ25上にロードされ、露光が
終わってアンロードされたウエハは順次第3搬送系55
を介して一時保管棚13内に収納される。より詳細に説
明すると、第1搬送系51は、Z軸に平行なガイド52
と、ガイド52に沿ってスライドするZ軸スライダ53
と、Z軸スライダ53に沿ってY方向に移動してレチク
ルライブラリー4とレチクルRAの受渡しを行うアーム
54とより構成されている。
【0005】また、第2搬送系61は、X軸に平行なガ
イド62と、ガイド62に沿って摺動すると共に、アー
ム54とレチクルの受渡しを行うスライダ63とより構
成されている。そして、第3搬送系55は、Z軸に平行
なガイド56と、ガイド56に沿ってZ方向に移動でき
ると共に、Y方向に伸びた2つの平行なガイド57及び
58と、これらガイド57及び58に沿ってY方向に移
動するアンロードアーム59及びロードアーム60とよ
り構成されている。この場合、スライダ63とのレチク
ルの受渡しはアンロードアーム59及びロードアーム6
0を介して行われ、ロードアーム60がレチクルをレチ
クルステージ25上にロードし、レチクルステージ25
からのレチクルのアンロードはアンロードアーム59に
より行われる。また、ロードアーム59及びアンロード
アーム60がそれぞれ一時保管棚13とレチクルステー
ジ25との間のレチクルの受渡しを行う。
イド62と、ガイド62に沿って摺動すると共に、アー
ム54とレチクルの受渡しを行うスライダ63とより構
成されている。そして、第3搬送系55は、Z軸に平行
なガイド56と、ガイド56に沿ってZ方向に移動でき
ると共に、Y方向に伸びた2つの平行なガイド57及び
58と、これらガイド57及び58に沿ってY方向に移
動するアンロードアーム59及びロードアーム60とよ
り構成されている。この場合、スライダ63とのレチク
ルの受渡しはアンロードアーム59及びロードアーム6
0を介して行われ、ロードアーム60がレチクルをレチ
クルステージ25上にロードし、レチクルステージ25
からのレチクルのアンロードはアンロードアーム59に
より行われる。また、ロードアーム59及びアンロード
アーム60がそれぞれ一時保管棚13とレチクルステー
ジ25との間のレチクルの受渡しを行う。
【0006】そして、一時保管棚13内にはレチクルラ
イブラリー4中のレチクルの内で、ASICのパターン
を露光する際に使用される複数枚のレチクルが保管さ
れ、そのASIC用のパターンを1ロットのウエハ上に
露光する際には、レチクルステージ25と一時保管棚1
3との間でレチクルの受渡しが行われる。具体的に、一
時保管棚13とレチクルステージ25との間でレチクル
を交換する工程は以下のようなものであった。
イブラリー4中のレチクルの内で、ASICのパターン
を露光する際に使用される複数枚のレチクルが保管さ
れ、そのASIC用のパターンを1ロットのウエハ上に
露光する際には、レチクルステージ25と一時保管棚1
3との間でレチクルの受渡しが行われる。具体的に、一
時保管棚13とレチクルステージ25との間でレチクル
を交換する工程は以下のようなものであった。
【0007】アンロードアーム59で露光終了後のレ
チクルをレチクルステージ25よりアンロードする。 ロードアーム60で次に露光するレチクルをレチクル
ステージ25にロードする。 露光中にアンロードしたレチクルを一時保管棚13に
返却する。 その次に露光するレチクルを一時保管棚13より取り
出して待機位置へ搬送する。
チクルをレチクルステージ25よりアンロードする。 ロードアーム60で次に露光するレチクルをレチクル
ステージ25にロードする。 露光中にアンロードしたレチクルを一時保管棚13に
返却する。 その次に露光するレチクルを一時保管棚13より取り
出して待機位置へ搬送する。
【0008】このような工程の繰り返しにより、種々の
レチクルが順次レチクルステージ25上に設置されてい
た。この場合、一時保管棚13はレチクルライブラリー
4に比べてレチクルステージ25に近いため、一時保管
棚13が無い場合に比べて高速にレチクルの交換が行わ
れていた。また、レチクルのプリアライメントを行う際
には、レチクルステージ25上のアライメント顕微鏡6
5を介してレチクルの位置ずれ量が計測され、この位置
ずれ量を打ち消すように駆動装置64を介してレチクル
ステージ25の位置が調整されていた。
レチクルが順次レチクルステージ25上に設置されてい
た。この場合、一時保管棚13はレチクルライブラリー
4に比べてレチクルステージ25に近いため、一時保管
棚13が無い場合に比べて高速にレチクルの交換が行わ
れていた。また、レチクルのプリアライメントを行う際
には、レチクルステージ25上のアライメント顕微鏡6
5を介してレチクルの位置ずれ量が計測され、この位置
ずれ量を打ち消すように駆動装置64を介してレチクル
ステージ25の位置が調整されていた。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、一時保管棚を利用して複数のレチクルの切
り換えが行われていた。しかしながら、一時保管棚13
とレチクルステージ25との間でのレチクルの受渡しが
ロードアーム59及びアンロードアーム60により行わ
れ、交換時のレチクルの搬送距離が長いため、レチクル
の交換時間がまだ長いという不都合があった。
においては、一時保管棚を利用して複数のレチクルの切
り換えが行われていた。しかしながら、一時保管棚13
とレチクルステージ25との間でのレチクルの受渡しが
ロードアーム59及びアンロードアーム60により行わ
れ、交換時のレチクルの搬送距離が長いため、レチクル
の交換時間がまだ長いという不都合があった。
【0010】本発明は斯かる点に鑑み、搬送対象とする
基板(レチクル等)の搬送経路を更に短縮し、基板の交
換を高速に行うことができる基板搬送装置を提供するこ
とを目的とする。
基板(レチクル等)の搬送経路を更に短縮し、基板の交
換を高速に行うことができる基板搬送装置を提供するこ
とを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明による第1の基板
搬送装置は、例えば図1に示すように、マスク等の処理
対象とする基板を、この基板が処理される基板ステージ
(25)上に設置すると共に、処理後の基板を基板ステ
ージ(25)から搬出する装置において、基板を一時的
に保管すると共に、基板ステージ(25)の表面に交差
する方向(Z方向)に移動自在に支持された一時保管部
(13)と、基板を吸着保持する基板保持部(23A,
23B)と、この基板保持部を回転させると共に基板ス
テージ(25)の表面に交差する方向に移動させる回転
上下部(20,21)とを有する回転アーム部(18)
と、を有し、回転アーム部(18)を介して一時保管部
(13)と基板ステージ(25)との間で基板の受渡し
を行うものである。
搬送装置は、例えば図1に示すように、マスク等の処理
対象とする基板を、この基板が処理される基板ステージ
(25)上に設置すると共に、処理後の基板を基板ステ
ージ(25)から搬出する装置において、基板を一時的
に保管すると共に、基板ステージ(25)の表面に交差
する方向(Z方向)に移動自在に支持された一時保管部
(13)と、基板を吸着保持する基板保持部(23A,
23B)と、この基板保持部を回転させると共に基板ス
テージ(25)の表面に交差する方向に移動させる回転
上下部(20,21)とを有する回転アーム部(18)
と、を有し、回転アーム部(18)を介して一時保管部
(13)と基板ステージ(25)との間で基板の受渡し
を行うものである。
【0012】この場合、回転アーム部(18)に基板を
保持する基板保持部を2個(23A,23B,24A,
24B)設け、これら2個の基板保持部がそれぞれ保持
対象の基板に沿って開閉する1対の基板吸着部を有する
ことが望ましい。また、本発明による第2の基板搬送装
置は、例えば図1に示すように、基板保管部(4)に収
納された基板を、この基板が処理される基板ステージ
(25)上に設置すると共に、処理後の基板を基板ステ
ージ(25)から基板保管部(4)に戻す装置におい
て、基板保管部(4)と基板の受渡しを行う基板搬送部
(6)と;この基板搬送部と基板ステージ(25)との
間で基板を一時的に保管すると共に、基板ステージ(2
5)の表面に交差する方向(Z方向)に移動自在に支持
された一時保管部(13)と;基板を吸着保持する基板
保持部(23A,23B)と、この基板保持部を回転さ
せると共に基板ステージ(25)の表面に交差する方向
に移動させる回転上下部(20,21)とを有する回転
アーム部(18)と;を有し、回転アーム部(18)を
介して一時保管部(13)と基板ステージ(25)との
間で基板の受渡しを行うものである。
保持する基板保持部を2個(23A,23B,24A,
24B)設け、これら2個の基板保持部がそれぞれ保持
対象の基板に沿って開閉する1対の基板吸着部を有する
ことが望ましい。また、本発明による第2の基板搬送装
置は、例えば図1に示すように、基板保管部(4)に収
納された基板を、この基板が処理される基板ステージ
(25)上に設置すると共に、処理後の基板を基板ステ
ージ(25)から基板保管部(4)に戻す装置におい
て、基板保管部(4)と基板の受渡しを行う基板搬送部
(6)と;この基板搬送部と基板ステージ(25)との
間で基板を一時的に保管すると共に、基板ステージ(2
5)の表面に交差する方向(Z方向)に移動自在に支持
された一時保管部(13)と;基板を吸着保持する基板
保持部(23A,23B)と、この基板保持部を回転さ
せると共に基板ステージ(25)の表面に交差する方向
に移動させる回転上下部(20,21)とを有する回転
アーム部(18)と;を有し、回転アーム部(18)を
介して一時保管部(13)と基板ステージ(25)との
間で基板の受渡しを行うものである。
【0013】この場合、基板保管部(4)と基板搬送部
(6)とを第1のベース(2)上に載置し、一時保管部
(13)と基板ステージ(25)とをその第1のベース
とは異なる第2のベース(1)上に載置すると共に、一
時保管部(13)に基板搬送部(6)から基板を渡す際
にこの基板の位置決めを行う基板位置決め部(12A)
を設けることが望ましい。
(6)とを第1のベース(2)上に載置し、一時保管部
(13)と基板ステージ(25)とをその第1のベース
とは異なる第2のベース(1)上に載置すると共に、一
時保管部(13)に基板搬送部(6)から基板を渡す際
にこの基板の位置決めを行う基板位置決め部(12A)
を設けることが望ましい。
【0014】更に、第1のベース(2)と第2のベース
(1)とのずれ量を検出する振動検出部(44,45)
を設け、この振動検出部により検出された位置ずれ量が
所定の許容値を超えたときに基板搬送部(6)から一時
保管部(13)への基板の移送を停止することが望まし
い。
(1)とのずれ量を検出する振動検出部(44,45)
を設け、この振動検出部により検出された位置ずれ量が
所定の許容値を超えたときに基板搬送部(6)から一時
保管部(13)への基板の移送を停止することが望まし
い。
【0015】
【作用】斯かる本発明の第1の基板搬送装置によれば、
一時保管部(13)と基板ステージ(25)との間の基
板の受渡しが回転アーム部(18)により行われる。こ
の場合、回転アーム部(18)の基板保持部(23A,
23B)の回転、及び一時保管部(13)の上下動によ
り一時保管部(13)と基板ステージ(25)との間で
所望の基板の交換が行われるため、基板の待機位置は一
時保管部(13)の位置とほぼ同じである。また、回転
により基板の交換が行われるため、基板の移動経路は短
く、基板の交換速度はきわめて速い。
一時保管部(13)と基板ステージ(25)との間の基
板の受渡しが回転アーム部(18)により行われる。こ
の場合、回転アーム部(18)の基板保持部(23A,
23B)の回転、及び一時保管部(13)の上下動によ
り一時保管部(13)と基板ステージ(25)との間で
所望の基板の交換が行われるため、基板の待機位置は一
時保管部(13)の位置とほぼ同じである。また、回転
により基板の交換が行われるため、基板の移動経路は短
く、基板の交換速度はきわめて速い。
【0016】また、基板保持部を2個設け、2個の基板
保持部がそれぞれ1対の開閉自在な基板吸着部(23
A,23B,24A,24B)を有する場合、例えば一
方の1対の基板吸着部(23A,23B)の内側で基板
が使用されているときに、他方の1対の基板吸着部(2
4A,24B)を開状態として、且つ一時保管部(1
3)が次の基板の取り出し位置に移動するだけで、次に
使用される基板を取り出す準備が終了する。従って、次
に使用する基板の準備時間が大幅に短縮される。
保持部がそれぞれ1対の開閉自在な基板吸着部(23
A,23B,24A,24B)を有する場合、例えば一
方の1対の基板吸着部(23A,23B)の内側で基板
が使用されているときに、他方の1対の基板吸着部(2
4A,24B)を開状態として、且つ一時保管部(1
3)が次の基板の取り出し位置に移動するだけで、次に
使用される基板を取り出す準備が終了する。従って、次
に使用する基板の準備時間が大幅に短縮される。
【0017】次に、本発明の第2の基板搬送装置によれ
ば、一時保管部(13)と基板ステージ(25)との間
の基板の受渡しが回転アーム部(18)により行われる
ため、基板の移動経路は短く、且つ基板の移動速度が速
いため、基板の交換速度はきわめて速い。また、基板保
管部(4)と基板搬送部(6)とを第1のベース(2)
上に載置し、一時保管部(13)と基板ステージ(2
5)とをその第1のベースとは異なる第2のベース
(1)上に載置すると共に、一時保管部(13)に基板
搬送部(6)から基板を渡す際にこの基板の位置決めを
行う基板位置決め部(12A)を設けた場合には、基板
搬送部(6)側の振動が基板ステージ(25)側に伝わ
らない。更に、基板位置決め部(12A)により基板の
位置決めが行われるため、基板ステージ(25)上での
基板のプリアライメントを省略できる。
ば、一時保管部(13)と基板ステージ(25)との間
の基板の受渡しが回転アーム部(18)により行われる
ため、基板の移動経路は短く、且つ基板の移動速度が速
いため、基板の交換速度はきわめて速い。また、基板保
管部(4)と基板搬送部(6)とを第1のベース(2)
上に載置し、一時保管部(13)と基板ステージ(2
5)とをその第1のベースとは異なる第2のベース
(1)上に載置すると共に、一時保管部(13)に基板
搬送部(6)から基板を渡す際にこの基板の位置決めを
行う基板位置決め部(12A)を設けた場合には、基板
搬送部(6)側の振動が基板ステージ(25)側に伝わ
らない。更に、基板位置決め部(12A)により基板の
位置決めが行われるため、基板ステージ(25)上での
基板のプリアライメントを省略できる。
【0018】更に、第1のベース(2)と第2のベース
(1)とのずれ量を検出する振動検出部(44,45)
を設け、この振動検出部により検出された位置ずれ量が
所定の許容値を超えたときに基板搬送部(6)から一時
保管部(13)への基板の移送を停止する場合には、基
板位置決め部(12A)で位置決めした位置からのずれ
量が少ない状態で基板が一時保管部(13)側に移送さ
れるため、一時保管部(13)側でのおおまかな位置決
めを省略できる。
(1)とのずれ量を検出する振動検出部(44,45)
を設け、この振動検出部により検出された位置ずれ量が
所定の許容値を超えたときに基板搬送部(6)から一時
保管部(13)への基板の移送を停止する場合には、基
板位置決め部(12A)で位置決めした位置からのずれ
量が少ない状態で基板が一時保管部(13)側に移送さ
れるため、一時保管部(13)側でのおおまかな位置決
めを省略できる。
【0019】
【実施例】以下、本発明による基板搬送装置の一実施例
につき図面を参照して説明する。本実施例は投影露光装
置のレチクルローダ系に本発明を適用したものである。
図1は本実施例の投影露光装置を示し、この図1におい
て、不図示の防振台上に設置された第1のベース1上に
第1のチャンバ(不図示)が設置され、この第1のチャ
ンバ内に投影露光装置の露光部が設置されている。ま
た、ベース1に隣接して第2のベース2が設置され、ベ
ース2上に第2のチャンバ(不図示)が設置され、この
第2のチャンバ内にレチクルライブラリー4、及びレチ
クルローダ系の一部が設置されている。そして、第1の
チャンバ内と第2のチャンバとは窓部3を介してレチク
ルの受渡しを行えるようになっている。この図1におい
ても、投影露光装置の投影光学系PLの光軸に平行にZ
軸を取り、Z軸に垂直な平面内上の直交座標系をX軸及
びY軸とする。
につき図面を参照して説明する。本実施例は投影露光装
置のレチクルローダ系に本発明を適用したものである。
図1は本実施例の投影露光装置を示し、この図1におい
て、不図示の防振台上に設置された第1のベース1上に
第1のチャンバ(不図示)が設置され、この第1のチャ
ンバ内に投影露光装置の露光部が設置されている。ま
た、ベース1に隣接して第2のベース2が設置され、ベ
ース2上に第2のチャンバ(不図示)が設置され、この
第2のチャンバ内にレチクルライブラリー4、及びレチ
クルローダ系の一部が設置されている。そして、第1の
チャンバ内と第2のチャンバとは窓部3を介してレチク
ルの受渡しを行えるようになっている。この図1におい
ても、投影露光装置の投影光学系PLの光軸に平行にZ
軸を取り、Z軸に垂直な平面内上の直交座標系をX軸及
びY軸とする。
【0020】先ず、第2のベース2上には、レチクルラ
イブラリー4、及び多軸ロボットハンド6が設置され、
多軸ロボットハンド6は、ベース2上に設置された支持
部11と、この支持部11上にZ方向に摺動自在に装着
されたZ軸スライダ10と、このZ軸スライダ10上に
回転自在に設置された回転台9と、この回転台9上に回
転軸から半径方向に伸縮自在に設置された伸縮部8と、
この伸縮部8の先端に固定されたコの字型のハンド部7
とより構成されている。ハンド部7上には3個の真空吸
着部が配置され、Z軸スライダ10でZ方向の位置を調
整し、伸縮部8を介してハンド部7をレチクルライブラ
リー4に差し込むことにより、レチクルライブラリー4
中の所望のレチクルケース5との間でレチクルRAの受
渡しが行われる。
イブラリー4、及び多軸ロボットハンド6が設置され、
多軸ロボットハンド6は、ベース2上に設置された支持
部11と、この支持部11上にZ方向に摺動自在に装着
されたZ軸スライダ10と、このZ軸スライダ10上に
回転自在に設置された回転台9と、この回転台9上に回
転軸から半径方向に伸縮自在に設置された伸縮部8と、
この伸縮部8の先端に固定されたコの字型のハンド部7
とより構成されている。ハンド部7上には3個の真空吸
着部が配置され、Z軸スライダ10でZ方向の位置を調
整し、伸縮部8を介してハンド部7をレチクルライブラ
リー4に差し込むことにより、レチクルライブラリー4
中の所望のレチクルケース5との間でレチクルRAの受
渡しが行われる。
【0021】また、そのハンド部7により窓部3を通し
て第1のチャンバと第2のチャンバとの間でレチクルの
受渡しを行う。更に、多軸ロボットハンド6上にはレチ
クルの位置決めの基準となる端面が形成された位置決め
板12Aが配置され、Z軸スライダ10を伸ばしてハン
ド部7上に吸着したレチクルRAを位置決め板12Aに
押し付けることにより、レチクルの大まかな位置決め
(プリアライメント)が行われる。
て第1のチャンバと第2のチャンバとの間でレチクルの
受渡しを行う。更に、多軸ロボットハンド6上にはレチ
クルの位置決めの基準となる端面が形成された位置決め
板12Aが配置され、Z軸スライダ10を伸ばしてハン
ド部7上に吸着したレチクルRAを位置決め板12Aに
押し付けることにより、レチクルの大まかな位置決め
(プリアライメント)が行われる。
【0022】次に、第1のベース1上には、投影露光装
置のウエハステージ26が設置され、ウエハステージ2
6上に露光対象のウエハWが載置されている。このウエ
ハWの各ショット領域に投影光学系PLを介してレチク
ルステージ25上のレチクルのパターンが露光される。
その投影露光装置と窓部3との間に、支持台15が設置
され、支持台15上にZ方向に摺動自在のZ軸スライダ
14を介して一時保管棚(キャッシュ・ストレージ)1
3が設置されている。一時保管棚13の上部が待機面1
6aとなっており、待機面16a上にレチクルを載置す
るための4本の基板支持ピン17が植設されている。ま
た、一時保管棚13の上方にもレチクルの位置決めを行
うための位置決め板12Bが設置されている。そして、
一時保管棚13と投影露光装置との間に回転アーム18
が取り付けられている。
置のウエハステージ26が設置され、ウエハステージ2
6上に露光対象のウエハWが載置されている。このウエ
ハWの各ショット領域に投影光学系PLを介してレチク
ルステージ25上のレチクルのパターンが露光される。
その投影露光装置と窓部3との間に、支持台15が設置
され、支持台15上にZ方向に摺動自在のZ軸スライダ
14を介して一時保管棚(キャッシュ・ストレージ)1
3が設置されている。一時保管棚13の上部が待機面1
6aとなっており、待機面16a上にレチクルを載置す
るための4本の基板支持ピン17が植設されている。ま
た、一時保管棚13の上方にもレチクルの位置決めを行
うための位置決め板12Bが設置されている。そして、
一時保管棚13と投影露光装置との間に回転アーム18
が取り付けられている。
【0023】回転アーム18は、不図示の天板に固定さ
れた支持台19と、この支持台19の下面にZ方向に摺
動自在に取り付けられたZ軸スライダ20と、このZ軸
スライダ20の先端に回転自在に取り付けられた回転部
21と、この回転部21の先端に固定されたアーム取り
付け板22と、このアーム取り付け板22の一端に取り
付けられた1対のアーム23A,23B及びその他端に
取り付けられた1対のアーム24A,24Bとより構成
されている。この場合、アーム23A,23Bはアーム
取り付け板22に開閉自在に取り付けられ、アーム24
A,24Bもアーム取り付け板22に開閉自在に取り付
けられている。図3(a)に示すように、アーム23A
及び24A上にそれぞれ真空吸着孔41A及び42Aが
形成され、アーム23B及び24B上にそれぞれ真空吸
着孔41B,41C及び42B,42Cが形成されてい
る。それらアーム23A,23B及び24A,24B上
にそれぞれレチクルが吸着保持されるようになってい
る。
れた支持台19と、この支持台19の下面にZ方向に摺
動自在に取り付けられたZ軸スライダ20と、このZ軸
スライダ20の先端に回転自在に取り付けられた回転部
21と、この回転部21の先端に固定されたアーム取り
付け板22と、このアーム取り付け板22の一端に取り
付けられた1対のアーム23A,23B及びその他端に
取り付けられた1対のアーム24A,24Bとより構成
されている。この場合、アーム23A,23Bはアーム
取り付け板22に開閉自在に取り付けられ、アーム24
A,24Bもアーム取り付け板22に開閉自在に取り付
けられている。図3(a)に示すように、アーム23A
及び24A上にそれぞれ真空吸着孔41A及び42Aが
形成され、アーム23B及び24B上にそれぞれ真空吸
着孔41B,41C及び42B,42Cが形成されてい
る。それらアーム23A,23B及び24A,24B上
にそれぞれレチクルが吸着保持されるようになってい
る。
【0024】図1に戻り、本実施例では、第1のベース
1上には発磁体44が設置され、第2のベース2上には
その発磁体44に対向するように磁気センサ45が設置
されている。その磁気センサ45により、第1のベース
1と第2のベース2との間の相対変位が検出される。こ
の相対変位が所定の許容値を超えたときに、多軸ロボッ
トハンド6から回転アーム18へのレチクルの移送を停
止するシーケンスを使用することもある。なお、磁気セ
ンサ45の代わりに、光学式等の変位検出器を使用して
もよい。
1上には発磁体44が設置され、第2のベース2上には
その発磁体44に対向するように磁気センサ45が設置
されている。その磁気センサ45により、第1のベース
1と第2のベース2との間の相対変位が検出される。こ
の相対変位が所定の許容値を超えたときに、多軸ロボッ
トハンド6から回転アーム18へのレチクルの移送を停
止するシーケンスを使用することもある。なお、磁気セ
ンサ45の代わりに、光学式等の変位検出器を使用して
もよい。
【0025】次に、一時保管棚13の構造について図2
を参照して説明する。図2(b)は一時保管棚13の側
面図であり、図2(a)は図2(b)のAA線に沿う断
面図であり、図2(a)及び(b)において、一時保管
棚13は、断面がコの字型のフレーム16内にN個(N
は例えば8)のレチクル保持部331 ,332 ,…,3
3N が設置され、且つフレーム16の背面にクリーンフ
ィルタ板31が固定され、クリーンフィルタ板31の背
面に配管継手32が接続されたものである。そのフレー
ム16の側板には多数の空気孔が形成され、不図示の空
調装置からの空気が、配管継手32、及びクリーンフィ
ルタ板31を介してフレーム16の側面からレチクル保
持部331 ,…,33N 側に吹き出されている。これに
より、保管中のレチクルの周囲環境のクリーン度を更に
上げることができる。
を参照して説明する。図2(b)は一時保管棚13の側
面図であり、図2(a)は図2(b)のAA線に沿う断
面図であり、図2(a)及び(b)において、一時保管
棚13は、断面がコの字型のフレーム16内にN個(N
は例えば8)のレチクル保持部331 ,332 ,…,3
3N が設置され、且つフレーム16の背面にクリーンフ
ィルタ板31が固定され、クリーンフィルタ板31の背
面に配管継手32が接続されたものである。そのフレー
ム16の側板には多数の空気孔が形成され、不図示の空
調装置からの空気が、配管継手32、及びクリーンフィ
ルタ板31を介してフレーム16の側面からレチクル保
持部331 ,…,33N 側に吹き出されている。これに
より、保管中のレチクルの周囲環境のクリーン度を更に
上げることができる。
【0026】また、図2(a)に示すように、レチクル
保持部331 はフレーム16に取り付けられた横軸37
1 の両端に、真空吸着孔36Aが設けられた保持部34
1 、及び真空吸着孔36B,36Cが設けられた保持部
351 を固定したものである。保持部341 と保持部3
51 との間隔は、その上に載置されるレチクルの幅より
狭く設定されている。且つ、レチクルにはレチクル上の
パターンに対する防塵用の薄膜(ペリクル)が所定のフ
レーム(ペリクルフレーム)を介して張設されているこ
とがあるため、保持部341 と保持部351 との間隔
は、その上に載置されるレチクルR1のペリクルフレー
ム431 より広く設定されている。更に、真空吸着孔3
6A,36B,36Cは横軸371 に取り付けれた配管
381 に接続されている。他のレチクル保持部332 ,
…,33N も同様に構成されている。
保持部331 はフレーム16に取り付けられた横軸37
1 の両端に、真空吸着孔36Aが設けられた保持部34
1 、及び真空吸着孔36B,36Cが設けられた保持部
351 を固定したものである。保持部341 と保持部3
51 との間隔は、その上に載置されるレチクルの幅より
狭く設定されている。且つ、レチクルにはレチクル上の
パターンに対する防塵用の薄膜(ペリクル)が所定のフ
レーム(ペリクルフレーム)を介して張設されているこ
とがあるため、保持部341 と保持部351 との間隔
は、その上に載置されるレチクルR1のペリクルフレー
ム431 より広く設定されている。更に、真空吸着孔3
6A,36B,36Cは横軸371 に取り付けれた配管
381 に接続されている。他のレチクル保持部332 ,
…,33N も同様に構成されている。
【0027】また、図2(b)に示すように、レチクル
保持部331 ,…,33N の各配管381 ,…,38N
が真空源39に接続され、真空源39のオン/オフによ
り、レチクル保持部331 ,…,33N 上でそれぞれレ
チクルR1〜RNの吸着保持及び吸着解除ができるよう
になっている。本例の各レチクルR1〜RNにはそれぞ
れペリクルフレーム431 〜43N が取り付けられてい
る。次に、本実施例のレチクルローダ系により、レチク
ルライブラリー4から一時保管棚13を介してレチクル
ステージ25へレチクルを載置する場合の動作の一例に
つき説明する。先ず多軸ロボットハンド6のハンド部7
でレチクルライブラリー4内の所定のレチクルケース5
内のレチクルRAを取り出した後、Z軸スライダ10を
上昇させて、位置決め板12AにてレチクルRAを端面
基準でプリアライメントする。その後、窓部3を介し
て、多軸ロボットハンド6により待機面16a上にレチ
クルRAを運ぶ。
保持部331 ,…,33N の各配管381 ,…,38N
が真空源39に接続され、真空源39のオン/オフによ
り、レチクル保持部331 ,…,33N 上でそれぞれレ
チクルR1〜RNの吸着保持及び吸着解除ができるよう
になっている。本例の各レチクルR1〜RNにはそれぞ
れペリクルフレーム431 〜43N が取り付けられてい
る。次に、本実施例のレチクルローダ系により、レチク
ルライブラリー4から一時保管棚13を介してレチクル
ステージ25へレチクルを載置する場合の動作の一例に
つき説明する。先ず多軸ロボットハンド6のハンド部7
でレチクルライブラリー4内の所定のレチクルケース5
内のレチクルRAを取り出した後、Z軸スライダ10を
上昇させて、位置決め板12AにてレチクルRAを端面
基準でプリアライメントする。その後、窓部3を介し
て、多軸ロボットハンド6により待機面16a上にレチ
クルRAを運ぶ。
【0028】その待機面16a上にはレチクル上のペリ
クルフレームに干渉しない位置に4本の基板支持ピン1
7があり、ハンド部7はそれら基板支持ピン17上にレ
チクルを載置する。基板支持ピン17の上端とレチクル
ステージ25の上面とはほぼ同じ高さに設定されてい
る。この時点で、回転アーム18の待機面16a側のア
ーム23A,23Bは基板支持ピン17上のレチクルの
下に位置しており、それらアームの先端を閉じた後、Z
軸スライダ20を上昇させて、レチクルを基板支持ピン
17から持ち上げる。その後、回転部21を駆動してア
ーム取り付け板22を180°回転し、再びZ軸スライ
ダ20を下降させる。
クルフレームに干渉しない位置に4本の基板支持ピン1
7があり、ハンド部7はそれら基板支持ピン17上にレ
チクルを載置する。基板支持ピン17の上端とレチクル
ステージ25の上面とはほぼ同じ高さに設定されてい
る。この時点で、回転アーム18の待機面16a側のア
ーム23A,23Bは基板支持ピン17上のレチクルの
下に位置しており、それらアームの先端を閉じた後、Z
軸スライダ20を上昇させて、レチクルを基板支持ピン
17から持ち上げる。その後、回転部21を駆動してア
ーム取り付け板22を180°回転し、再びZ軸スライ
ダ20を下降させる。
【0029】基板支持ピン17とレチクルステージ25
のレチクル保持面とは同じ高さに位置しているため、こ
の時点でレチクルはレチクルステージ25上に載置され
たことになる。そして、アーム23A,23Bの先端を
開き、不図示の高精度の位置計測装置(レチクルアライ
メント顕微鏡等)でレチクルステージ25上でのレチク
ルの位置を測定し、レチクルステージ25の位置を補正
した後、そのレチクルのパターンを投影光学系PLを介
してウエハW上に露光する。かりに、本実施例の投影露
光装置が、ステップ・アンド・スキャン方式であり、レ
チクルステージ25が露光中に水平面内でX方向または
Y方向に駆動されるような場合は、アーム23A,23
Bの先端を開いた後、Z軸スライダ20を上昇させてレ
チクルより高い位置にアーム23A,23Bを退避させ
ればよい。また、アーム取り付け板22をZ方向に少し
上昇させた後、90°回転させてレチクルステージ25
よりアーム23A,23Bを退避させてもよい。このと
き回転部21を中心として、アーム取り付け板22のア
ーム23A,23B側部分だけを90°回転させるよう
にしてもよい。
のレチクル保持面とは同じ高さに位置しているため、こ
の時点でレチクルはレチクルステージ25上に載置され
たことになる。そして、アーム23A,23Bの先端を
開き、不図示の高精度の位置計測装置(レチクルアライ
メント顕微鏡等)でレチクルステージ25上でのレチク
ルの位置を測定し、レチクルステージ25の位置を補正
した後、そのレチクルのパターンを投影光学系PLを介
してウエハW上に露光する。かりに、本実施例の投影露
光装置が、ステップ・アンド・スキャン方式であり、レ
チクルステージ25が露光中に水平面内でX方向または
Y方向に駆動されるような場合は、アーム23A,23
Bの先端を開いた後、Z軸スライダ20を上昇させてレ
チクルより高い位置にアーム23A,23Bを退避させ
ればよい。また、アーム取り付け板22をZ方向に少し
上昇させた後、90°回転させてレチクルステージ25
よりアーム23A,23Bを退避させてもよい。このと
き回転部21を中心として、アーム取り付け板22のア
ーム23A,23B側部分だけを90°回転させるよう
にしてもよい。
【0030】また、本実施例では、多軸ロボットハンド
6の支持台11、及び一時保管棚13用の支持台15は
それぞれ別のベース2及びベース1上に設置されてい
る。そのため、ベース1とベース2との間で相互に所定
の許容値を超える位置ずれが生じると、多軸ロボットハ
ンド6側で位置決め板12Aを用いてレチクルのプリア
ライメントを行っても、多軸ロボットハンド6から一時
保管棚13の待機面16a上にレチクルを載置する際に
位置ずれが生ずる恐れがある。そこで、このような場合
には、多軸ロボットハンド6から一時保管棚13上の基
板支持ピン17上にレチクルを載置した後、Z軸スライ
ダ14を上昇させ、そのレチクルの側面を位置決め板1
2B内の基準面に接触させて、端面基準によりそのレチ
クルのプリアライメントを行うようにするとよい。これ
により、レチクルステージ25でのプリアライメント工
程を省略することができる。
6の支持台11、及び一時保管棚13用の支持台15は
それぞれ別のベース2及びベース1上に設置されてい
る。そのため、ベース1とベース2との間で相互に所定
の許容値を超える位置ずれが生じると、多軸ロボットハ
ンド6側で位置決め板12Aを用いてレチクルのプリア
ライメントを行っても、多軸ロボットハンド6から一時
保管棚13の待機面16a上にレチクルを載置する際に
位置ずれが生ずる恐れがある。そこで、このような場合
には、多軸ロボットハンド6から一時保管棚13上の基
板支持ピン17上にレチクルを載置した後、Z軸スライ
ダ14を上昇させ、そのレチクルの側面を位置決め板1
2B内の基準面に接触させて、端面基準によりそのレチ
クルのプリアライメントを行うようにするとよい。これ
により、レチクルステージ25でのプリアライメント工
程を省略することができる。
【0031】また、既に説明したように、磁気センサ4
5により検出したベース1とベース2との位置ずれ量が
所定の許容値を超えているときには、多軸ロボットハン
ド6から一時保管棚13上へのレチクルの移送を停止す
るシーケンスを採用する場合、一時保管棚13上の位置
決め板12Bを除去することができる。
5により検出したベース1とベース2との位置ずれ量が
所定の許容値を超えているときには、多軸ロボットハン
ド6から一時保管棚13上へのレチクルの移送を停止す
るシーケンスを採用する場合、一時保管棚13上の位置
決め板12Bを除去することができる。
【0032】次に、レチクルステージ25上のレチクル
の露光が終了した後、そのレチクルの交換を行う際の動
作につき場合分けして説明する。 (A)一時保管棚13上の基板支持ピン17上のレチク
ルと交換する場合 これは、基板支持ピン17上に載置されているレチクル
とレチクルステージ25上のレチクルとを交換する場合
である。
の露光が終了した後、そのレチクルの交換を行う際の動
作につき場合分けして説明する。 (A)一時保管棚13上の基板支持ピン17上のレチク
ルと交換する場合 これは、基板支持ピン17上に載置されているレチクル
とレチクルステージ25上のレチクルとを交換する場合
である。
【0033】このとき、その基板支持ピン17上のレチ
クルは、レチクルライブラリー4から多軸ロボットハン
ド6により取り出され、位置決め板12Aを用いてプリ
アライメントが行われた後、多軸ロボットハンド6によ
り設置されたものである。基板支持ピン17上のレチク
ルは、レチクルステージ25上のレチクルの露光終了ま
で待機している。
クルは、レチクルライブラリー4から多軸ロボットハン
ド6により取り出され、位置決め板12Aを用いてプリ
アライメントが行われた後、多軸ロボットハンド6によ
り設置されたものである。基板支持ピン17上のレチク
ルは、レチクルステージ25上のレチクルの露光終了ま
で待機している。
【0034】次に、レチクルを用いた露光が終了する
と、対応するレチクルの下面側でそれぞれ回転アーム1
8のアーム23A,23B及び24A,24Bが閉じ
る。その後、レチクルステージ25によるレチクルの真
空吸着を解除した状態で、回転アーム18のZ軸スライ
ダ20をZ方向に僅かに上昇させて、アーム23A,2
3B、及びアーム24A,24Bで対応するレチクルを
Z方向に持ち上げる。
と、対応するレチクルの下面側でそれぞれ回転アーム1
8のアーム23A,23B及び24A,24Bが閉じ
る。その後、レチクルステージ25によるレチクルの真
空吸着を解除した状態で、回転アーム18のZ軸スライ
ダ20をZ方向に僅かに上昇させて、アーム23A,2
3B、及びアーム24A,24Bで対応するレチクルを
Z方向に持ち上げる。
【0035】そして、レチクルを真空吸着した状態で、
回転部21を180°回転させた後、真空吸着を解除し
て、Z軸スライダ20を下降させる。この動作により、
レチクルステージ25上のレチクルと基板支持ピン17
上のレチクルとの交換が終了する。その後、アーム23
A,23B及び24A,24Bが開き、必要に応じてZ
軸スライダ20によりそれらアームは所定の位置に退避
する。一方、待機面16a上にアンロードされたレチク
ルは、もう使用されない場合には、ロード時と逆の経路
を辿って多軸ロボットハンド6を介してレチクルライブ
ラリー4に戻される。しかしながら、例えばASIC用
のパターンを露光するような場合で、そのアンロードさ
れたレチクルが繰り返し使用されるようなときには、次
のようにそのレチクルは一時保管棚13内に収納され
る。
回転部21を180°回転させた後、真空吸着を解除し
て、Z軸スライダ20を下降させる。この動作により、
レチクルステージ25上のレチクルと基板支持ピン17
上のレチクルとの交換が終了する。その後、アーム23
A,23B及び24A,24Bが開き、必要に応じてZ
軸スライダ20によりそれらアームは所定の位置に退避
する。一方、待機面16a上にアンロードされたレチク
ルは、もう使用されない場合には、ロード時と逆の経路
を辿って多軸ロボットハンド6を介してレチクルライブ
ラリー4に戻される。しかしながら、例えばASIC用
のパターンを露光するような場合で、そのアンロードさ
れたレチクルが繰り返し使用されるようなときには、次
のようにそのレチクルは一時保管棚13内に収納され
る。
【0036】(B)一時保管棚13へのレチクルの収納
準備 図2(b)に示すように、一時保管棚13ではスペース
の許す限り、N枚(Nは2以上の整数)のレチクルを収
納できるが、ここでは仮にNを8とし(収納枚数が最大
で8枚)、収納されるレチクルをレチクルR1〜RNと
する。この場合、図1に戻り、レチクルステージ25上
で第1のレチクル(これを「R1」とする)が露光さ
れ、その間に待機面16a上の基板支持ピン17上に次
に露光される第2のレチクル(これを「R2」とする)
が待機しているものとする。
準備 図2(b)に示すように、一時保管棚13ではスペース
の許す限り、N枚(Nは2以上の整数)のレチクルを収
納できるが、ここでは仮にNを8とし(収納枚数が最大
で8枚)、収納されるレチクルをレチクルR1〜RNと
する。この場合、図1に戻り、レチクルステージ25上
で第1のレチクル(これを「R1」とする)が露光さ
れ、その間に待機面16a上の基板支持ピン17上に次
に露光される第2のレチクル(これを「R2」とする)
が待機しているものとする。
【0037】この場合、レチクルR1の露光が終了する
と、回転アーム18のアーム23A,23B及び24
A,24Bが閉じて、それぞれレチクルR1及びR2の
下面に入る。その後、Z軸スライダ20を上昇させてレ
チクルR1及びR2を持ち上げた状態で、回転部21を
介してアーム取り付け板22を90°回転させる。その
後、一時保管棚13内の1番目のレチクル保持部331
(図2(b)参照)のレチクル載置面がレチクルステー
ジ25と同じ高さになるように、Z軸スライダ14を上
昇させる。その後、更に回転部21を介してアーム取り
付け板22を90°回転させてから、Z軸スライダ20
を下降させる。これにより、レチクルR2はレチクルス
テージ25上に載置され、レチクルR1は1番目のレチ
クル保持部331 の基板吸着面上に載置される。その
後、回転アーム18のアーム23A,23B及び24
A,24Bを開く。
と、回転アーム18のアーム23A,23B及び24
A,24Bが閉じて、それぞれレチクルR1及びR2の
下面に入る。その後、Z軸スライダ20を上昇させてレ
チクルR1及びR2を持ち上げた状態で、回転部21を
介してアーム取り付け板22を90°回転させる。その
後、一時保管棚13内の1番目のレチクル保持部331
(図2(b)参照)のレチクル載置面がレチクルステー
ジ25と同じ高さになるように、Z軸スライダ14を上
昇させる。その後、更に回転部21を介してアーム取り
付け板22を90°回転させてから、Z軸スライダ20
を下降させる。これにより、レチクルR2はレチクルス
テージ25上に載置され、レチクルR1は1番目のレチ
クル保持部331 の基板吸着面上に載置される。その
後、回転アーム18のアーム23A,23B及び24
A,24Bを開く。
【0038】そして、レチクルR2の露光中に、開かれ
たアーム23A,23Bの間で一時保管棚13を下降さ
せて、基板支持ピン17の高さをレチクルステージ25
と同じ高さに戻す。その後、多軸ロボットハンド6がレ
チクルライブラリー4から次に露光される第3のレチク
ルを取り出し、この第3のレチクルを位置決め板12A
によりプリアライメントした後、待機面16a上の基板
支持ピン17上に載置する。このようにして、図2
(b)に示すように、一時保管棚13の一連のレチクル
保持部331 〜33N-1 にそれぞれレチクルR1〜RN-
1(今の場合はレチクルR1〜R7)が収納される。この
場合、最後のレチクルRN(今の場合はレチクルR8)
は、図1のレチクルステージ25上で露光されている。
たアーム23A,23Bの間で一時保管棚13を下降さ
せて、基板支持ピン17の高さをレチクルステージ25
と同じ高さに戻す。その後、多軸ロボットハンド6がレ
チクルライブラリー4から次に露光される第3のレチク
ルを取り出し、この第3のレチクルを位置決め板12A
によりプリアライメントした後、待機面16a上の基板
支持ピン17上に載置する。このようにして、図2
(b)に示すように、一時保管棚13の一連のレチクル
保持部331 〜33N-1 にそれぞれレチクルR1〜RN-
1(今の場合はレチクルR1〜R7)が収納される。この
場合、最後のレチクルRN(今の場合はレチクルR8)
は、図1のレチクルステージ25上で露光されている。
【0039】(C)一時保管棚13を介したレチクルの
交換 その後、図2(b)の一時保管棚13内、及びレチクル
ステージ25上のレチクルR1〜RNを用いて2巡目の
露光を行う際には、レチクルは次のように一時保管棚1
3とレチクルステージ25との間で交換される。この場
合、レチクルステージ25上で露光されているレチクル
をレチクルRBとする。即ち、レチクルRBは、レチク
ルR1〜レチクルRNの内の或るレチクルである。
交換 その後、図2(b)の一時保管棚13内、及びレチクル
ステージ25上のレチクルR1〜RNを用いて2巡目の
露光を行う際には、レチクルは次のように一時保管棚1
3とレチクルステージ25との間で交換される。この場
合、レチクルステージ25上で露光されているレチクル
をレチクルRBとする。即ち、レチクルRBは、レチク
ルR1〜レチクルRNの内の或るレチクルである。
【0040】図3(b)はレチクルステージ25上に露
光中のレチクルRBが載置され、且つ一時保管棚13内
のレチクル保持部331 内に次に露光されるレチクルR
1が収納されている状態の側面図、図3(a)は図3
(b)のAA線に沿う断面図である。この状態でレチク
ルR1はレチクルRBの露光終了まで待機している。こ
の際に、回転アーム18の一方のアーム23A,23B
はレチクルR1の側面下方に開いた状態で待機し、他方
のアーム24A,24BはレチクルRBの側面下方に開
いた状態で待機している。
光中のレチクルRBが載置され、且つ一時保管棚13内
のレチクル保持部331 内に次に露光されるレチクルR
1が収納されている状態の側面図、図3(a)は図3
(b)のAA線に沿う断面図である。この状態でレチク
ルR1はレチクルRBの露光終了まで待機している。こ
の際に、回転アーム18の一方のアーム23A,23B
はレチクルR1の側面下方に開いた状態で待機し、他方
のアーム24A,24BはレチクルRBの側面下方に開
いた状態で待機している。
【0041】次に、レチクルRBを用いた露光が終了す
ると、図4(a)及び(b)に示すように、レチクルR
Bの下面側でアーム24A,24Bが閉じ、レチクルR
1の下面側でアーム23A,23Bが閉じる。但し、レ
チクルRB及びR1の下面(パターン形成面)にはそれ
ぞれペリクルフレーム43B 及び431 が取り付けられ
ているため、各アームはそれらペリクルフレームには触
れない位置まで閉じている。その後、レチクルRBに対
するレチクルステージ25による真空吸着、及びレチク
ルR1に対するレチクル保持部331 による真空吸着を
解除した状態で、回転アーム18のZ軸スライダ20
(図1参照)をZ方向に僅かに上昇させて、アーム23
A,23BによりレチクルR1をZ方向に持ち上げるの
と並行して、アーム24A,24BでレチクルRBをZ
方向に持ち上げる。
ると、図4(a)及び(b)に示すように、レチクルR
Bの下面側でアーム24A,24Bが閉じ、レチクルR
1の下面側でアーム23A,23Bが閉じる。但し、レ
チクルRB及びR1の下面(パターン形成面)にはそれ
ぞれペリクルフレーム43B 及び431 が取り付けられ
ているため、各アームはそれらペリクルフレームには触
れない位置まで閉じている。その後、レチクルRBに対
するレチクルステージ25による真空吸着、及びレチク
ルR1に対するレチクル保持部331 による真空吸着を
解除した状態で、回転アーム18のZ軸スライダ20
(図1参照)をZ方向に僅かに上昇させて、アーム23
A,23BによりレチクルR1をZ方向に持ち上げるの
と並行して、アーム24A,24BでレチクルRBをZ
方向に持ち上げる。
【0042】そして、図5(a)及び(b)に示すよう
に、回転アーム18のアーム取り付け板22に取り付け
られたアーム23A,23B上にレチクルR1を吸着保
持し、アーム24A,24B上にレチクルRBを吸着保
持した状態で、回転部21を180°回転させた後、真
空吸着を解除して、Z軸スライダ20を下降させる。こ
れにより、それまでの露光で使用されたレチクルRBが
一時保管棚13内のレチクル保持部331 内に収納さ
れ、これからの露光で使用されるレチクルR1がレチク
ルステージ25上に載置される。
に、回転アーム18のアーム取り付け板22に取り付け
られたアーム23A,23B上にレチクルR1を吸着保
持し、アーム24A,24B上にレチクルRBを吸着保
持した状態で、回転部21を180°回転させた後、真
空吸着を解除して、Z軸スライダ20を下降させる。こ
れにより、それまでの露光で使用されたレチクルRBが
一時保管棚13内のレチクル保持部331 内に収納さ
れ、これからの露光で使用されるレチクルR1がレチク
ルステージ25上に載置される。
【0043】このように回転アーム18を用いてレチク
ルの交換を行う場合には、レチクルの移動経路はほぼ最
短距離に近いため、レチクルステージ25と一時保管棚
13内の任意のレチクル保持部331 〜33N との間で
効率的にレチクルを交換できる。但し、図5の例では一
時保管棚13内の所定のレチクル保持部でレチクルRB
とレチクルR1とが交換されてしまう。それに対して、
一時保管棚13内の各レチクル保持部331 〜33N に
対してそれぞれ1:1で決まったレチクルを収納するに
は、図5(a)の状態から回転アーム18の回転部21
を90°回転させた後、図5(b)においてZ軸スライ
ダ14を上下させて一時保管棚13の高さをレチクルR
Bが収納される位置に設定する。その後、回転部21を
更に90°回転させてレチクルを交換した後、アーム2
3A,23B及び24A,24Bを開けばよい。
ルの交換を行う場合には、レチクルの移動経路はほぼ最
短距離に近いため、レチクルステージ25と一時保管棚
13内の任意のレチクル保持部331 〜33N との間で
効率的にレチクルを交換できる。但し、図5の例では一
時保管棚13内の所定のレチクル保持部でレチクルRB
とレチクルR1とが交換されてしまう。それに対して、
一時保管棚13内の各レチクル保持部331 〜33N に
対してそれぞれ1:1で決まったレチクルを収納するに
は、図5(a)の状態から回転アーム18の回転部21
を90°回転させた後、図5(b)においてZ軸スライ
ダ14を上下させて一時保管棚13の高さをレチクルR
Bが収納される位置に設定する。その後、回転部21を
更に90°回転させてレチクルを交換した後、アーム2
3A,23B及び24A,24Bを開けばよい。
【0044】なお、本発明は上述実施例に限定されず、
本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る
ことは勿論である。
本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る
ことは勿論である。
【0045】
【発明の効果】本発明の第1の基板搬送装置によれば、
基板ステージと一時保管部との間での基板(レチクル
等)の受渡しが回転アーム部の回転により行われ、且つ
その一時保管部中の基板の位置は一時保管部の上下動に
より調整される。従って、基板の待機位置がほぼ一時保
管部と同じ位置になり、基板の搬送経路が短縮されてい
るため、基板の交換を高速に行うことができる利点があ
る。
基板ステージと一時保管部との間での基板(レチクル
等)の受渡しが回転アーム部の回転により行われ、且つ
その一時保管部中の基板の位置は一時保管部の上下動に
より調整される。従って、基板の待機位置がほぼ一時保
管部と同じ位置になり、基板の搬送経路が短縮されてい
るため、基板の交換を高速に行うことができる利点があ
る。
【0046】また、回転アーム部に基板に沿って開閉自
在の2対の基板吸着部を設けた場合には、例えば基板が
基板ステージ上で使用されている場合には、その一方の
基板吸着部を開いて回転アーム部を退避させ、その基板
ステージ上の基板を交換するときには、その基板吸着部
を閉じるだけでよいため、基板交換の準備時間及び基板
の交換時間が大幅に短縮される。
在の2対の基板吸着部を設けた場合には、例えば基板が
基板ステージ上で使用されている場合には、その一方の
基板吸着部を開いて回転アーム部を退避させ、その基板
ステージ上の基板を交換するときには、その基板吸着部
を閉じるだけでよいため、基板交換の準備時間及び基板
の交換時間が大幅に短縮される。
【0047】次に、本発明の第2の基板搬送装置におい
ては、基板保管部から取り出された基板を一時保管部に
収め、この一時保管部と基板ステージとの間で基板の交
換が行われる。この際に、基板ステージと一時保管部と
の間での基板の受渡しが回転アーム部の回転により行わ
れ、且つその一時保管部中の基板の位置は一時保管部の
上下動により調整される。従って、基板の搬送経路が短
縮され、基板の交換を高速に行うことができる利点があ
る。
ては、基板保管部から取り出された基板を一時保管部に
収め、この一時保管部と基板ステージとの間で基板の交
換が行われる。この際に、基板ステージと一時保管部と
の間での基板の受渡しが回転アーム部の回転により行わ
れ、且つその一時保管部中の基板の位置は一時保管部の
上下動により調整される。従って、基板の搬送経路が短
縮され、基板の交換を高速に行うことができる利点があ
る。
【0048】また、基板保管部と基板搬送部とを第1の
ベース上に載置し、一時保管部と基板ステージとをその
第1のベースとは異なる第2のベース上に載置すると共
に、その一時保管部にその基板搬送部から基板を渡す際
にこの基板の位置決めを行う基板位置決め部を設けた場
合には、基板搬送部の振動が基板ステージ部に伝わりに
くくなり、基板の位置決め処理等が高精度に行われる。
更に、その基板位置決め部により、基板ステージに載置
する前に基板の大まかな位置決めを行うことができる。
ベース上に載置し、一時保管部と基板ステージとをその
第1のベースとは異なる第2のベース上に載置すると共
に、その一時保管部にその基板搬送部から基板を渡す際
にこの基板の位置決めを行う基板位置決め部を設けた場
合には、基板搬送部の振動が基板ステージ部に伝わりに
くくなり、基板の位置決め処理等が高精度に行われる。
更に、その基板位置決め部により、基板ステージに載置
する前に基板の大まかな位置決めを行うことができる。
【0049】また、それら第1のベースと第2のベース
とのずれ量を検出する位置ずれ量検出部を設け、この位
置ずれ量検出部により検出された位置ずれ量が所定の許
容値を超えたときにその基板搬送部からその一時保管部
への基板の移送を停止する場合には、大まかな位置決め
(プリアライメント)を行った基板が一時保管部側に渡
される際には、位置ずれ量が少ない状態で渡される。従
って、一時保管部側ではプリアライメント工程を省くこ
とができ、基板の交換速度が更に改善される。
とのずれ量を検出する位置ずれ量検出部を設け、この位
置ずれ量検出部により検出された位置ずれ量が所定の許
容値を超えたときにその基板搬送部からその一時保管部
への基板の移送を停止する場合には、大まかな位置決め
(プリアライメント)を行った基板が一時保管部側に渡
される際には、位置ずれ量が少ない状態で渡される。従
って、一時保管部側ではプリアライメント工程を省くこ
とができ、基板の交換速度が更に改善される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基板搬送装置の一実施例が適用された
投影露光装置の要部を示す斜視図である。
投影露光装置の要部を示す斜視図である。
【図2】(a)は図2(b)のAA線に沿う断面図、
(b)は図1中の一時保管棚13を示す側面図である。
(b)は図1中の一時保管棚13を示す側面図である。
【図3】(a)は図3(b)のAA線に沿う断面図、
(b)は図1中で回転アーム18のアームを開いた状態
を示す要部の側面図である。
(b)は図1中で回転アーム18のアームを開いた状態
を示す要部の側面図である。
【図4】(a)は図4(b)のAA線に沿う断面図、
(b)は図1中で回転アーム18のアームを閉じた状態
を示す要部の側面図である。
(b)は図1中で回転アーム18のアームを閉じた状態
を示す要部の側面図である。
【図5】(a)は図5(b)のAA線に沿う断面図、
(b)は図1中で回転アーム18のアームを閉じて上昇
させた状態を示す要部の側面図である。
(b)は図1中で回転アーム18のアームを閉じて上昇
させた状態を示す要部の側面図である。
【図6】本出願人の先願に係る基板搬送装置を示す要部
の斜視図である。
の斜視図である。
1,2 ベース 3 窓部 4 レチクルライブラリー 5 レチクルケース 6 多軸ロボットハンド 12A,12B 位置決め板 13 一時保管棚 14 Z軸スライダ 17 基板支持ピン 18 回転アーム 20 Z軸スライダ 21 回転部 22 アーム取り付け板 23A,23B、24A,24B アーム 25 レチクルステージ R1〜RN レチクル PL 投影光学系 W ウエハ 331 〜33N レチクル保持部 39 真空源
Claims (5)
- 【請求項1】 マスク等の処理対象とする基板を、該基
板が処理される基板ステージ上に設置すると共に、処理
後の基板を前記基板ステージから搬出する装置におい
て、 基板を一時的に保管すると共に、前記基板ステージの表
面に交差する方向に移動自在に支持された一時保管部
と;基板を吸着保持する基板保持部と、該基板保持部を
回転させると共に前記基板ステージの表面に交差する方
向に移動させる回転上下部とを有する回転アーム部と;
を有し、 前記回転アーム部を介して前記一時保管部と前記基板ス
テージとの間で基板の受渡しを行うことを特徴とする基
板搬送装置。 - 【請求項2】 前記回転アーム部に基板を保持する基板
保持部を2個設け、該2個の基板保持部がそれぞれ保持
対象の基板に沿って開閉する1対の基板吸着部を有する
ことを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。 - 【請求項3】 基板保管部に収納された基板を、該基板
が処理される基板ステージ上に設置すると共に、処理後
の基板を前記基板ステージから前記基板保管部に戻す装
置において、 前記基板保管部と基板の受渡しを行う基板搬送部と;前
記基板搬送部と前記基板ステージとの間で基板を一時的
に保管すると共に、前記基板ステージの表面に交差する
方向に移動自在に支持された一時保管部と;基板を吸着
保持する基板保持部と、該基板保持部を回転させると共
に前記基板ステージの表面に交差する方向に移動させる
回転上下部とを有する回転アーム部と;を有し、 前記回転アーム部を介して前記一時保管部と前記基板ス
テージとの間で基板の受渡しを行うことを特徴とする基
板搬送装置。 - 【請求項4】 前記基板保管部と前記基板搬送部とを第
1のベース上に載置し、前記一時保管部と前記基板ステ
ージとを前記第1のベースとは異なる第2のベース上に
載置すると共に、 前記一時保管部に前記基板搬送部から基板を渡す際に該
基板の位置決めを行う基板位置決め部を設けたことを特
徴とする請求項3記載の基板搬送装置。 - 【請求項5】 前記第1のベースと前記第2のベースと
のずれ量を検出する振動検出部を設け、 該振動検出部により検出された位置ずれ量が所定の許容
値を超えたときに前記基板搬送部から前記一時保管部へ
の基板の移送を停止することを特徴とする請求項4記載
の基板搬送装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10951594A JP3493725B2 (ja) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | 露光装置 |
US09/120,733 US6473157B2 (en) | 1992-02-07 | 1998-07-23 | Method of manufacturing exposure apparatus and method for exposing a pattern on a mask onto a substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10951594A JP3493725B2 (ja) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07321179A true JPH07321179A (ja) | 1995-12-08 |
JP3493725B2 JP3493725B2 (ja) | 2004-02-03 |
Family
ID=14512226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10951594A Expired - Fee Related JP3493725B2 (ja) | 1992-02-07 | 1994-05-24 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3493725B2 (ja) |
Cited By (10)
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JP2020167185A (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-08 | 株式会社東京精密 | ワーク搬送装置 |
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-
1994
- 1994-05-24 JP JP10951594A patent/JP3493725B2/ja not_active Expired - Fee Related
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