JPS6322427A - 搬送装置 - Google Patents

搬送装置

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JPS6322427A
JPS6322427A JP61162133A JP16213386A JPS6322427A JP S6322427 A JPS6322427 A JP S6322427A JP 61162133 A JP61162133 A JP 61162133A JP 16213386 A JP16213386 A JP 16213386A JP S6322427 A JPS6322427 A JP S6322427A
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JP
Japan
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reticle
cassette
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library
support table
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Application number
JP61162133A
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English (en)
Inventor
Kazuo Iizuka
和夫 飯塚
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Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPS6322427A publication Critical patent/JPS6322427A/ja
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Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

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  • Library & Information Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体製造装置、特にマスクやレチクル等の
薄板状の物体(以下、基板という)を自動的に交換する
装置等で用いられる搬送装置に関する。
このような搬送装置は、例えば、露光用基板マスクまた
はレチクル)を個別に収納するカセットを複数個収納す
るカセットライブラリを備えた基板自動交換装置におい
て、所望とする基板が入ったカセットをライブラリから
装置本体側に搬入し、カセットから基板を取り出してゴ
ミ検査装置に送り込み、ゴミ検査された基板を露光位置
まで送り込むとともに、基板を交換する際に不必要にな
った基板を前記カセットに収納しこのカセットをもとの
ライブラリまで戻す装置として好適に用いられる。
[従来の技術」 従来、この種の装置は、装置本体に固定されたカセット
ライブラリに収納された複数のカセットから、所望とす
る基板をライブラリ内で取り出し、長い搬送経路をたど
って基板のゴミ検査装置へ、また、ゴミ検査された基板
を再び長い搬送経路をたどって本体装置内露光位置まで
送り込むように構成されていたため、基板交換に多くの
時間を要し、装置の基板待ち状態が長くなワてしまうと
いう不都合があった。
一般に、半導体製造ラインには、少品種大量生産型のラ
インと多品種小量生産型のラインがあり、後者のライン
の場合、基板交換は頻繁に行なわれ、その基板交換のた
めの時間、つまり装置の基板待ち状態が長いということ
は、生産性を著しく低下させるという問題がある。
そこで本発明者等は、この問題を解決するものとして、
ライブラリと露光位置との間の搬送経路を往路と復路で
少なくとも一部を分離し、該部分で露光装置へ供給する
レチクルとライブラリへ戻し収納するレチクルとを交換
するようにしたレチクル搬送装置を案出した。
[発明が解決しようとする問題点] ところで、搬送路を一部分離し他部を共用する場合、共
用部と分離部との接続点において搬送路を分岐させる必
要がある。しかし、従来の搬送機構だけでは、このよう
な分岐を簡便に行なうことは困難であった。例えば、レ
チクル周辺部を下から支持する従来のフォーク式ハンド
は、上下方向に移動する機構との受け渡しは可能である
が、分岐のためのもう1つの方向例えば前後方向に移動
する機構との受け渡しは苦手である。例えばフォーク式
ハンド同士で受け渡ししようとすると、フォーク部が交
差する等、相互の干渉により失敗しやすい。
本発明は、上述の従来例における欠点を除去するもので
、少なくとも2方向への受け渡しが容易で、特に搬送路
を分岐する際に好適な基板搬送装置を提供することを目
的とする。
[問題点を解決するための手段] 上記目的を達成するため本発明では、複数の搬送機構間
で平板状被搬送物を受け渡しする搬送装置において、1
つの搬送機構は、支持部が、水平状態の上記被搬送物を
水平方向左右から挟持する開閉自在なアームを備えたも
のであることを特徴としている。
[作用および効果] すなわち、本発明によると、平板状物体例えば基板を搬
送する機構の基板支持部のアームを開閉自在に構成した
ことにより、支持している基板を別の位置へ搬送するた
めのもう1つのアームによる上、下および手前の3方向
への基板搬送が可能となる。このため、この搬送機構の
基板受け渡し位置にて少なくとも他の2つの搬送機構と
基板の授受が可能になり、該受け渡し位置で基板の搬送
経路を分岐することができる。したがって、例えば収納
経路と供給経路を分離することが可能になる。
[実施例] 第1図は、本発明の一実施例に係る縮小投影露光装置(
ステッパ)の全体外観図を示す。同図において、1は全
体空調チャンバ、2は移動型レチクルカセットライブラ
リである。
第2図は、第1図の全体空調チャンバ1の一部を透視し
た図である。同図において、10はステッパ本体、11
と12はそれぞれステッパ本体lOを構成する結像レン
ズと照明装置、!3はステッパ本体10によってレチク
ル6のパターンが焼付けられる被露光体例えば半導体ウ
ェハである。
第3図は、レチクル搬送システムの説明図である。図中
、4は特願昭60−214591号、特願昭60−21
4592号および特願昭60−.293630号で提示
したレチクルカセット(基板収納容器)、5は上記特願
昭1id−293630号で提示したカセットホルダ、
6はレチクル、7はバーコードリーダ・パターン位置検
知装置である。P、は第1のカセット収納位置で、ライ
ブラリ2の位置に相当する。P、はカセット収納位置P
、から取り出したカセットホルダ5を所定の位置まで昇
降させるエレベータ位置、P、はエレベータ位置P2か
らカセットホルダ5ごと送り込まれたカセット4からレ
チクル6を抜き出すレチクル抜き出し位置(第2のカセ
ット収納位置)、P4はレチクル6を上方に送る機構と
の受け渡し位置(第1の受け渡し位置)、P5はレチク
ル異物検査位置、P6はレチクルを露光位置まで搬入搬
出する機構との受け渡し位置(第2の受け渡し位置)、
P7は露光位置、P6は露光工程を終えたレチクル6を
カセット4内に収納する空力セット待機位置である。
上記構成において、レチクルカセットライブラリ2(第
1のカセット収納位置PL)に積層状に配置されたレチ
クルカセット4は、露光装置本体のコンソールによる指
令により、エレベータ機構がむかえにきてカセット収納
位置Plからホルダ5ごとエレベータ位置P2に穆され
、ここで所定の高さまで昇降され、さらにレチクル抜き
出し位置ps  (第2のカセット収納位置)に送り込
まれ収納される。第2のカセット収納位置P、にレチク
ルカセット4およびカセットホルダ5が収納されると、
この位置P3にあるカセット開閉用駆動源(図示せず)
が働き、カセット4が開けられ、内部のレチクル6を抜
き出し可能な状態にする。
カセット4の上蓋および下蓋の形状により、この開状態
では、カセット4の横方向から内部のレチクル6の有無
検知が可能となっている。
次いで、図示しないレチクル抜き出し機構が動作し、レ
チクル抜き出し位置P、において開放されたカセット4
からレチクル6を抜き出す。抜き出されたレチクル6は
第1の受け渡し位置P4を通過してレチクル異物検査位
置P5に入り、ここで上記抜き出し機構により異物検査
光下をスキャンされ、レチクル6上にある異物の有無お
よび所在位置が確認される。この段階で工程使用不能と
判定されたレチクル6は前述とは逆の動作によって、も
とのレチクルカセットライブラリ2内に戻される。
異物検査の結果、工程使用可能と判定されたレチクル6
は、第1の受け渡し位置P4に送られ、この位ばて下側
に待機していた上下搬送機構に受け渡され、第2の受け
渡し位置P6まで上昇する。
この位置でレチクル6を露光装置内部まで送り込む送り
込み機構に受け渡し、露光位置P7まで搬送するのであ
るが、レチクルバーコードリーダ・パターン位置検知ユ
ニット7は、この搬送中、送り込まれるレチクル6をス
キャンし、そのレチクル6のパターン位置がレチクル端
面に対してどの程度ずれて製作されているかを検知する
。同時に、そのレチクルがらみの露光工程条件をレチク
ルに書き込まれたバーコードパターンにより読み取り、
露光装置本体のコンソールにデータを送り、レチクル6
が露光位置P7へ搬送されるまでに、露光工程がらみの
機械的な設定を終了してしまうようにしている。
一方、前述の第2のカセット収納位置P、でレチクル6
を抜ぎ出されたカセット4は、開閉機構により閉じられ
、レチクル6の上下搬送および露光位置P7への送り込
み動作中にレチクル収納位置P8まで送られ、露光工程
終了により戻されて来るレチクル6をこの位置で待機し
ている。
露光工程を終了したレチクル6は、前述の送り込み機構
により第2の受け渡し位置P6に搬送され、この位置で
待機しているレチクル収納機構に受け渡される。すると
、収納位置P8にあるカセット開閉機構駆動源が働き、
収納位置P8で待機中のカセット4が開放される。この
状態でレチクル収納機構によりレチクル6がカセット4
に収納され、再び開閉機構が働いてカセット4は閉じら
れる。
レチクル6を収納されたカセット4は、カセット入れ換
え機構より、再びレチクル抜き出し位置P3に戻され、
この位置で待機しているエレベータ機構によりエレベー
タ位置P2を経てもとのレチクルカセットライブラリ2
内の収納位置P1に戻される。
前述のカセット入れ換え機構では、2つのカセットを収
納することができる。このため、次工程のレチクルを事
前に指令しておけば、工程終了したレチクルが戻される
前に次工程のレチクルを異物検査まで終了させ、第1の
受け渡し位置P4において、第2の受け渡し位置P6か
ら前工程のレチクルが排出された(レチクル収納位置P
、で待機中のカセットに収納されること)直後に次のレ
チクルを送り込むことができる。
ところで、従来の自動レチクル交換装置においては、レ
チクルなライブラリ内でカセットから取り出して、露光
位置までの長い経路を往復させていた。このため、搬送
中のレチクルへのゴミ付着の確率が高くなり、特にステ
ッパ等のように、レチクルのパターンを1枚のウェハ上
の多数箇所に繰返し焼付ける装置においては、各ショッ
トごと、または各チップごとのゴミによる不良品率が高
くなるという大欠点があった。この実施例においては、
上述のように、ライブラリ2(カセット収納位置PI)
と空調チャンバ1のカセット抜き出し位置P2  (ま
たはカセット待機位置pa)との間はレチクル6をカセ
ット4ごと搬送することにより、上記大欠点の解消を図
っている。
第4図は、第1図の移動型カセットライブラリ2を裏面
から見た外観図、つまり、露光装置内に自動交換機で送
り込むべきレチクルカセット4がカセットホルダ5ごと
搬出される側の外観図である。同図において、ライブラ
リ本体2には、このライブラリ2に収納されているカセ
ットの名称、レチクルの素性を示すパラメータ等が格納
された読み書き可能な記憶素子を含む記憶手段21が取
付けられている。22はライブラリのカセット収納部の
扉で、このライブラリ本体2の表面および裏面に構成さ
れている。
図示矢印Aは、自動交換機によるレチクルカセット4の
抜き出し方向を示している。
この移動型カセットライブラリは、全体空調チャンバ1
またはステッパ本体と結合、切り離しが自在で、かつ、
ライブラリ相互または他のレチクル関連装置との互換性
を良くしてあり、所定のカセット枚数を収納したライブ
ラリ2を工程または製造品種に合せて順次交換できるよ
うに移動可能型の形態をとっている。
このため、多品種少量生産型ラインに対応すべく多種の
基板を収納するカセットライブラリ毎、オンライン等に
よる交換が可能となり、露光装置本体内に送り込むレチ
クルカセットの交換に際し、温調チャンバにより露光装
置が温度的に安定しているときに温調チャンバの窓を開
けて人手で交換作業を行なうことによる温調チャンバ内
および露光装置の温度変動という事態を防止することが
で幹る。
また、上記形態をとれば、第11図に示すようにパター
ンジェネレータ1aやスタンドアローン型のゴミ検査機
1bやレチクル洗浄装置1c、あるいはべりタルはり合
せ装置(図示せず)等、レチクルまわりの保守点検機と
の接続が容易で、レチクルの交換、保守および点検等の
際に人間を介さずに済み、無塵環境に対しての冗長性を
増すことができる。
第4図において、記憶手段21は、ライブラリ2に収納
されているレチクルカセット内のレチクルの名称と収納
位置、およびステッパにおけるレチタルまわりの初期設
定項目等、装置動作に必要なパラメータを記録している
書き込み、消去自在な記憶素子が構成され、全体空調チ
ャンバ1またはステッパ本体に構成された読み取り手段
と、接合可能な位置関係にあり、接合状態とすることに
より前記パラメータをステッパ本体コンソール3に送り
込むことが可能になっている。
第5図は、ライブラリ2内におけるカセットホルダ5の
収納状況および手動による出し入れ(図示矢印B)およ
び自動機による出し入れ(図示矢印A)時の動作につい
て示している。同図において、4は前述のレチクルカセ
ット、5はカセットホルダである。 23.25はコロ
列、24は可動なコロ列フレーム、26はライブラリ筐
体兼ガイドレールである。27はコロ列フレーム24に
構成されたストッパ機構で、カセットホルダ5をライブ
ラリ内でガタつかせないようにしている。28はコロ、
29はホルダ5をコロ列フレームに24. ’24間に
保持するためのストッパである。このカセットライブラ
リ2の左右各段は、それぞれ同様に構成されている。
ライブラリ2におけるカセットホルダ5の移動方向およ
びストロークは、人間の手による矢印Bのカセット設定
と、自動搬送機による矢印Aの出し入れ動作に対応する
ため、ライブラリ2の表側方向にホルダ5の長さ分、裏
面方向にホルダ5の抜き差し可能なストロークが必要に
なる。また、ライブラリ2は、全体空調チャンバ1また
はステッパ本体と接合、離反の関係にあることから、ラ
イブラリ2内には、心動用の駆動源となるアクチュエー
タは存在せず、ホルダ5の出し入れは、人間の手、また
は自動機から伝達される動力によって行なわれる。
第5図の2段目は、カセットホルダ5がライブラリ2か
ら抜き出された状態を示す。つまり、自動搬送機のエレ
ベータ機構(図示せず)が所望とするカセットホルダ5
の位置に対向した時、エレベータ機構のアクチュエータ
はストッパ29をつかまえてコロ列フレーム24を図示
位置まで引き抜籾、さらにストッパ29を解除する。続
いて、エレベータ機構に構成されている抜き出しフック
がカセットホルダ5についているツメ5aをつかまえ、
カセットホルダ5を図示位置まで抜き出す。これにより
、カセットホルダ5がライブラリ2外に出ることになる
また、この2段目に示しているホルダ5が抜き出された
状態では、ストッパ機構27が図示のごとくレール26
に支持された状態にあるので、戻ってきたホルダ5に対
してストッパの役割をし、カセットホルダ5をコロ列フ
レーム24に対して常時定位置に収納することができる
第5図の第3段目は、人間の手によるカセット交換時の
状態を示す。この状態ではストッパ機構27は支持する
レール26から外れて解除状態となり、またカセットホ
ルダ5はツメ5aがコロ列フレーム24に固定されてい
るストッパ部材24aに当接することにより停止するの
で、矢印Bの方向からのカセット交換が容易になる。
第6図は、第2図の露光装置を右側面から見た説明図で
ある。
同図において、レチクルカセットライブラリ2は露光装
置チャンバ(全体空調チャンバ)1と当接し、この状態
で露光装置チャンバ側に構成されたロック部材15と、
カセットライブラリ2側に構成されたつかまえコロ2a
の結合が起こり、チャンバ1とライブラリ2との相対位
置が固定される。
そして、レチクルカセットライブラリ2に構成された記
憶手段21に格納されているデータは露光装置チャンバ
1に構成された読み取り手段16により読み取られ、ラ
イブラリ2内に収納されている各レチクルの収納段位置
、およびレチクルがらみの各種工程のパラメータ等のデ
ータが本体に送られて本体の記憶手段にプールされる。
本体側の指定により抜き出されたレチクルはエレベータ
位置P、でエレベータ機構に乗って第2のカセット収納
位置P3に送り込まれる。この位置はレチクルカセット
ライブラリ2内の中腹部に位置し、レチクルカセットラ
イブラリ2内にある各カセット位置に対し、その高低差
による搬送時間の違いを極力少なくしている。また、レ
チクルカセットライブラリ2を使用せずマニュアルにて
カセットを設置する時にはレチクル抜き出し位置P3に
カセットを置いてやるようにすれば、レチクル抜き出し
位置P、は、露光装置の設置されている床面からの高さ
が1m20cm程度であるから、位置関係として人手に
よる操作設定容易である。
本実施例の機構および各機能の主なねらいは、いかに搬
送中のレチクルに対し、塵の付着を防止して送り込める
かということであり、特にレチクル単体を搬送している
時における外部からの浮遊塵の付着を防ぐために、異物
検査ユニット8のクリーンボックス化、およびカセット
外に出たレチクルの搬送領域のクリーンボックス化を2
重のボックス8a、8b、屏8c、ならびに空調装置等
により実現している。つまり、カセット入れ換え機構お
よびカセット開閉機構からの発塵および浮遊塵をレチク
ル搬送領域内部に浸入させないため、各部の気圧を、異
物検査ユニット8(ボックス8a内)で最も高く、次い
でレチクル搬送領域(ボックス8b内)、チャンバ内部
1(ボックス8b外)およびチャンバ外の順となるよう
に揚圧化している。第6図中、8cはレチクル搬送領域
からレチクル異物検査ユニット8への浮遊塵の流入を遮
断する屏である。また、101は空調ユニット、102
は冷却機、103は送風機、104は加熱機、105は
フィルタ、106は温度センサである。
21bはシール材である。
第7図は第3図で示した基本構成のうち、露光装置に固
定されたレチクル抜ぎ出し位置P、からレチクル収納位
置P6までの各動作機構の実施外観図である。
第7図において、カセットライブラリ2からホルダ5ご
と抜き出されたカセット4はレチクル抜、き出し位置(
第2のカセット収納位置)Pgに送り込まれ、上下移動
型ホルダ支持台71に載置固定される。この位置P、に
は、カセット4を構成している上蓋と下蓋を分離するカ
セット開閉機構が構成されており、上下移動型ホルダ支
持台71にホルダ5が送り込まれ固定されたことを確認
した時点以後、このカセット開閉機構が作動し、カセッ
ト4の上蓋が開放され、内部にあるレチクル6がカセッ
ト4外から取り出し可能になる。この状態になった時レ
チクル抜き出しフォーク30がカセット4内にあるレチ
クル6を抜き出し、その抜き出し方向の延長上にあるレ
チクル異物検査ユニット8(第6図)内に定速で送り込
む。一方、レチクル6がカセット4外に出たことを確認
したら、カセット開閉機構が作動し、カセット4は閉じ
られる。
レチクル抜き出し位置P3にあるホルダ支持台は上下心
動型ホルダ支持台71と姿勢保持型ホルダ支持台72の
上下に2つが設けられており、カセット4が空になった
ことを確認されて閉じられると、下位置の上下移動型ホ
ルダ支持台71と上位置にある姿勢保持型ホルダ支持台
72が上下位置を交換できるようになっている。これに
より、前述の空になったカセット4は上位置(レチクル
収納位置pa)へ送り込まれ、この位置P8で前述の露
光位置P7へ搬送されたレチクルが露光工程の終了によ
って戻されレチクル収納位置P6に搬入されるまで待機
している。
第6図を参照して、カセット4から抜き出されたレチク
ル6は1通常、そのままレチクル異物検査ユニット8内
に送り込まれる。しかし、レチクル6にペリクル防塵膜
が付けられていた場合、現在のレチクル異物検査ユニッ
トの構成上、ペリクル防塵膜のフレームにより、レチク
ル6のフレーム内部で検査不可能な領域(レチクル6と
ペリクル防塵膜フレームの接合隅部)がある。この部分
を検査するためには、レチクル6を180°平面回転し
た後もう一度、レチクル検査ユニット8でその領域の検
査をするようになる。この平面回転機構を有しているの
が受け渡し位置P4にあるθ2機構40である。
第7図に戻って、レチクル6がレチクル異物検査ユニッ
トによって異物検査を完了して受け渡し位置P4に戻っ
てくると、θ2機構40はレチクル抜き出しフォーク3
0の下側よりレチクル4をすくい上げるようにフォーク
30から取り出し、露光袋置のレチクル設定方向に合せ
てθ回転させ、Z機構による上昇動作で受け渡し位置P
6に送る。
このθZ機構40によるθ回転受け、コンソールからの
入力または記憶手段21からの読み取りデータに基いて
基板ごとに1/4回転ピッチで374回転まで設定する
ことができる。このθ2機構40により、この装置にお
いては、種々の装置に使用されている多種多様なレチク
ルカセットおよびそのカセット内のレチクルの設定方向
にも人手によるカセット内レチクルの方向合せという面
倒な仕事なしに、レチクルカセット内およびレチクルの
清浄度を維持した状態で各種装置との間を無人オンライ
ンでレチクル交換することがで籾る。つまりマシンコン
パチビリティを向上させることができる。
位置P6では、レチクル搬送機構50に構成された開閉
動作を有するレチクルハンド52.53が開状態で待機
しておりその位置でレチクル6を位置決め下側支持して
受け取る。レチクル6を受け渡し位置Paで受け取った
レチクル搬送ハンド51は、レチクル6の直交する2端
面を突き当て状態で下面支持しながら露光装置内の露光
位置P7に直線搬送する。この直線搬送中の1ケ所にバ
ーコードリーダ・パターン位置検知ユニット7が構成さ
れており、レチクル6が定速で搬送されている間に指定
レチクルの確認、露光装置のレチクルがらみのパラメー
タ読み取り、および現在つかんでいるレチクル6のパタ
ーンが露光装置の中心に対してどれ程ずれているかを検
知して、搬送終了までに露光装置の設定を終えてしまう
ようにしである。
露光位置P7に到着したレチクル搬送ハンド51は、レ
チクルハンド52.53を開いてその位置でレチクル6
を放しレチクル6を露光装置の受け台(図示せず)に載
置する。その後、レチクル搬送ハンド51は、レチクル
ハンド52.53を開状態としたまま、露光工程終了を
待機する。
露光工程を終了したレチクル6はレチクル搬送ハンド5
1によって露光位置P7から受け渡し位置P6へ搬送さ
れる。受け渡し位置P6では前述のθZ機構40が下側
初期位置に下降退避し、レチクル収納フォーク90がレ
チクル受け渡し準備を完了している。
レチクル搬送ハンド51が受け渡し位置P6にてレチク
ル6をレチクル収納フォーク90に載置した時、レチク
ルハンド52.53は開状態になる。これにより、機構
(51と90)同志が干渉することなく、レチクル収納
フォーク90は前述のレチクル収納位置P8に待機して
いる空のレチクルカセットへのレチクルの収納が可能で
ある。
レチクル収納位置P8にも前記レチクル抜咎出し位置P
3のものと同線の開閉機構駆動源があり、その動作によ
って位置P8で待機中のカセット4を開放し、カセット
4内にレチクルがないことを確認した後レチクル収納フ
ォーク90を動作してレチクル6をカセット4内に収納
する。収納後、レチクル収納フォーク90がカセット4
から外に出ると、カセット開閉機構駆動源が動作し、カ
セット4が閉状態になる。
その後、前記ホルダ支持台は再び上下の入れ換え動作を
してカセット4を下位置(レチクル抜鮒出し位置)P3
にて待機させる。このカセット4はカセット搬出機構に
よりレチクルライブラリに戻される。
これら一連の動作に対して、カセット搬送機構の動作、
レチクル抜き出し動作、レチクル異物検査、θ2動作、
レチクル搬送動作、レチクル収納動作、カセット上下人
FL換え動作、ライブラリへのカセット収納、供給動作
をシリーズ的に動作させると、工程ごとのレチクル交換
時間は3〜4分程費やしてしまう。これに対し、本実施
例では第2のカセット収納位置に2つのホルダ支持台7
1゜72を設け、ライブラリ2から搬出されたカセット
4は、レチクル抜き出し位置P3にてレチクルの抜ぎ出
し動作をレチクル抜ぎ出しフォーク3oによって行なっ
て空になった後、上蓋を閉じカセット上下入れ換え動作
によってレチクル収納位置P8に送り、代って姿勢保持
型ホルダ支持台72をレチクルの抜き出し位置P、に来
させ、この姿勢保持型ホルダ支持台72に次工程で必要
とするレチクルのカセットを搬送載置することができる
ようにしている。したがって、本実施例では、予め露光
装置が現工程を終了する時間または露光処理するウニ八
枚数の処理時間をもとに交換時期を算定し・、そのカセ
ット搬送時間、レチクル異物検査時間等機械動作として
起こる所要時間を見越して次工程レチクルの各搬送動作
を開始すれば、次工程のレチクルはθ2機構40上に待
機させることができ、前工程のレチクルが露光工程を終
了してレチクル収納位置P8に送られた時に次工程のレ
チクルを載せたθZ機構40が上昇動作して受け渡し位
置P6に来るようなシーケンスプログラムを付加してや
れば、上記交換時間は30秒以下に減少させることがで
きる。
第8図は、第7図のカセット入れ換え機構70の動作説
明図である。
次に、第7および8図を参照しながらカセット入れ換え
機構70について説明する。図中、71.72はホルダ
支持台、73.73はホルダ支持台71.72に固定さ
れたプーリ、74はプーリ73.73の軸を規定の間隔
で回転自在に支持するアームである。アーム74はプー
リ73.73間の中点位置75で水平動作スライダ76
に回転支持され、上下のプーリ73をベルト77で連結
されている。このため、支持アーム74は回転中心75
に対して回転可能となるがその回転動作に対してホルダ
支持台71.72は平行姿勢を変えないで上下動作可能
になっている。上下移動型ホルダ支持台71は、上下ガ
イド79とこれを支持する3つのコロ78により、水平
姿勢状態でZ方向にのみ昇降可能に拘束されている。水
平動作スライダ76は、上下移動型ホルダ支持台71の
上下動作に伴なってアーム中心75を支持しながら水平
方向に移動可能であり、全体の重量な軸80両端の2ケ
所で支えている。81はアーム中心75を固定している
軸80を水平動作スライダ76に対しアーム74を回転
させる回転型のアクチェエータである。
第7図の状態でアーム74に図面手前から見て反時計方
向の回転入力を与えると、上下移動型ホルダ支持台71
は水平支持されたまま2方向に上昇する。また、姿勢保
持型ホルダ支持台72は上下移動型ホルダ支持台71の
姿勢が水平であるのでプーリ73、73およびベルト7
7の動作により同様の水平姿勢を保ったまま軸80を回
転軸に円弧運動する。しかし、軸80は水平動作スライ
ダ76に支持されているのでホルダ支持台71の移動に
伴って図中で左へ向けて水平に移動し、このため、ホル
ダ支持台72は第8図に示すように円弧運動と水平運動
とを合成した軌跡を措いて移動する。つまり、第8図に
おいて、第7図と同様の状態からアーム74を反時計方
向に180@回転すると、ホルダ支持台フ1は71′の
位置を経て72の位置に垂直に上昇すると同時に、ホル
ダ支持台72は72′の位置を経て71の位置に回転移
動する。これにより、ホルダ支持台71と72の位置が
入れ替わる。もとの状態に戻すためには、アーム74を
今度は時計方向に180°回転すればよい。
姿勢保持型ホルダ支持台72は、移動動作の末端では略
水平に動作するため、第7図の82のごとくダンパーと
固定機構を働かせれば衝撃を少なく動作させることがで
きる。なお、上下移動型ホルダ支持台71の動作は軸8
0の回転中心まわりの回転動作により、動作末端では減
速機構になっている。
また、アーム74が軸80の回転中心まわりで回転動作
するのに対し、ホルダ支持台71.72は軸8oを中心
にカウンタバランスの形態をとっているため回転動作に
必要な力はあまり大きくない。
第9図はレチクル送り込み機構の説明図で、第9図(a
)はレチクルを掴んで露光位置P7まで搬送した状態、
第9図(b′)は第2の受け渡し位置P6でレチクルを
開放した状態を示す。
図中、52は位置決めXY基準コロ付ハンド、53はY
基準コロ付ハンド、5Bは開閉操作アクチュエータ、6
0はスライダ、61は回転軸、62はレバー、63はロ
ーラ、62aはレバー回転軸、62bはバネ、65は平
ベルト、66はスライダストッパ、67は外カバー、6
8は駆動プーリ、69は従動プーリ、70aはスライド
レールである。
スライダ60は平ベルト65の両端を固定し、ベルト6
5はレバー回転軸62aを中心にレバー62で支持され
たローラ63を介して張られ、レバー62はベルト65
のたるみ取りにバネ62bにより張力を与えられていて
、これらのレバー62およびバネ62bはスライダ60
の左右に構成されている。ベルト65は左右にある従動
プーリ69を経由して駆動プーリ6Bまで張られている
。第91m(a)に示すように露光位置P7まで来たス
ライダ60は、その軌道であるスライドレール70a上
に固定されたスライダストッパ66に突き当り、その状
態から駆動プーリ88を小量回転させると、図示□のよ
うに左側の張力T。
が高くなり右側の張力T2が低くなるためその差分子、
−T、がスライダ60をスライダストッパ66に押し当
てる。この押し当て力が安定していればこの位置での再
現性が高くなる。
この原理は左右同位置について同様である。
平ベルト65はレチクル搬送ハンド51のスライド部の
高さ方向の厚み分の幅をもっており、外カバー67はレ
チクル送り込み機構51のレチクル搬送ハンド51のス
ライドする部分を除いて全てカバーリングしてあり、前
述のスライド部の窓がその開口を略的に塞いでいる。こ
のように構成した時にこの空間内の任意の位置で排気(
図示せず)してやれば、空間内は負圧化し、スライド動
作による発塵が外部に出す、搬送機構により発塵してし
まった塵が搬送中のレチクルに付着することがなくなる
第9図(b)に示す第2の受け渡し位置P6に来たレチ
クル搬送ハンド51も前述同様の手法でスライドストッ
パ66に押し当てられこの位置(停止位置)での再現性
を良くしである。
これらの停止位置で開閉操作アクチュエータ59が作動
すると、その作用点は結合軸58を移動させる。XY基
準コロ付ハンド52およびY基準コロ付ハンド53はそ
れぞれスライダ60に構成された左右の回転軸61を支
点にもったレバーであり、結合軸58より連結関係にあ
るため、図のようにハンド閉状態ができ、前記のθZ機
構40や、レチクル収納フォーク90とのレチクルの授
受が可能である。
第10図は、レチクルを位置決めハンドリングしている
状態の図で、レチクルを掴んでいる状態のレチクル基板
の整合原理を示す。
前述のようにハンド52と53は、開閉操作アクチュエ
ータの動作により、図示のごとく閉状態を作っている。
54、55.56はコロで、ハンド52には2つ、ハン
ド53には1つが取り付けである。レチクルは一般的に
正方形をしているため、コロ55.56の外周とレチク
ルの端面が当接しもう1つのコロ54の外周に他の一端
が当接するように押し付けてやればレチクルの外形整合
が可能になる。
57、57は回転中心を円の中心から偏心させたところ
にもった外周の摩擦係数の高い偏心コロで、図示の逆方
向力F、、F、が常時働くように内蔵のバネが入ってい
てレチクルのない状態では57aの位置で停止している
。ハンド閉状態でレチクルを挟み込んだ時、XY基準コ
ロ付ハンド52とY基準コロ付ハンド53は図示Fと同
様の方向に動き、Fなる力をレチクルに与える。52と
53の両ハンドに構成されている偏心コロ57は、57
bのように回転する。この時、F)F2 >Flの関係
をつくり、かつ、両ハンド52.53の閉状態の位置を
連結軸58のストローク規正で固定してやると左右の偏
心コロ57の動作およびその外周とレチクル端面との摩
擦係数と偏心コロ57の57aに戻ろうとする力により
F、、F、なる力が発生し、それらの分力はコロ54.
55.5[iの外周に対してレチクルを押しつける力、
f x + fy++ fyzなる力を発生させ、レチ
クルをハンド上に端面整合できる。
この状態で受け渡し位置P6から露光位置P。
まで搬送する経路中にバーコードリーダ・パターン位置
検知7を配置し搬送中のレチクルのパターン位置を計測
してやれば、このパターン位置がレチクル基板の整合端
面からどれくらいの位置に離れているかということがわ
かり、これをそのレチクルの製造誤差に対処した本体装
置のメカニカルな設定データとして使用することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は、本発明の一実施例に係る投影露
光装置の外観図、 第3図は、本発明のレチクル搬送システムの説明図、 第4図は、6動型カセットライブラリの裏面外観図、 第5図は、ライブラリ内部の説明図、 第6図は、装置右側から見た説明図、 第7図は、装置内のレチクル抜き出し位置ないしレチク
ル収納位置の各動作機構の実施外観図、第8図は、カセ
ット入れ換え機構動作説明図、第9図は、レチクル送り
込み機構の説明図、第10図は、レチクルハンドリング
機構の整合原理説明図、 第11図は、6動型カセットライブラリを他周辺機器と
接合配置した説明図である。 1ニスチツパの全体空調チャンバ 2:6動型カセットライブラリ 4:基板収納ケース 5:カセットホルダ 6:レチクル 7:バーコードリーダ・パターン位置検査装置PI :
第1のカセット収納位置 F2 :エレベータ位置 P3 :第2のカセット収納位置 P4 :第1の受け渡し位置 P5 ニレチクル異物検査位置 P6 :第2の受け渡し位置 P、:露光位置 P6 :空力セット待機位置 15:チャンバ側につけられた記憶内容読み取り手段 21:記憶手段 21b:シール材 22;ライブラリの屏 23:コロ 24:コロ列フレーム 25ニガイドコロ 26:レール 27:ストッパ 29:ストッパ 30ニレチクル抜き出しフォーク 40:02機構 50ニレチクル送り込み機構 51ニレチクル搬送ハンド 52:位置決めXY基準コロ付ハンド 53:Y基準コロ付ハンド 54、55.56:コロ 57:偏心コロ 58:結合軸 59:開閉操作アクチェエータ 60ニスライダ 61:回転軸 62ニレバー 62aニレバ一回転軸 fI2b :バネ 63;ローラ 64;ストッパ 65:平ベルト 66:スライダストツバ 67:外カバー 68:駆動プーリ 69:従動プーリ 70aニスライドレール 70:カセット入れ換え機構 71:上下移動型ホルダ支持台 72:姿勢保持型ホルダ支持台 73;プーリ 74:支持アーム 76:水平動作スライダ 77:ベルト 7B:コロ 79ニガイド 80:軸 81:回転アクチュエータ 82:ダンパ 101  :空調ユニット 102:冷却器 103:送風機 104:個別加熱器 105:フィルタ 106:温度センサ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、所定の2点間の搬送経路の所望の区間を平板状の被
    搬送物を搬送する第1の搬送手段と、該搬送経路中の所
    定の受け渡し位置にて該第1の搬送手段と被搬送物を受
    け渡しする第2の搬送手段とを具備する搬送装置であっ
    て、上記第1の搬送手段が、上記被搬送物を左右から挟
    持する開閉自在のアームを備えた支持部と、該支持部を
    上記搬送経路に沿って移動させる駆動手段とを具備する
    ものであることを特徴とする搬送装置。 2、前記第2の搬送手段が、前記受け渡し位置に停止し
    た状態で、前記被搬送物が該受け渡し位置を通過すると
    きは該被搬送物の搬送を妨げない位置に、該受け渡し位
    置にて該被搬送物を受け渡しするときは該受け渡し位置
    に移動可能なアームを備え、該アームによって前記第1
    の搬送手段から被搬送物を受け取ると、上記搬送経路外
    の第2の経路に搬出するものである特許請求の範囲第1
    項記載の搬送装置。
JP61162133A 1986-07-11 1986-07-11 搬送装置 Pending JPS6322427A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61162133A JPS6322427A (ja) 1986-07-11 1986-07-11 搬送装置
US07/528,903 US4999671A (en) 1986-07-11 1990-05-29 Reticle conveying device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61162133A JPS6322427A (ja) 1986-07-11 1986-07-11 搬送装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6322427A true JPS6322427A (ja) 1988-01-29

Family

ID=15748665

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61162133A Pending JPS6322427A (ja) 1986-07-11 1986-07-11 搬送装置

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JP (1) JPS6322427A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010016505A1 (ja) * 2008-08-06 2010-02-11 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 試料搬送機構

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010016505A1 (ja) * 2008-08-06 2010-02-11 株式会社 日立ハイテクノロジーズ 試料搬送機構
JP2010040804A (ja) * 2008-08-06 2010-02-18 Hitachi High-Technologies Corp 試料搬送機構
US8585112B2 (en) 2008-08-06 2013-11-19 Hitachi High-Technologies Corporation Sample conveying mechanism

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