JP2010040804A - 試料搬送機構 - Google Patents

Abstract

【課題】
本発明は、特にフォトマスクに代表される試料のダメージのリスクを最小化することを目的とする試料搬送機構の提供を目的とする。
【解決手段】
上記目的を達成するための一態様として、試料を吊り下げるように保持する試料保持機構を備えた試料搬送機構について、試料を吊り下げるためのフランジ等の突出部より、試料のパターン面に近い部分（突出部が設けられた吊り下げ部を保持するアーム部、或いはアーム部及び突出部よりパターン表面側に位置する吊り下げ部）を離間するように構成した。これにより、パターン面と搬送機構を構成する部材との間の接触リスクを抑制することが可能となる。
【選択図】図４

Description

本発明は、荷電粒子線装置等に用いられる試料搬送機構に係り、特にフォトマスクを搬送するのに好適な試料搬送機構に関する。

走査電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）に代表される荷電粒子線装置の中でも半導体デバイスの測定や検査に用いられる装置では、複数の試料を保持するＳＭＩＦポッド等の試料カセットから搬出された試料を、ミニエンと呼ばれる空気清浄空間を形成するための装置を経由して、ロードロック室まで搬送するための搬送用ロボットが用いられていることが多い。ロードロック室は、大気雰囲気から、真空保持されているＳＥＭの試料室に、試料を導入するために、予備排気を行うためのものである。

搬送ロボットは、試料の下方から試料を支持するタイプのもの（特許文献１）、静電吸着等により、試料を吸着した状態で試料を搬送するタイプのもの（特許文献１）、及び試料の側方から試料を把持するような機構からなるもの（特許文献２）がある。

特開平１０−２３３４３４号公報 特開２００５−１８３５４９号公報

特許文献１に説明されている静電吸着による試料保持機構や、特許文献２に説明されている試料を把持する機構では、試料は、押圧や吸引による力学的な作用を受けるため、試料の変形や撓みの問題が懸念される。特に特許文献２に説明されている試料の側方から、試料を把持する機構の場合、当該機構の試料との接触部分が、試料表面に傷をつけてしまう可能性が懸念される。特に、半導体デバイスの中でもフォトマスクは、石英基板上に、回路設計パターンに相当するクロム膜からなる遮光パターンが形成されており、このようなパターンが試料を把持する機構と接すると、遮光パターンにダメージが及ぶ可能性がある。

特に、何等かの外的影響等により、フォトマスクが傾斜した状態で配置されている（異常着座）状態において、試料を把持しようとすると、試料表面と把持機構と間の接触リスクが増大する。また、フォトマスク側部の内、上部或いは下部（角部）のみに、把持機構が接することにより、フォトマスクに対する単位面積当たりの押圧力が増大し、試料破損のリスクが増大する。

以下に、特にフォトマスクに代表される試料のダメージのリスクを最小化することを目的とする試料搬送機構、及びそれを用いた荷電粒子線装置について説明する。

上記目的を達成するための一態様として、試料を吊り下げるように保持する試料保持機構を備えた試料搬送機構について、試料を吊り下げるためのフランジ等の突出部より、試料のパターン面に近い部分（突出部が設けられた吊り下げ部を保持するアーム部、或いはアーム部及び突出部よりパターン表面側に位置する吊り下げ部）を離間するように構成した。吊り下げ構造とすることで、試料に力学的な負荷を与えることなく、また、異常着座状態であったとしても、試料搬送機構のパターン面に近い部分は、突出部に対し、試料から離間して形成されているため、パターン面と搬送機構を構成する部材との間の接触リスクを抑制することが可能となる。

以上の構成によれば、試料が傾斜して配置されているような場合であっても、試料搬送の際の試料へのダメージのリスクを最小限とすることが可能な試料搬送機構の提供が可能となる。

以下に、半導体測定，検査装置に用いられる試料搬送機構の概要について説明する。なお、以下の説明では、半導体測定装置の１つである測長用走査電子顕微鏡（Critical Dimension−ＳＥＭ：ＣＤ−ＳＥＭ）を例にとって説明するが、これに限られることなく、例えば欠陥の座標情報に基づいて、欠陥をレビューする欠陥レビュー用のＳＥＭ（Defect Review−ＳＥＭ：ＤＲ−ＳＥＭ）等への適用も可能である。なお、以下の説明では、ＣＤ−ＳＥＭの中でも、半導体用光学式露光装置に用いられるフォトマスクを測定対象とするＣＤ−ＳＥＭを例にとって説明する。

図１乃至図３は、ＣＤ−ＳＥＭの概要を説明する図である。ＣＤ−ＳＥＭは大きく分けて、ミニエンバイラメント方式試料搬送機構１，ロードロック室８，試料室９，電子顕微鏡鏡体５０、及びロードポート４から構成されている。なお、図１の例では、２つあるロードポートの内、１つを、フォトマスク１７を複数保管可能なストッカー６としており、当該ストッカー６から、必要に応じてフォトマスク１７を取り出すことが可能な構成を説明している。マスク搬送用ロボット２は、ストッカー６や、ロードポート４上に配置されたＳＭＩＦポッド５から、フォトマスク１７を取り出し、ロードロック室８に搬送する。ロードロック室８には、マスクホルダ５２が設けられ、マスク搬送用ロボット２は、フォトマスク１７を当該マスクホルダ５２上に載置する。

マスクホルダ５２は図示しない移送機構によって、試料室９内に搬送され、試料ステージ５１上に載置される。なお、本例ではマスクホルダ５２を用いて、フォトマスク１７の試料室９とロードロック室８との間の移送を行う例について説明するが、これに限られることはなく、例えばロボットハンド等の別の搬送機構を用いて、ホルダレスでフォトマスク１７を搬送するようにしても良い。

ＣＤ−ＳＥＭの装置稼動時においては、試料室９は常時、高真空が維持された状態にあり、フォトマスク１７を試料室９内に導入する際には、ロードロック室８内を予備排気し、当該ロードロック室８内の真空雰囲気が、試料室９と同等となったときに、試料室９とロードロック室８間に設けられたゲートバルブを開放し、フォトマスク１７を試料室９に導入する。なお、図１は、ＣＤ−ＳＥＭの上視図、図２は、ＣＤ−ＳＥＭをストッカー６及びロードポート４側から見た図、図３は、ＣＤ−ＳＥＭの側面図である。

マスク搬送用ロボット２は、マスククランプ機構ユニット３を備えている。次にマスククランプ機構ユニット３の詳細を、図４乃至図７を用いて説明する。図４は、マスククランプ機構ユニット３の動作を説明するための図であり、マスククランプ機構３の上視図である。マスククランプ機構３には、一対のアーム１２，１３と、センターアーム１１を夫々の矢印方向に駆動する駆動機構１０が設けられている。１対のアーム１２，１３の下部には、フォトマスク１７を吊り下げるように支持する吊り下げ部１５が設けられている。

吊り下げ部１５は、図７に図示するように、最下部にフランジ７０１を備え、当該フランジ７０１と、フォトマスク１７の下部（パターンのない面）が対面するように、フォトマスク１７は吊り下げ部１５に支持される。図７は、吊り下げ部１５近傍の拡大側面図である。図７に図示するように、吊り下げ部１５は、吊り下げ部１５の他部分に対し、フォトマスク１７方向に、相対的に突出しているフランジ７０１を備えている。更に、吊り下げ部１５のフランジ７０１より上側の部分では、フォトマスク１７の裏面側（下部）より、フォトマスク１７の表面（パターン面）側に位置する部分が、フォトマスク１７より離間するように形成されている。つまり、吊り下げ部１５の下側に対し、相対的にその上側が細くなるように形成されている。

また、アーム１２，１３、及びセンターアーム１１は、吊り下げ部１５より、相対的に更にフォトマスク１７から離間するように、吊り下げ部１５を支持している。

以上のように、吊り下げ部１５の上側、及びアームを、当該吊り下げ部１５の下側に対し、相対的に、フォトマスク１７から離間させるように構成することによって、フォトマスク１７が何等かの事情で、マスクホルダ５２上に傾斜して配置されているような場合であっても、吊り下げ部１５等が、フォトマスク１７に接触した場合におけるパターン面へのダメージを抑制することが可能となる。試料が傾斜して配置されている場合、フォトマスク１７の側部に当接される吊下げ部１５に、パターン面の縁部が衝突する可能性があるが、上述のような構成によれば、試料傾斜時の逃げ空間を確保することができるので、パターン面にダメージを与えるリスクを最小化することが可能となる。

更に、フォトマスク１７は、長方形、或いは正方形の矩形状の板状体であり、当該フォトマスク１７を安定に支持するためには、長方形或いは正方形の全ての辺（４辺）を支持することが望ましい。図４等に図示する例では、５つの吊り下げ部１５を用いて４辺を支持している。また、５つの吊り下げ部１５は、センターアーム１１、及びアーム１２，１３に支持されており、駆動機構１０に内蔵された駆動装置によって、それぞれの矢印方向に直線的に動作する。このような構成によれば、試料傾斜時等におけるフランジ７０１の衝突による試料ダメージのリスク、或いはフォトマスク１７裏面とフランジ７０１間の摩擦によって生じる試料ダメージのリスクを最小化することが可能となる。その理由は、以下の通りである。

まず、アーム１２，１３は、２つの吊り下げ部１５を、その下部に備えている。駆動機構によるアーム１２，１３の直線的移動（フォトマスク１７が正常に配置されている場合におけるパターン面に平行な方向への移動）によって、アーム１２，１３のそれぞれに設けられた２つの吊り下げ部１５が、フォトマスク１７の異なる辺を支持するように、２つの吊り下げ部１５が、フォトマスク１７に当接される。当該アーム１２，１３の動作に併せて、センターアーム１１に設けられた吊り下げ部１５が、フォトマスク１７に当接されるように、当該センターアーム１１をフォトマスク１７に向かって移動させる。この移動により、合計５個のフランジ７０１が、フォトマスク１７の下方に位置することになる。

異なる２辺を支持する吊り下げ部１５を、１つのアーム（アーム１２、或いは１３）を用いて移動させる場合、第１にアーム１２の長手方向に沿って当該アーム１２を移動させる構成、第２にフォトマスク１７のパターン面に平行な方向であって、アーム１２の長手方向に垂直な方向に、当該アーム１２を移動させる構成、或いは、第３に図４に図示するように、フォトマスク１７を構成する辺に対し、斜めの方向からアーム１２を移動させる構成が考えられる。

上述の３つの構成例の内、第３の構成によれば、フランジ７０１がフォトマスク１７の側部、或いは裏面に接した後の当該フランジ７０１の移動距離を最小化することが可能となる。第１の構成例や第２の構成例の場合、アーム１２に設けられた２つのフランジ７０１の内、一方がフォトマスク１７に接した後、その接した状態で移動する距離が長くなるという問題がある。即ち、アーム１２によって支持されるフランジ７０１のいずれか一方が、その対向するフォトマスク１７の辺に沿って移動することになるが、その際に、フォトマスク１７が斜めに配置されているような場合、フランジ７０１とフォトマスク１７が接した状態で、フランジ７０１が移動したり、フランジ７０１がフォトマスク１７の側部を押圧し、その状態がその後のアーム１２の移動時間に亘って継続する可能性がある。

一方、上記第３の構成によれば、アーム１２を一方向に駆動することで、２つの辺に対する２つの吊り下げ部１５の位置づけが可能となり、更に、２つの吊り下げ部１５が有する２つのフランジ７０１がフォトマスク１７に接触した場合においても、その接触後の移動距離を小さくすることができる。特にアーム１２の移動方向が、フォトマスク１７の２つの辺に対し、４５度の方向に移動するように、アーム１２，１３の移動方向を定めれば、フランジ７０１とフォトマスク１７の接触後の移動距離を最小化できる。なお、本例では、アーム１２，１３に、それぞれ２つの吊り下げ部１５（第２の吊り下げ部と第３の吊り下げ部、及び第４の吊り下げ部と第５の吊り下げ部）を備え、センターアーム１１に１つの吊り下げ部（第１の吊り下げ部）を備えた例を説明するが、これに限られることはなく、６つ以上の吊り下げ部を設置することも可能である。

以上のように、１つのアームの動作で、２辺を支持するような動作を行うよう、駆動装置を構成することによって、簡易な構成で、複数の辺を支持することが可能となる。上記第３の構成によれば、３つの直線的な移動を行う駆動装置によって、矩形状のフォトマスクの４辺全てを、吊り下げ部１５にて支持することが可能となり、万が一の接触時にも、試料へダメージを与えるリスクを抑制することが可能となる。

図５は、マスククランプ機構ユニット３によって、フォトマスク１７を保持した状態の上視図、図６は、図５のＡ−Ａ′における断面図である。

図８は、吊り下げ部（２）１６より、アーム２３が、フォトマスク１７側に突出した構造を有するマスククランプ機構を説明する図である。図８のマスククランプ機構は、吊り下げ部（２）１６の側部が直線的に形成され、且つアーム２３が、フォトマスク１７側に突出するように形成されている。図８，図９に図示するようなマスククランプ機構では、フォトマスク１７が傾斜して配置されたような場合、試料保持時に、フォトマスク１７の表面端部（パターン面の縁部）が、アーム２３の下面や、吊り下げ部（２）１６の側面に接触する可能性がある。具体的には図１０に示すように、試料の傾斜配置によって、フォトマスク１７の縁部の一部が、他の部分に対し相対的に浮き上がって配置されるような場合、フォトマスク１７のパターン面が他部材と接触する可能性がある。図４乃至図７に例示する構成によれば、図１０に示すようなフォトマスク１７の浮き上がり状態においても、パターン面と他部材間の接触リスクを抑制することが可能となる。

また、図１１乃至図１４は、マスククランプ機構の他の実施例であり、図１４に図示するように、吊り下げ部（２）１６の側部は、フォトマスク１７の側部に沿って、直線的に形成されているものの、アーム２３が、フォトマスク１７から見て、吊り下げ部（２）１６に対し、相対的に離間している。吊り下げ部（２）１６は、アーム１４に固定されている。このような構成によっても、フォトマスク１７のパターン面と他部材との間の接触リスクを抑制することが可能となる。

図７のような構成とするか、図１４のような構成とするかは、マスククランプ機構を構成する各構成要素の大きさや、フォトマスク１７の厚さ等との関係に基づいて、決定されるべきものである。例えば、吊り下げ部１５の内、フランジ７０１より上側の部分の上下方向の寸法が、フォトマスク１７の厚さと比較して小さい場合、或いは試料傾斜時に、フォトマスク１７のパターン面が吊り下げ部１５の上面より上側に突出するような状態（図１４に図示する状態）となる場合、フォトマスク１７のパターン面端部と、吊り下げ部１５の側部とが接触する可能性が極めて低いため、アーム１３を選択的に、フォトマスク１７から離間させるような構成とすることができる。

一方、吊り下げ部１５とフォトマスク１７のパターン面端部間の接触リスクが見込まれるような場合は、図７に図示するように、吊り下げ部１５に段差を形成して、当該吊り下げ部１５の上部をフォトマスク１７から離間させるようにするように構成することが望ましい。図１１は、フォトマスク１７を吊り下げた状態のマスククランプ機構の正面図、図１２は、マスク置き台７に配置された状態のフォトマスク７を、マスククランプ機構にて保持した状態を示す図、図１３は、マスク置き台７に、フォトマスク１７が傾斜した状態（異常着座状態）で配置された状態を示す図、図１４は、マスククランプ機構の吊り下げ部１５近傍の拡大図であって、異常着座時にフォトマスクを保持しようとしたときの状態（実線で示すフォトマスク１７は異常着座状態を示し、点線は正常着座状態を示している）を示す図である。

マスク置き台７は、マスクホルダ５２上、或いはフォトマスク１７を配置すべき他の個所に設けられ、マスククランプ機構は、当該マスクホルダ５２に配置されているフォトマスク１７を搬送する。吊り下げ部１５，センターアーム１１，アーム１２、及び１３は、フォトマスク１７を保持するときに、マスク置き台７等に接触しないように配置されている。マスククランプ機構は、センターアーム１１を駆動機構１０に向かって縮めた状態、アーム１２，１３を駆動機構１０から伸ばした状態にて、フランジ７０１がマスク置き台７に配置されたフォトマスク１７の下部に位置するように移動し、その移動後、３つのアームを全てフォトマスク１７側に移動させることによって、フォトマスク１７を保持する。

フォトマスク１７を保持するときに、フォトマスク１７が傾斜して配置されていると、アーム１２，１３や吊り下げ部１５等に接触する可能性があるが、図７や図１４に図示するような構成によれば、その接触リスクを抑制することが可能となる。

図１５及び図１６は、図７等に図示したマスククランプ機構の構成例に基づく技術効果をより具体的に説明する図である。フォトマスク１７には、レジスト１８が塗布されているものがある。レジスト１８はフォトマスク１７の上面だけではなく、側面の上半分まで塗布されている。特にフォトマスク１７の上面縁部（角部）には、レジストの盛り上がりがある。

このように、レジスト１８がフォトマスク１７に覆いかぶさっているような状態では、図１５に図示する吊り下げ部（２）１６によれば、フォトマスク１７を保持するために、吊り下げ部（２）１６をフォトマスク１７に接触させた場合、吊り下げ部（２）１６とレジスト１８の盛り上がり部分が接触してしまい、レジストを飛散させてしまう場合がある。飛散したレジスト１８は、異物としてフォトマスク１７上面に付着する。付着した異物は欠陥として残り、フォトマスクの歩留まりを低下する原因となる可能性がある。このような接触の可能性をなくすべく、図７に図示するような吊り下げ部１５を採用することによって、図１６に図示するように、レジスト１８と吊り下げ部１５との間の接触をなくすことが可能になる。

なお、フォトマスク１７に塗布されるレジスト１８が、フォトマスク１７側面の上半分まで塗布される点に鑑み、フォトマスク１７の下側角部が、フランジ７０１に接した状態において、フォトマスク１７側面の下半分に選択的に、吊り下げ部１５が接するように、吊り下げ部１５に段差を形成した。吊り下げ部１５のフォトマスク１７との接触部の高さ方向の距離は、フランジ７０１の内側端部を起点として、フォトマスク１７の厚さの２分の１以下となるように構成されている。

以上のような構成によれば、レジストが塗布されている試料のレジストを剥離することなく、フォトマスク１７の側方（フォトマスク１７の表面方向）への移動の抑制が可能なマスククランプ機構を提供することが可能となる。

次に、マスククランプ機構によるフォトマスク１７の搬送時に、フォトマスク１７に付着した帯電を除去する機構を備えた荷電粒子線装置について、図面を用いて説明する。昨今の半導体試料には、その製造工程において、帯電が付着した状態で、ＳＥＭ等の測定・検査装置に搬送されてくるものがある。この様な帯電は、ＳＥＭにおける測定や検査の際に、電子ビームのフォーカスコンディション等に影響を与え、フォーカス調整を困難ならしめる要因となるため、米国特許公報USP 6,507,474には、試料の搬送時にイオナイザからなる除電機構を用いて、除電を行い、帯電を消去する技術が提案されている。

しかしながら、USP 6,507,474には搬送機構をどのように構成するかについては何も言及されていない。例えば搬送機構を特許文献１に説明されているような、試料下方から支持する構成とした場合、試料とイオナイザとの間に、支持部材が介在することになり、当該イオナイザに遮蔽される個所の除電を十分に行えないという問題がある。特に、昨今散見される試料全域に亘る帯電を除電する場合、試料の位置によって除電の効果が変化するため、フォーカス調整がより困難なものとなる場合がある。

図１７に図示するようなマスククランプ機構によれば、フォトマスク１７の搬送軌道外であって、当該搬送軌道の上下に配置されるイオナイザ３５と、当該移動軌道との間を遮蔽する部材を最小化することが可能となるため、イオナイザによる除電効果を最大化することが可能となる。特に、フォトマスクの場合、クロムからなる遮光パターンが形成されている表面に対し、石英基板に覆われている裏面の方が、帯電の付着量が大きいことがある。イオナイザ３５とフォトマスク１７裏面との間に介在するのは、５つのフランジ７０１の一部だけであるため、フォトマスク１７の裏面のほぼ全面を均一に除電することが可能となる。

図１８は、図５に図示するマスククランプ機構に、更に保護金具１９を設けた例を説明する図である。保護金具１９は、フランジ７０１より更にフォトマスク１７側に向かって突出した構造となっており、フォトマスク１７の脱落のリスクの更なる抑制を可能とする構造となっている。また、保護金具１９のフォトマスク１７側先端は、フランジ７０１より更に下部に位置する構造となっているため、フォトマスク１７が傾斜して配置されていた場合においても、保護金具１９とフォトマスク１７の接触リスクを低減することができる。

ＣＤ−ＳＥＭの概要を示す図（上視図）。 ロードポート側から見たＣＤ−ＳＥＭの概要を示す図。 ＣＤ−ＳＥＭの概要を示す図（側視図）。 マスククランプ機構ユニットの動作を説明する図。 マスククランプ機構ユニットの上視図。 マスククランプ機構の断面図。 マスククランプ機構のフォトマスク吊り下げ部の概要を説明する図。 フォトマスクの一部を覆うように形成されたアームを有するマスククランプ機構ユニットの上視図。 フォトマスクの一部を覆うように形成されたアームを有するマスククランプ機構ユニットの正面図。 アームとフォトマスクの接触状態を説明する図。 フォトマスクを吊り下げた状態のマスククランプ機構の正面図。 マスク置き台に配置された状態のフォトマスクを、マスククランプ機構にて保持した状態を示す図。 マスク置き台に、フォトマスク１７が傾斜した状態で配置された状態を示す図。 マスククランプ機構の吊り下げ部の拡大図。 吊り下げ部とフォトマスクに塗布されたレチクルが接触している状態を説明する図。 吊り下げ部の一部をフォトマスクから離間させ、レチクルとの非接触状態を可能とした吊り下げ部を説明する図。 イオナイザを用いてマスククランプ機構に保持されたフォトマスクを除電する例を説明する図。 保護金具を備えたマスククランプ機構を説明する図。

符号の説明

１ ミニエンバイラメント方式試料搬送機構
２ マスク搬送用ロボット
３ マスククランプ機構ユニット
４ ロードポート
５ ＳＭＩＦポッド
６ ストッカー
８ ロードロック室
９ 試料室
１０ 駆動機構
１１ センターアーム
１２，１３，２２，２３ アーム
１５ 吊り下げ部
１６ 吊り下げ部（２）
１７ フォトマスク
１８ レジスト
１９ 保護金具
２１ センターアーム
２４ クランプガイド
３５ イオナイザ
５０ 電子顕微鏡鏡体
５１ 試料ステージ上
５２ マスクホルダ
７０１ フランジ

Claims (9)

1. 表面にパターン面を有する試料を保持して搬送する試料搬送機構において、
   前記試料を保持する試料保持機構を移送する移送機構を備え、
   当該試料保持機構は、
   前記試料を吊り下げる吊り下げ部をその下部に複数備えた一対のアームと、
   当該一対のアームに備えられた吊り下げ部を、前記試料に近接、或いは離間させるように移動させる駆動部を備え、
   前記吊り下げ部は、当該吊り下げ部を前記試料に近接させたときに、前記パターン面に垂直な方向から見て、前記試料の下部に位置するように形成される突出部を備え、前記アーム、或いは当該アーム及び前記パターン面側に位置する吊り下げ部は、当該突出部に対して、前記試料から離間して形成されることを特徴とする試料搬送機構。
2. 請求項１において、
   前記試料保持機構は、前記一対のアームによって支持される前記試料の辺以外の辺を支持する吊り下げ部を備えたセンターアームを備えていることを特徴とする試料搬送機構。
3. 請求項２において、
   前記センターアームによって支持される第１の吊り下げ部と、
   前記一対のアームの一方に支持されると共に、前記第１の吊り下げ部に支持される辺の対辺と、当該対辺に隣接する辺とをそれぞれ支持する第２の吊り下げ部、及び第３の吊り下げ部と、
   前記一対のアームの他方に支持されると共に、前記第１の吊り下げ部に支持される辺の対辺と、当該対辺に隣接する辺であって、前記第３の吊り下げ部に支持される辺の対辺とをそれぞれ支持する第４の吊り下げ部及び第５の吊り下げ部を備えたことを特徴とする試料搬送機構。
4. 請求項３において、
   前記駆動部は、前記第２，第３の吊り下げ部、及び前記第４，第５の吊り下げ部を、前記パターン面と平行な方向であって、前記各辺に対し、斜めの方向に、移動させることを特徴とする試料搬送機構。
5. 請求項４において、
   前記駆動部は、前記第２，第３，第４、及び第５の吊り下げ部を、前記各辺に対し、４５度の方向に移動させることを特徴とする試料搬送機構。
6. 請求項１において、
   前記吊り下げ部は、前記試料の下方に位置させるフランジを備えていることを特徴とする試料搬送機構。
7. 請求項１において、
   前記吊り下げ部の前記試料側部との接触部の高さ方向の距離は、前記試料の厚さの２分の１以下となるように構成されていることを特徴とする試料搬送機構。
8. 表面にパターン面を有する矩形の板状体であるフォトマスクを保持して搬送するフォトマスク搬送機構において、前記フォトマスクを保持する保持機構を備え、
   当該保持機構は、
   前記フォトマスクを吊り下げる吊り下げ部を、その下部に２以上備えた一対のアームと、
   当該アームを前記矩形の辺に対し、前記パターン面に平行な方向であって、前記矩形の各辺に対し斜めの方向に、前記アームを移動させる駆動部と、
   当該駆動部によって移動されると共に、前記一対のアームに備えられた吊り下げ部によって支持される辺以外の辺を吊り下げる吊り下げ部を備えたセンターアームを備え、
   前記一対のアームに取り付けられた２つの吊り下げ部は、それぞれ前記矩形の異なる辺を支持する位置に取り付けられ、前記一対のアームとセンターアームに取り付けられた前記吊り下げ部によって、前記矩形の４辺全てを支持することを特徴とする試料搬送機構。
9. 請求項８において、
   前記駆動部は、前記一対のアームに備えられた吊り下げ部を、前記フォトマスクの前記各辺に対し、４５度の方向に移動させることを特徴とする試料搬送機構。

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