JPS61176129A - 基板の搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の技術分野） 本発明はガラス性のフォトマスクやレチクル等の基板を
搬送する装置に関し、特に露光装置や洗浄装置等に組み
込むのに好適な自動マスク（レチクル）搬送装置に関す
る。

（発明の背景） 近年、半導体素子は増々微細化と高密度化が進み、これ
を製造するための装置、特に露光装置に要求される各種
性能は年々きびしくなってきている。高解像力と高い重
ね合わせ制度を有する縮小投影型露光装置（所謂ステッ
パー）では、パターン転写の原版となるレチクルを用い
て、半導体ウェハ上にステップアンドリピート方式でパ
ターンを縮小投影するため、レチクル上に異物の付着等
の欠点が生じていると、ウェハ上の全チップが不良にな
るといった問題がある。このためレチクルを装置に装着
する場合や装置から取り出す場合に。

レチクルには一切触れることなく全自動にレチクルを搬
送する装置が実用化され、半導体素子の生産現場におい
て多大な効果をあげている。このような搬送装置は例え
ば特開昭５７−６４９３０号公報に開示されており、ま
たその搬送装置に装着し得るレチクルケースの一例が特
開昭５８−９５８１２号公報に開示されている。そのよ
うな従来の搬送装置ではレチクルの各稲麦は渡し動作が
位置決めの再現性を考慮して複雑であり、！適時間が長
いといった欠点があった。またレチクルに付着する異物
を防止するために、高分子の透明薄膜（ペリクル）をレ
チクルの表面から数ミリメートル程度離して張設するよ
うな保護枠（ペリクルフレーム）がレチクルに接着され
るようになり、このようなペリクル付きのレチクルは従
来の装置では搬送できなかった。ペリクル付きのレチク
ルを使ってパターンの転写を行う場合は、レチクルの表
面に直に付着した異物がないことはほぼ保証されている
ものの、ペリクル表面に付着した大きな異物はパターン
転写に影響を与える。そこでペリクルのないレチクルに
対しては異物の大きさが２〜３μｍ程度の分解能で判別
できるような厳密な異物検査装置を用い、ペリクル付き
のレチクルに対しては、ペリクル上の大きな異物２例え
ば１゜０μｍ以上の解像し得るゴミについてだけ、検査
するペリクル検査装置を用いることが半導体素子の製造
上効率的である。このような異物検査装置とペリクル検
査装置との両方をステッパーにレトロフィツトする場合
、その搬送装置はべりタル付きレチクルもペリクルなし
のレチクルも同等に搬送しなければならず、従来のよう
な搬送方法を用いる限り、高速な搬送ができないといっ
た問題があった。

（発明の目的） 本発明は上記欠点を解決し、搬送シーケンスを単純化し
、受は渡しの回数を極力減らすことにより、高速に基板
を搬送する装置を得ることを目的とする。

（発明の概要） 本発明は、マスクやレチクル等の基板を水平に収納する
手段（ライブラリＲＬ、ケースＣ３）と。

基板みに付着した異物を検査する検査手段（ペリクルチ
ェッカーＰＲＣ，あるいはパーティクルチェッカーＰＣ
）との間で基板を搬送する装置において、基板を水平に
保持するための保持部（アーム２）を有し、保持部によ
って収納手段から基板を水平に取り出すように保持部を
直進移動させる搬送手段（水平移動部４．ガイドプレー
ト５．駆動部１０等）を設け、検査手段による異物検査
の際の基板移動を保持部の直進移動で行なうようにして
、基板を取り出す部材と検査のための基板移動部材とを
１つの保持部で兼用したことを技術的要点としている。

（実施例） 第１図は本発明の実施例による搬送装置の概略的な構成
を示す平面図であり、第２図はその正面図である。第１
図第２図において、ＳＲはレチクル１を使ってウェハ等
にパターンを転写するステフハ一本体であり、レチクル
１はステッパーＳＲの正面から水平に所定のレチクルス
テージ３０ａ上に搬送してそのステージ３０ａに載置す
るような構成となっている。ステッパーＳＲを正面から
見たとき、その右手前側にはレチクルライブラリＲＬが
配置される。このレチクルライブラリＲＬ（以下単にラ
イブラリＲＬと呼ぶ）には、一枚のレチクル１を密閉状
態で収納するレチクルケースＣ３（以下単にケースＣ８
と呼ぶ）の複数個が積み重ねるように装着可能である。

こめケースＣ８には、レチクルｌを水平に取り出せるよ
うな位置に開閉自在な扉が設けられていて、ケースＣ８
はその扉がステッパーＳＲの正面側の空間に向くように
ライブラリＲＬに装着される。このようなケースＣ８の
構造とライブラリＲＬへの装着機構は。

例えば特開昭５８−９５８１２号公報に詳しく開示され
ているものと同等なので２本実施例ではその説明を省略
する。ただし２本実施例ではべりタル付きのレチクルを
収納するケースもライブラリＲＬに装着できる。この場
合、ペリクル付きのレチクルを収納するケースはべりタ
ルフレームの高さ分だけ、厚くなるだけで基本的な構造
は特開昭５８−９５８１２号公報に開示されたものと何
ら変わることはない、尚ペリクル付きレチクルのケース
には、ペリクルのない通常のレチクルでもそのまま収納
できる。これはケース内部がレチクルの周辺のみを保持
するような構造になっているからである。さて、ステッ
パーＳＲの正面空間をはさんでライブラリＲＬと対向す
る側には、ペリクルのないレチクルｌ上のゴミ等の異物
を検査する公知の異物検査装置（以下パーティクルチェ
ッカーと呼ぶ）ＰＣが配置されている。このパーティク
ルチェッカーＰＣは例えば特開昭５８−６２５４４号公
報に開示されているように、レチクル１を水平に載置し
て、水平方向（Ｘ方向）に移動するスライダー１８を備
えている。そしてパーティクルチェッカーＰＣはレチク
ル１がスライダー１８によって一次元走査される間、レ
ーザ光源からのレーザスポット光がレチクル１の表面を
Ｘ方向と直交するＹ方向に主走査し、レチクル１に付着
した異物からの散乱光を異なる位置に配置された複数の
光電変換器で受光し、各光電信号に基づいて異物の付着
の有無、付着位置、付着の状態、あるいは異物の大きさ
等を検出するように構成される。尚、第１図中、１９は
スライダー１８のガイド部、２０はスライダー１８の駆
動部である。

またペリクル付きレチクルの異物検査、すなわちペリク
ル上に付着した比較的大きなゴミの検査を行なうために
、ライブラリＲＬの最下部にペリクルレチクル検査装置
（以下ペリクルチェッカーと呼ぶ）ＰＲＣが設けられて
いる。このペリクルチェッカーＰＲＣの基本的な構成は
特開昭５７−８０５４６号公報に開示されたものと同様
であるが、詳しくは後述する。尚、ペリクルチェッカー
ＰＲＣをライブラリＲＬの一部分に配置したのは。

省スペース化、コンパクト化のためであり、装置全体の
床面積を増大させないためである。さらにその位置はケ
ースＣ８から取り出したペリクル付きレチクルを迅速に
搬送できる位置でもある。もともとペリクル付きレチク
ルはレチクル表面への異物の付着を防止されているため
、ペリクル上に付着した異物はかなりの大きさまで解像
されることがなく、検査に要する検出精度もパーティク
ルチェッカーＰＣのそれとくらべて格段に低くくてよい
。その代りに検査に要する時間は短いことが望まれる。

そこで本実施例ではケースＣ８からレチクル１を取り出
したり、ステツパーＳＲやパーティクルチェ７カーＰＣ
へ、そのレチクル１を搬送したりする手段を、ペリクル
チェッカーＰＲＣによる検査の際の一次元走査手段に兼
用するように構成した。そこでまず、レチクルｌの搬送
手段について詳述する。ライブラリＲＬの前方（正面空
間側）には、高さ方向に伸びた２本のガイド支柱９ａ、
９ｂが固定されている。このガイド支柱９ａ、９ｂの夫
々には、ケースＣ８を積み重ねた上下方向（以下Ｚ方向
とする）に移動自在なスライダー３ａ、３ｂがローラベ
アリング等を介して支持されている。この２つのスライ
ダー８ａ、８ｂは水平なプレート７の両側に固定され、
ガイド支柱９ａの下部に固定されたモータを含む駆動部
１２によってタイミングベルト等を介してＺ方向に移動
する。そのプレート７の先端側には、レチクルを旋回運
動させるための水平回転機構部６が設けられている。こ
の機構部６の上には水平なガイドプレート５が設けられ
３機構部６によって水平面内でほぼ１８００回転可能に
支持されている。

このガイドプレート５の回転は、プレート７に固定され
たモータを含む駆動部１１によって行われる。ガイドプ
レート５には直進運動可能にローラベアリング等で支持
された水平移動部４が設けられる。この水平移動部４の
先端にはレチクルの周辺下面のみを保持するフォーク状
のアーム２が固定されている。そして水平移動部４とア
ーム２は。

ガイドプレート５の他端側に設けられたモータを含む駆
動部１０によって、タイミングベルトを介してガイドプ
レート５に沿って直進方向（以下Ｒ方向とする）に一体
に移動する。第１図、第２図ではアーム２がケースＣ８
内のレチクル１の下部に位置した状態を示す。そのアー
ム２のレチクル載置面には真空吸着用の吸気孔が形成さ
れている。

さて、ガイドプレート５の上方には、アーム２に載置さ
れたレチクルの装置全体に対する位置ずれを直すための
位置決め機構１５が、ライブラリＲＬの上方から水平に
伸びた支持アーム１４を介して懸架状態で設けられてい
る。この位置決め機構１５はレチクルのガラス端面を四
方からローラ１５ａ等で押圧するような構造となってお
り、基本的には特開昭５７−６４９３０号公報に開示さ
れている構成と同等である。ただし、この位置決め機構
１５はべりタル付きレチクルについても同様に位置決め
できるように１寸法的な変更がなされている。またペリ
クル付きレチクルか否かを検出するために、ペリクルフ
レームの有無を光電検出するフォトセンサーが組み込ま
れている。ところでその位置決め機構１５は上方に固定
配置されているので３位置決めの際は、アーム２のＲ方
向の移動とＺ方向の移動とによって、レチクルを位置決
め機構１５のローラ１５ａによって挟持されるような高
さ位置及び水平位置まで搬送した後、アーム２の真空吸
着を解除してからローラ１５ａでレチクルの位置決めを
行なう。

また本実施例のレチクル搬送装置には、レチクルに形成
されたバーコードを読み取るためのバーコードリーダ（
以下単にリーダと呼ぶ）２４が第１図のようにＺ方向に
移動するプレート７に設けられている。このリーダ２４
はケースＣ８からレチクルを引き出すＲ方向の運動中に
、レチクルのパターン領域の周辺に形成されたバーコー
ドを反射型のフォトセンサーで読み込むように構成され
ている。そのバーコードは所謂レチクル情報と呼ばれ、
レチクルの識別を表わす１０〜５０文字分の情報量を備
えている。そのレチクル情報はステッパーＳＲに露光プ
ロセス管理上のデータとして読み込まれる。さらに本実
施例では、レチクル表面やペリクル表面に帯電により付
着する異物を防止する意味で、プレート７のケースＣ８
側にイオン発生器（イオナイザー）２９が設けられてい
る。

イオン発生器２９はアーム２がケースＣ８からレチクル
を引き出す経路の上と下に、レチクルを挟むように配置
され９通過するレチクルの上面と下面にイオン化された
気体を噴射する。このイオン発生器２９はプレート７と
ともにＺ方向に移動するので、アーム２がレチクルをペ
リクルチェッカーＰＲＣ内に搬入するときと搬出すると
きとの両方の場合にも同様にイオン化された気体をレチ
クルに噴射する。

ところで本実施例においては、レチクルの搬送用のアー
ム２が、ペリクルチェッカーＰＲＣ内におけるレチクル
の一次元走査を兼用して行なうように構成される。そこ
でペリクルチェ７カーＰＲＣの具体的な構成を第３図に
基づいて説明する。

第３図はべりクルチェッカ−ＰＲＣをレチクルの出入口
側から見た斜視図である。同図においてアーム２の２本
のフォーク部には両面ペリクルめレチクル１が載置され
る。この場合レチクルｌのパターン面（クロム等が形成
された面）は、下面であり、パターン面の裏側（上面）
のガラス面とともにペリクルフレームＩａ、ｌｂが固着
されている。アーム２の２本のフオーム部の間隔はフレ
ームｉｂがぶつかることなくはさみ込まれる程度に定め
られる。またフレーム１ａとｌｂの高さは予め正確に定
めており２両面のペリクルの間隔はどのレチクルにおい
ても同一になるように定められている。さて、ペリクル
チェッカーＰＲＣ内には。

２つの半導体レーザ光源５０．５１と、各レーザ光源か
らのレーザ光をほぼ平行に集光されたレーザ光ＬＢＩ、
ＬＢ２に形成するレンズ系５２，５３と、このレンズ系
５２．５３からの平行なレーザ光ＬＢＩ、ＬＢ２をそれ
ぞれ上面のペリクルと下面のペリクルとにほぼ水平に照
射するように反射するミラー５４．５５とから成るレー
ザ光送光系が設けられている。そしてレーザ光ＬＢＩ、
ＬＢ２によるペリクル上の照射軌道Ｓｌはアーム２のＲ
方向の移動に対して直交する方向に細長く伸びるように
定められる。さらに、ペリクル上を照射したレーザ光Ｌ
Ｂ１．ＬＢ２は夫々ミラー５６゜５７で反射された後、
ペリクルチェッカーＰＲＣ内での迷光とならないように
光トラップ５８に入射し、この光トラツプ５８内に吸収
される。ここでレーザ光ＬＢＩ、ＬＢ２の照射軌道Ｓｌ
上での上下方向の間隔は、上下面のペリクルの間隔と等
しく定められている。従ってアーム２をＺ方向の所定位
置に定めて、アーム２をＲ方向に進めると。

レーザ光ＬＢ１．ＬＢ２によって、上下面のペリクルが
同時に走査されることになる。さて、レーザ光の照射軌
道Ｓｌ上に異物が存在すると、その異物からは指向性の
弱い散乱光が発生する。そこで本実施例では、照射軌道
Ｓｌを縮小結像する集光レンズ５９と、照射軌道ＳｌＯ
像を受光する一次元フオドアレイ６０とを光電検出系と
して設ける。ここで集光レンズ５９の光軸ＡＸは照射軌
道Ｓｌのほぼ中央を見込み、かつ光軸ＡＸのペリクル面
と成す角度θが９０’以下の鋭角、好ましくは１０〜２
０°程度になるように定められている。

−次元フオドアレイ６０は例えば自己走査型のＣＣＤア
レイであり、照射軌道Ｓ１を長手方向に複数個の領域に
分割し、各領域からの散乱光を個別に受光するような複
数の受光素子（画素）を備える。そして、アーム２のＲ
方向の単位移動に（例えば１關）毎に同期して一次元フ
オドアレイ６０の各画素を読み出すことによって、照射
軌道Ｓｌ上の異物の位置や大きさを検出することができ
る。

このときアーム２のＲ方向の移動量を読みをるような手
段（エンコーダ等）を駆動部１０内に設けることによっ
て、ペリクル上の異物の２次元的な位置が検出できる。

尚１本実施例では下面のペリクルの異物についても全く
同様の光電検出系が設けられていて、上下面のペリクル
をアーム２の一回の走査、具体的にはレチクル１を一度
奥まで入れた後、レチクル１を引き出す走査のときに同
時に実行できるため、検査時間は大幅に短縮される。

しかもペリクル検査の場合、精度はそれ程要求されない
ので、スポット光を振動ミラーやポリゴン鏡等で走査す
るパーティクルチェッカーＰＣの検査時間よりも格段に
高速な検査が可能である。その具体的な数値を例示して
みると、−次元フオドアレイ６０の読み出しサイクルを
ｌ／６０秒、ペリクル面のＲ方向の長さを１０１．そし
て、−次元フオドアレイ６０の１画素が受光するペリク
ル面上の領域を１００μｍＸ　１００μｍとすれば。

ペリクル面の全面を検査するのに要する時間は最高でも
１６．６秒（１／６０ｘｌＯＯ１０，１）になる。もち
ろん１画素が受光する領域を上記の２倍にすれば、１０
秒以下の高速検査が可能である。ただし検査時間を決定
する要因にはアーム２の移動速度と、その直進安定性等
が含まれる。特にアーム２のＺ方向のずれやたわみにつ
いては直接検査結果のエラーにつながる。

そこで本実施例においては、ペリクルチェッカーＰＲＣ
の出入口付近にアーム２の高さの位置が適正か否かを検
出するフォトセンサーを設ける。

第４図はそのフォトセンサーの配置とアーム２との関係
を示す斜視図である。尚同図においてはアーム２に載置
されるレチクルの図示は省略した。

アーム２の２本のフォーク部２ａ、２ｂのうち２ａ側の
先端の側面には、ガラスの小片６２をはりつける。この
ガラス小片６２にはＲ方向に線状に伸びたクロム等の反
射性パターン形成されている。

反射型のフォトセンサー６３は、アーム２がＺ方向の規
定位置に配置したとき、ガラス小片６２の反射パターン
からの反射光を最も強く受光するように設けられている
。従って、フォトセンサー６３の光電出力が最も大きく
なるように、アーム２のＺ方向の位置を駆動部１２によ
って定めてがら。

アーム２をＲ方向に走査すれば、２本のレーザ光ＬＢＩ
、ＬＢ２の夫々は、上下面のペリクル表面の夫々に正確
に照射される。

またアーム２は水平面に対してＲ方向と直交する方向に
傾くことも考えられる。そこで、アーム２のもう１本の
フォーク２ｂの先端にも同様のガラス小片を設け、これ
をフォトセンサーで検出するようにし、２つのフォトセ
ンサーの出力からナーム２の傾きを検出することが望ま
しい。さらにアーム２はレチクルの重量等によって水平
面に対してＲ方向に傾くことも起こり得る。その場合は
アーム２のＺ方向の位置は固定したまま、アーム２をＲ
方向に移動させ、フォトセンサー６３の出力が、ガラス
小片６２の通過のたびにどのように変化するかを検出す
ればよい。あるいはガラス小片６２がフォトセンサー６
３と対向するようにアーム２をＲ方向に位置決めした後
、アーム２をＺ方向に微小に上下し、光電出力が最大に
なったＺ位置を記憶することを、フォーク部２ａ（又は
２ｂ）の側面に設けた各ガラス小片６２ごとに行うこと
によっても同様に傾き検出ができる。さらに。

このようなフォトセンサー６３をペリクルチェッカーＰ
ＲＣ内のアーム２の所定通過経路中に複数個配置してお
けば、ペリクル検査中であっても時々刻々アーム２の姿
勢、すなわちペリクル面の水平性が確認できることにな
り、検査の信頼性は一段と向上する。

ところで、アーム２はレチクルを吸着した状態でＲ方向
に直進運動するとともに旋回運動も行う。

このためアーム２のフォーク部２ａ、２ｂに真空系を導
びくためのチューブの引き回しに何らかの工夫をしてお
かないと、アーム２の運動によってチューブを他の機構
部分に引っかけてしまい２機械系のトラブルを引き起こ
すことになる。本実施例ではガイドプレート５の一部に
そのチューブの巻き取り機構を設け、チューブがアーム
２の運動によってたるんだり、からまったりしないよう
にした。第５図はその巻き取り機構の概略的な構成を示
す斜視図であり、第６図はその部分断面を示す図である
。アーム２をＲ方向に移動する水平移動部４はガイドブ
レート５上に設けられ、その水平移動部４内を貫通して
アーム２のフォーク部２ａ、２ｂまで真空引きのための
配管がなされている。そして水平移動部４の配管終端か
らは真空引きのためのチューブ２１がガイドブレート５
に沿って後方に伸び、ガイドプレート５の他端下部に回
転自在に軸支された２つのプーリ２２ｂ、２２ａを介し
てＵの字状に折り返され９巻き取り用のプーリ２３に巻
き取られるように装架されている。

このプーリ２３は、ガイドプレート５の下側に水平回転
機構部６によるガイドプレート５の回転中心と同軸に回
転自在に設けられ、しかも水平移動部４のＲ方向の移動
に対して機械的に干渉しないように配置されている。そ
してブー１Ｊ２３は常にチューブ２１を巻き取る回転方
向に付勢されている。ブー１Ｊ２３は第６図に示すよう
にガイドプレート５に軸２３ａを介して軸支され、その
軸２３ａのまわりに同軸にねじりつる巻きバネ２９が設
けられている。ねじりつる巻きバネ２９は一端はガイド
プレート５に固定され、他端はプーリ２３に固定され、
プーリ２３を常に一方向に回転付勢する。また、プーリ
２３に巻き取られるチューブ２１の先端は、プーリ２３
の回軸中心に沿ってほぼ同軸に引き出され２回転ジヨイ
ント７０を介してチューブ７１と接続される。チューブ
７１は不図示の真空排気系につながれる。

以上のような構成でアーム２がＲ方向に移動すると、プ
ーリ２３はガイドプレート５に対して回転して、チュー
ブ２１の巻き取り、又は送り出しを行なう。またアーム
２をＲ方向に移動させることなく、ガイドプレート５を
θ方向に回転させる場合、プーリ２３はガイドプレート
５の回転と一体となって回転する。このように、チュー
ブ２１゜７１の引き出し位置をガイドプレート５の回転
中心とほぼ一致させることによって、引き出したチュー
ブ７１のよじれやからみ等が防止され２機械系のトラブ
ルがなくなる。

さて、アーム２によって搬送されるレチクルは必要に応
じて装置に対する位置決めが行なわれる。

第７図は位置決め機構１５の構成を示す斜視図であり、
第８図はその断面図である。レチクルと同じような大き
さ形状のベース板８１の４辺には。

エアシリンダ８０によって揺動すると共にローラ１５ａ
を下部に軸支する揺動部１５ｂが設けられる。このロー
ラ１５ａによってレチクルのガラス端面を挟持するよう
につかむことによって、レチクルの位置決めが行なわれ
る。この位置決めのために、揺動部１５ｂの位置を規制
するストッパー８２ａ、８２ｂが設けられている。以上
までの構成は特開昭５７−６４９３０号公報に開示され
たものと同一である。本実施例ではベース板８１の下面
にペリクル付きレチクルか否かを検出するための反射型
フォトセンサー８５を設けた。このフォトセンサー８５
は、第８図に示すように、ローラ１５ａがレチクルを挟
持したとき、レチクルの上面のペリクルフレーム１ａの
上端面に光を照射し、その反射光を受光するように配置
される。また、ベース板８１の下面からローラ１５ａま
での高さ方向の間隔は、搬送されるペリクル付きレチク
ルのフレームの高さ寸法よりも大きくなるように定めら
れる。

このような構成において、レチクルを位置決めする際、
まずアーム２を位置決め機構１５の下方に位置させた後
、アーム２をＺ方向に上昇させる。

このときローラ１５ａを開いた状態であり、レチクルが
ローラ１５ａと同一の高さになった時点でアーム２の上
昇を停止する。そして第５図、第６図に示したチューブ
２１による真空吸着を解除して、レチクルがアーム２の
フォーク部２ａ、　　２ｂ上で水平面内で自由に移動で
きるようにする。次にシリンダー８０を作動させてロー
ラ１５ａをレチクルの端面に押圧して、レチクルの位置
決めを行なう。このときレチクルはフォーク部２ａ、２
ｂ上をわずかに摺動することになるので、レチクルと接
触する部分３例えば真空吸着孔のまわりにはテフロンや
デルリン等の合成樹脂を設けるとよい。そしてローラ１
５ａがレチクルを挟持している状態で、フォーク部２ａ
、２ｂは再びレチクルの真空吸着を開始し、最後にロー
ラ１５ａを開いて一連の位置決め動作を完了する。尚、
この位置決め動作は、レチクルをケースＣ８から取り出
した直後、あるいはレチクルをケースＣ８に戻す直前に
行なうことが望ましい。また各装置間でのレチクルの受
は渡し精度を保つためにも、必要に応じてレチクルの位
置決めを行なえばよい。

次に本実施例の装置による搬送シーケンスを説明する。

ペリクル付きレチクルをステッパーＳＲに搬送する場合
は、アーム２を所望のケースＣ８の扉の前に位置決めす
る。Ｚ方向に移動するプレート７上には特開昭５７−６
４９３０号公報に開示された扉開閉機構が設けられてお
り、アーム２が位置決めされたケースＣ８の扉のみが開
かれる。

その後アーム２がケースＣ８内のレチクル１の下側に進
入し、フォーク部２ａ、２ｂによる真空吸着でレチクル
１をアーム２上に載置して、ケースＣ８内から水平に外
部に取り出す。そしてアーム２は位置決め機構１５の直
下まで駆動部１０によりＲ方向に移動した後、駆動部１
２によりＺ方向に上昇し、第８図に示した通りレチクル
１を位置決めする。次にアーム２はそのまま最下部のペ
リクルチェッカーＰＲＣの位置まで降下し、さらにＲ方
向に移動して、第３図第４図に示した通りペリクル上の
異物検査を行なうべく、ペリクルチェッカーＰＲＣ内で
レチクル１を水平に走査する。

この検査において、ステッパーＳＲで解像、転写される
程の異物が発見された場合、アーム２はそのレチクル１
を元のケースＣ８に戻すように移動する。異物がないか
、あるいは存在したとしても転写に影響する程のことで
はないと判断されると。

アーム２はベリタルチェッカーＰＲＣ内から引き出され
た後、水平回転機構部６の作動によって。

第１図の位置から反時計方向に９０″だけ旋回させられ
、Ｚ方向に上昇してステッパーＳＲのステージ３０ａへ
の受は渡しの高さ位置で停止する。

そしてアーム２はＲ方向に移動して、レチクル１をステ
ージ３０ａ上に載置する。尚、アーム２がペリクルチェ
ッカーＰＲＣ内から引き出された後。

Ｚ方向に上昇してから反時計方向に９０’だけ旋回する
ようなシーケンスとしても同様である。

さて、ペリクルのないレチクルの場合は、ペリクルチェ
ッカーＰＲＣの代りにパーティクルチェッカーＰＣに搬
送されて異物検査された後、ステッパーＳＲに送り込ま
れる。その場合、レチクルを位置決めした後、アーム２
をパーティクルチェッカーＰＣのスライダー１８の高さ
位置まで降下させた後、第１図のような状態からガイド
プレート５を反時計方向に１８０°だけ回転させる。こ
のときスライダー１８はパーティクルチェッカーＰＣ内
から最も外に引き出されており、アーム２はそのスライ
ダー１８と干渉しないように、スライダー１８のわずか
上方を旋回して、レチクルｌをスライダー１８の直上に
位置させる。尚、このシーケンスは逆でもよく、アーム
２が１８０″だけ旋回した後、アーム２の下側にスライ
ダー１８が引き出されるようにしてもよい。次にフオー
ム部２ａ、２ｂの真空吸着が解除されてアーム２が降下
されると、アーム２のフオーム部２ａ、２ｂはスライダ
ー１８のコの字形の内部をすりぬけて。

レチクル１の周辺部はスライダー１８上に載置される。

次にパーティクルチェッカーＰＣ内にスライダー１８が
進入し、所定の異物検査が行なわれる。異物がないとき
はスライダー１８が最も引き出された位置で、待期して
いたアーム２が上昇してレチクル１を受は取り、レチク
ル１を第１図において時計方向に９０″だけ旋回させた
後、ステッパーＳＨに送り込む。もちろん異物の付着が
認められたときは、アーム２が時計方向に１８０゜だけ
旋回して、そのレチクル１は元のケースＣ８に戻される
。

尚、第１図に示したバーコードリーダ２４はステッパー
ＳＲの内部に設けてもよく、送り込まれたレチクルが正
しいものか否か判断する。ただし。

第１図のようにリーダ２４を設ければ、アーム２の直進
運動だけでレチクルの確認と、正しくないレチクルのケ
ースＣ８への再収納ができ、高速である。リーダ２４は
レチクルのケースＣ８からの引き出し方向と直交する方
向に伸びたスリット状の光像をレチクルの裏面（パター
ン面）に投射し。

反射性のクロムで形成されたバーコードからの反射光を
受光するように構成されている。またレチクル上のバー
コードは、パターン領域の周辺でフォーク部２ａ、２ｂ
によって遮光されないような位置に設けられる。

以上１本実施例の説明をしたが２例えばパーティクルチ
ェッカーＰＲＣはペリクルのないレチクルについての異
物検査もある程度行なえる。第３図のように検査のため
のレーザ光ＬＢ１．ＬＢ２はレチクルの上下に平行に照
射されているので。

例えばレチクルのパターンの形成されていないガラス面
側については、ペリクル表面の異物検査と同様に検査で
きる。この場合は、アーム２の高さを検出するフォトセ
ンサー６３　（第４図参照）を使って、レチクルのガラ
ス面とレーザ光ＬＢＩとの高さが一致するように、アー
ム２をＺ方向に調整すればよい。また、レーザ光ＬＢＩ
とＬＢ２の間隔を十分にあけておき、レチクルの進入時
にはレーザ光ＬＢＩによって上面のペリクル面を走査し
、レチクルの引き出し時には、レチクルを少し下げてか
らレーザ光ＬＢ２によって下面のペリクル面を走査する
ようにしてもよい。

さらに本実施例のパーティクルチェッカーＰＣはレチク
ルの一次元走査のために専用のスライダー１８を備えて
いる。これは、そのようなスポット光走査型の検出分解
能の高い異物検査装置では。

レチクルの一次元移動の精度もかなり高くする必要があ
るからである。しかしながら、パーティクルチェッカー
ＰＣ内に進入してきたアーム２のフォーク部２ａ、２ｂ
を、Ｒ方向とＺ方向の直進安定性が向上するように支持
するローラやガイド部を設ければ、専用のスライダー１
８は不用となり。

レチクルの受は渡し回数はさらに減る。

また、ライブラリＲＬはケースＣ８が装置全体の正面側
から装着できるように配置してもよい。

すなわちライブラリＲＬを第１図の位置から、ガイドプ
レート５の回転軸を中心に時計方向に９０゜だけ回転し
た位置に設ける。この場合、ケースＣ８の扉はステッパ
ーＳＲと対向することになる。

さらに本実施例ではステッパー等のようにレチクルを用
いてウェハ等の加工片に処理を加える装置に好適な搬送
装置として説明したが、レチクルやマスク自体に何らか
の、処理を加える装置１例えばレチクルの洗浄装置、パ
ターンの修正装置等と異物検査装置とを組み合わせた場
合の搬送装置としても同様の効果が得られる。またペリ
クルチェッカーＰＲＣにおいては、フォトセンサー６３
でアーム２の高さ位置や傾きを検出することによって、
ペリクル面とレーザ光ＬＢＩ、ＬＢ２とを一致させてい
たが、ペリクル面の高さ位置を直接検出するようなセン
サーを設けるようにすれば、ペリクルフレームの高さが
どのようなものであっても、同様の検査が可能である。

さらに位置決め機構１５に設けられたフォトセンサー８
５は反射型以外に透過型にしてもよい。その場合はべり
タルフレームの側面に光が投射されるようにし、その光
をペリクルフレームの反対側で受光するようなフォトセ
ンサーとする。そしてペリクルフレームによって光が遮
断されるか否かによって、ペリクル付きレチクルかどう
かを判断する。

（発明の効果） 以上本発明によれば９．露光装置等の処理装置へマスク
やレチクル等の基板を搬送する途中で、その基板（ペリ
クル付きも含む）に付着した異物を検査する際、搬送用
の保持部（アーム）が基板を保持したまま、異物検査装
置（ペリクルチェンカ−等）内に進入して、そのまま異
物検査のための一次元走査を行なうようにしたので、異
物検査時の基板の受は渡し動作が不要となり、この受は
渡しに伴う時間的なロスがなく、露光装置等におけるマ
スクやレチクルの交換作業がより高速になるといった効
果がある。また、不用な受は渡し動作がないため、保持
部が基板を露光装置等に載置する精度にバラつきが生じ
ることがなく、露光装置側での基板の位置決めがスムー
ズに行なえるといった利点もある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例による搬送装置の概略的な構成
を示す平面図、第２図は第１図の正面図。 第３図はべりタル上の異物検査を行なうペリクルチェッ
カーの構成を示す斜視図、第４図はアームのたわみ、ね
じれ又は傾きを検出するフォトセ゛ンサーの配置を示す
斜視図、第５図はレチクルをアームに真空吸着するため
に引き回される真空系のチューブの巻き取り機構の構造
を示す斜視図、第６図は巻き取り機構の部分断面図、第
７図はレチクルの位置決め機構の構造を示す斜視図、第
８図はその位置決め機構によるレチクルの保持状態を示
す横断面図である。 〔主要部分の符号の説明〕 １　−−−−−−−　レチクル ｌ　ａ　、　　ｌ　ｂ　　−−−−−−−・ペリクルフ
レーム２−・−一一一−−搬送アーム、４〜・・−・・
−水平移動部６　・−−−−−−一回転駆動部。 ＲＬ−−−−−−・−レチクルライブラリＣ８−・−・
・・ケース

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　半導体装置製造用のマスク又はレチクル等の基板を略
   水平に収納する収納手段と、該基板の異物や傷等の欠点
   を、該基板を移動させつつ検査する検査手段との間で前
   記基板を搬送する装置において、前記基板を略水平に保
   持するための保持部を有し、該保持部によって前記収納
   手段から基板を略水平に取り出すように前記保持部を直
   進移動させる搬送手段を設け、前記検査手段による欠点
   検査の際の基板移動を前記保持部の直進移動で行なうよ
   うにしたことを特徴とする基板の搬送装置。