JPH0620091B2 - 基板の搬送装置 - Google Patents

基板の搬送装置

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JPH0620091B2
JPH0620091B2 JP1731885A JP1731885A JPH0620091B2 JP H0620091 B2 JPH0620091 B2 JP H0620091B2 JP 1731885 A JP1731885 A JP 1731885A JP 1731885 A JP1731885 A JP 1731885A JP H0620091 B2 JPH0620091 B2 JP H0620091B2
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Description

【発明の詳細な説明】 （発明の技術分野） 本発明はガラス性のフォトマスクやレチクル等の基板を
搬送する装置に関し，特に露光装置や洗浄装置等に組み
込むのに好適な自動マスク（レチクル）搬送装置に関す
る。
（発明の背景） 近年，半導体素子は増々微細化と高密度化が進み，これ
を製造するための装置，特に露光装置に要求される各種
性能は年々きびしくなってきている。高解像力と高い重
ね合わせ精度を有する縮小投影型露光装置（所謂ステッ
パー）では，パターン転写の原版となるレチクルを用い
て，半導体ウェハ上にステップアンドリピート方式でパ
ターンを縮小投影するため，レチクル上に異物の付着等
の欠点が生じていると，ウェハ上の全チップが不良にな
るといった問題がある。このためレチクルを装置に装着
する場合や装置から取り出す場合に，レチクルには一切
触れることなく全自動にレチクルを搬送する装置が実用
化され，半導体素子の生産現場において多大な効果をあ
げている。このような搬送装置は例えば特開昭５７−６
４９３０号公報に開示されており、またその搬送装置に
装着し得るレチクルケースの一例が特開昭５８−９５８
１２号公報に開示されている。そのような従来の搬送装
置ではレチクルの各種受け渡し動作が位置決めの再現性
を考慮して複雑であり，搬送時間が長いといった欠点が
あった。またレチクルに付着する異物を防止するため
に、高分子の透明薄膜（ペリクル）をレチクルの表面か
ら数ミリメートル程度離して張設するような保護枠（ペ
リクルフレーム）がレチクルに接着されるようになり，
このようなペリクル付きのレチクルは従来の装置では搬
送できなかった。ペリクル付きのレチクルを使ってパタ
ーンの転写を行う場合は，レチクルの表面に直に付着し
た異物がないことはほぼ保証されているものの，ペリク
ル表面に付着した大きな異物はパターン転写に影響を与
える。そこでペリクルのないレチクルに対しては異物の
大きさが２〜３μｍ程度の分解能で判別できるような厳
密な異物検査装置を用い，ペリクル付きのレチクルに対
しては，ペリクル上の大きな異物，例えば１００μｍ以
上の解像し得るゴミについてだけ，検査するペリクル検
査装置を用いることが半導体素子の製造上効率的であ
る。このような異物検査装置とペリクル検査装置との両
方をステッパーにレトロフィットする場合，その搬送装
置はペリクル付きレチクルもペリクルなしのレチクルも
同等に搬送しなければならず，従来のような搬送方法を
用いる限り，高速な搬送ができないといった問題があっ
た。
（発明の目的） 本発明は上記欠点を解決し，搬送シーケンスを単純化
し，受け渡しの回数を極力減らすことにより，高速に基
板を搬送する装置を得ることを目的とする。
（発明の概要） 本発明は、マスクやレチクル等の基板を水平に収納する
手段（ライブラリＲＬ，ケースＣＳ）と，基板に付着し
た異物を検査する検査手段（ペリクルチェッカーＰＲ
Ｃ，あるいはパーティクルチェッカーＰＣ）との間で基
板を搬送する装置において，基板を水平に保持するため
の保持部（アーム２）を有し，保持部によって収納手段
から基板を水平に取り出すように保持部を直進移動させ
る搬送手段（水平移動部４，ガイドプレート５，駆動部
１０等）を設け，検査手段による異物検査の際の基板移
動を保持部の直進移動で行なうようにして，基板を取り
出す部材と検査のための基板移動部材とを１つの保持部
で兼用したことを技術的要点としている。
（実施例） 第１図は本発明の実施例による搬送装置の概略的な構成
を示す平面図であり、第２図はその正面図である。第１
図及び第２図において、ＳＲはレチクル１を使ってウェ
ハ等にパターンを転写するステッパー本体であり，レチ
クル１はステッパーＳＲの正面から水平に所定のレチク
ルステージ３０ａ上に搬送してそのステージ３０ａに載
置するような構成となっている。ステッパーＳＲを正面
から見たとき，その右手前側にはレチクルライブラリＲ
Ｌが配置される。このレチクルライブラリＲＬ（以下単
にライブラリＲＬと呼ぶ）には，一枚のレチクル１を密
閉状態で収納するレチクルケースＣＳ（以下単にケース
ＣＳと呼ぶ）の複数個が積み重ねるように装着可能であ
る。このケースＣＳには，レチクル１を水平に取り出せ
るような位置に開閉自在な扉が設けられていて，ケース
ＣＳはその扉がステッパーＳＲの正面側の空間に向くよ
うにライブラリＲＬに装着される。このようなケースＣ
Ｓの構造とライブラリＲＬへの装着機構は，例えば特開
昭５８−９５８１２号公報に詳しく開示されているもの
と同等なので，本実施例ではその説明を省略する。ただ
し，本実施例ではペリクル付きのレチクルを収納するケ
ースもライブラリＲＬに装着できる。この場合，ペリク
ル付きのレチクルを収納するケースはペリクルフレーム
の高さ分だけ，厚くなるだけで基本的な構造は特開昭５
８−９５８１２号公報に開示されたものと何ら変わるこ
とはない。尚ペリクル付きレチクルのケースには，ペリ
クルのない通常のレチクルでもそのまま収納できる。こ
れはケース内部がレチクルの周辺のみを保持するような
構造になっているからである。さて、ステッパーＳＲの
正面空間をはさんでライブラリＲＬと対向する側には，
ペリクルのないレチクル１上のゴミ等の異物を検査する
公知の異物検査装置（以下パーティクルチェッカーと呼
ぶ）ＰＣが配置されている。このパーティクルチェッカ
ーＰＣは例えば特開昭５８−６２５４４号公報に開示さ
れているように，レチクル１を水平に載置して，水平方
向（Ｘ方向）に移動するスライダー１８を備えている。
そしてパーティクルチェッカーＰＣはレチクル１がスラ
イダー１８によって一次元走査される間，レーザ光源か
らのレーザスポット光がレチクル１の表面をＸ方向と直
交するＹ方向に主走査し，レチクル１に付着した異物か
らの散乱光を異なる位置に配置された複数の光電変換器
で受光し、各光電信号に基づいて異物の付着の有無，付
着位置，付着の状態，あるいは異物の大きさ等を検出す
るように構成される。尚，第１図中，１９はスライダー
１８のガイド部，２０はスライダー１８の駆動部であ
る。
またペリクル付きレチクルの異物検査，すなわちペリク
ル上に付着した比較的大きなゴミの検査を行なうため
に，ライブラリＲＬの最下部にペリクルレチクル検査装
置（以下ペリクルチェッカーと呼ぶ）ＰＲＣが設けられ
ている。このペリクルチェッカーＰＲＣの基本的な構成
は特開昭５７−８０５４６号公報に開示されたものと同
様であるが，詳しくは後述する。尚，ペリクルチェッカ
ーＰＲＣをライブラリＲＬの一部分に配置したのは，省
スペース化，コンパクト化のためであり，装置全体の床
面積を増大させないためである。さらにその位置はケー
スＣＳから取り出したペリクル付きレチクルを迅速に搬
送できる位置でもある。もともとペリクル付きレチクル
はレチクル表面への異物の付着を防止されているため，
ペリクル上に付着した異物はかなりの大きさまで解像さ
れることがなく，検査に要する検出精度もパーティクル
チェッカーＰＣのそれとくらべて格段に低くくてよい。
その代り検査に要する時間は短いことが望まれる。そこ
で本実施例ではケースＣＳからレチクル１を取り出した
り，ステッパーＳＲやパーティクルチェッカーＰＣへ，
そのレチクル１を搬送したりする手段を，ペリクルチェ
ッカーＰＲＣによる検査の際の一次元走査手段に兼用す
るように構成した。そこでまず，レチクル１の搬送手段
について詳述する。ライブラリＲＬの前方（正面空間
側）には，高さ方向に伸びた２本のガイド支柱９ａ，９
ｂが固定されている。このガイド支柱９ａ，９ｂの夫々
には、ケースＣＳを積み重ねた上下方向（以下Ｚ方向と
する）に移動自在なスライダー８ａ，８ｂがローラベア
リング等を介して支持されている。この２つのスライダ
ー８ａ，８ｂは水平なプレート７の両側に固定され，ガ
イド支柱９ａの下部に固定されたモータを含む駆動部１
２によってタイミングベルト等を介してＺ方向に移動す
る。そのプレート７の先端側には，レチクルを旋回運動
させるための水平回転機構部６が設けられている。この
機構部６の上には水平なガイドプレート５が設けられ，
機構部６によって水平面内でほぼ１８０゜回転可能に支
持されている。このガイドプレート５の回転は，プレー
ト７に固定されたモータを含む駆動部１１によって行わ
れる。ガイドプレート５には直進運動可能にローラベア
リング等で支持された水平移動部４が設けられる。この
水平移動部４の先端にはレチクルの周辺下面のみを保持
するフォーク状のアーム２が固定されている。そして水
平移動部４とアーム２は，ガイドプレート５の他端側に
設けられたモータを含む駆動部１０によって，タイミン
グベルトを介してガイドプレート５に沿って直進方向
（以下Ｒ方向とする）に一体に移動する。第１図，第２
図ではアーム２がケースＣＳ内のレチクル１の下部に位
置した状態を示す。そのアーム２のレチクル載置面には
真空吸着用の吸気孔が形成されている。さて，ガイドプ
レート５の上方には，アーム２に載置されたレチクルの
装置全体に対する位置ずれを直すための位置決め機構１
５が，ライブラリＲＬの上方から水平に伸びた支持アー
ム１４を介して懸架状態で設けられている。この位置決
め機構１５はレチクルのガラス端面を四方からローラ１
５ａ等で押圧するような構造となっており，基本的には
特開昭５７−６４９３０号公報に開示されている構成と
同等である。ただし，この位置決め機構１５はペリクル
付きレチクルについても同様に位置決めできるように，
寸法的な変更がなされている。またペリクル付きレチク
ルか否かを検出するために，ペリクルフレームの有無を
光電検出するフォトセンサーが組み込まれている。とこ
ろでその位置決め機構１５は上方に固定配置されている
ので、位置決めの際は，アーム２のＲ方向の移動とＺ方
向の移動とによって，レチクルを位置決め機構１５のロ
ーラ１５ａによって挟持されるような高さ位置及び水平
位置まで搬送した後，アーム２の真空吸着を解除してか
らローラ１５ａでレチクルの位置決めを行なう。
また本実施例のレチクル搬送装置には，レチクルに形成
されたバーコードを読み取るためのバーコードリーダ
（以下単にリーダと呼ぶ）２４が第１図のようにＺ方向
に移動するプレート７に設けられている。このリーダ２
４はケースＣＳからレチクルを引き出すＲ方向の運動中
に，レチクルのパターン領域の周辺に形成されたバーコ
ードを反射型のフォトセンサーで読み込むように構成さ
れている。そのバーコードは所謂レチクル情報と呼ば
れ，レチクルの識別を表わす１０〜５０文字分の情報量
を備えている。そのレチクル情報はステッパーＳＲに露
光プロセス管理上のデータとして読み込まれる。さらに
本実施例では，レチクル表面やペリクル表面に帯電によ
り付着する異物を防止する意味で，プレート７のケース
ＣＳ側にイオン発生器（イオナイザー）２９が設けられ
ている。イオン発生器２９はアーム２がケースＣＳから
レチクルを引き出す経路の上と下に，レチクルを挟むよ
うに配置され，通過するレチクルの上面と下面にイオン
化された気体を噴射する。このイオン発生器２９はプレ
ート７とともにＺ方向に移動するので，アーム２がレチ
クルをペリクルチェッカーＰＲＣ内に搬入するときと搬
出するときとの両方の場合にも同様にイオン化された気
体をレチクルに噴射する。
ところで本実施例においては，レチクルの搬送用のアー
ム２が，ペリクルチェッカーＰＲＣ内におけるレチクル
の一次元走査を兼用して行なうように構成される。そこ
でペリクルチェッカーＰＲＣの具体的な構成を第３図に
基づいて説明する。第３図はペリクルチェッカーＰＲＣ
をレチクルの出入口側から見た斜視図である。同図にお
いてアーム２本のフォーク部には両面ペリクルのレチク
ル１が載置される。この場合レチクル１のパターン面
（クロム等が形成された面）は，下面であり，パターン
面の裏側（上面）のガラス面とともにペリクルフレーム
１ａ，１ｂが固着されている。アーム２の２本のフォー
ム部の間隔はフレーム１ｂがぶつかることなくはさみ込
まれる程度に定められる。またフレーム１ａと１ｂの高
さは予め正確に定めており，両面のペリクルの間隔はど
のレチクルにおいても同一になるように定められてい
る。さて，ペリクルチェッカーＰＲＣ内には，２つの半
導体レーザ光源５０，５１と，各レーザ光源からのレー
ザ光をほぼ平行に集光されたレーザ光ＬＢ１，ＬＢ２に
形成するレンズ系５２，５３と，このレンズ系５２，５
３からの平行なレーザ光ＬＢ１，ＬＢ２をそれぞれ上面
のペリクルと下面のペリクルとにほぼ水平に照射するよ
うに反射するミラー５４，５５とから成るレーザ光送光
系が設けられている。そしてレーザ光ＬＢ１，ＬＢ２に
よりペリクル上の照射軌道Ｓ１はアーム２のＲ方向の移
動に対して直交する方向に細長く伸びるように定められ
る。さらに，ペリクル上を照射したレーザ光ＬＢ１，Ｌ
Ｂ２は夫々ミラー５６，５７で反射された後，ペリクル
チェッカーＰＲＣ内での迷光とならないように光トラッ
プ５８に入射し，この光トラップ５８内に吸収される。
ここでレーザ光ＬＢ１，ＬＢ２の照射軌道Ｓ１上での上
下方向の間隔は、上下面のペリクルの間隔と等しく定め
られている。従ってアーム２をＺ方向の所定位置に定め
て，アーム２をＲ方向に進めると，レーザ光ＬＢ１，Ｌ
Ｂ２によって、上下面のペリクルが同時に走査されるこ
とになる。さて，レーザ光の照射軌道Ｓ１上に異物が存
在すると，その異物からは指向性の弱い散乱光が発生す
る。そこで本実施例では，照射軌道Ｓ１を縮小結像する
集光レンズ５９と，照射軌道Ｓ１の像を受光する一次元
フォトアレイ６０とを光電検出系として設ける。ここで
集光レンズ５９の光軸ＡＸは照射軌道Ｓ１のほぼ中央を
見込み、かつ光軸ＡＸのペリクル面と成す角度θが９０
゜以下の鋭角，好ましくは１０〜２０゜程度になるよう
に定められている。一次元フォトアレイ６０は例えば自
己走査型のＣＣＤアレイであり，照射軌道Ｓ１を長手方
向に複数個の領域に分割し，各領域からの散乱光を個別
に受光するような複数の受光素子（画素）を備える。そ
して，アーム２のＲ方向の単位移動に（例えば１mm）毎
に同期して一次元フォトアレイ６０の各画素を読み出す
ことによって，照射軌道Ｓ１上の異物の位置や大きさを
検出することができる。このときアーム２のＲ方向の移
動量を読み取るような手段（エンコーダ等）を駆動部１
０内に設けることによって，ペリクル上の異物の２次元
的な位置が検出できる。尚，本実施例では下面のペリク
ルの異物についても全く同様の光電検出系が設けられて
いて，上下面のペリクルをアーム２の一回の走査，具体
的にはレチクル１を一度奥まで入れた後，レチクル１を
引き出す走査のときに同時に実行できるため，検査時間
は大幅に短縮される。しかもペリクル検査の場合，精度
はそれ程要求されないので，スポット光を振動ミラーや
ポリゴン鏡等で走査するパーティクルチェッカーＰＣの
検査時間よりも格段に高速な検査が可能である。その具
体的な数値を例示してみると，一次元フォトアレイ６０
の読み出しサイクルを１／６０秒，ペリクル面のＲ方向
の長さを１０cm，そして，一次元フォトアレイ６０の１
画素が受光するペリクル面上の領域を１００μｍ×１０
０μｍとすれば，ペリクル面の全面を検査するのに要す
る時間は最高でも１６．６秒（１／６０×１００／０．
１）になる。もちろん１画素が受光する領域を上記の２
倍にすれば，１０秒以下の高速検査が可能である。ただ
し検査時間を決定する要因にはアーム２の移動速度と，
その直進安定性等が含まれる。特にアーム２のＺ方向の
ずれやたわみについては直接検査結果のエラーにつなが
る。
そこで本実施例においては，ペリクルチェッカーＰＲＣ
の出入口付近にアーム２の高さの位置が適正か否かを検
出するフォトセンサーを設ける。第４図はそのフォトセ
ンサーの配置とアーム２との関係を示す斜視図である。
尚同図においてはアーム２に載置されるレチクルの図示
は省略した。アーム２の２本のフォーク部２ａ，２ｂの
うち２ａ側の先端の側面には，ガラスの小片６２をはり
つける。このガラス小片６２にはＲ方向に線状に伸びた
クロム等の反射性パターンが形成されている。反射型の
フォトセンサー６３は，アーム２がＺ方向の規定位置に
配置したとき，ガラス小片６２の反射パターンからの反
射光を最も強く受光するように設けられている。従っ
て、フォトセンサー６３の光電出力が最も大きくなるよ
うに，アーム２のＺ方向の位置を駆動部１２によって定
めてから，アーム２をＲ方向に走査すれば、２本のレー
ザ光ＬＢ１，ＬＢ２の夫々は，上下面のペリクル表面の
夫々に正確に照射される。
またアーム２は水平面に対してＲ方向と直交する方向に
傾くことも考えられる。そこで，アーム２のもう１本の
フォーク２ｂの先端にも同様のガラス小片を設け，これ
をフォトセンサーで検出するようにし，２つのフォトセ
ンサーの出力からアーム２の傾きを検出することが望ま
しい。さらにアーム２はレチクルの重量等によって水平
面に対してＲ方向に傾くことも起こり得る。その場合は
例えばフォーク部２ａ（又は２ｂ）の側面のＲ方向に沿
った複数ヶ所にガラス小片６２をはり付け，アーム２の
Ｚ方向の位置は固定したまま，アーム２をＲ方向に移動
させ，フォトセンサー６３の出力が，ガラス小片６２の
通過のたびにどのように変化するかを検出すればよい。
あるいはガラス小片６２がフォトセンサー６３と対向す
るようにアーム２をＲ方向に位置決めした後，アーム２
をＺ方向に微小に上下し，光電出力が最大になったＺ位
置を記憶することを，フォーク部２ａ（又は２ｂ）の側
面に設けた各ガラス小片６２ごとに行うことによっても
同様に傾き検出ができる。さらに，このようなフォトセ
ンサー６３をペリクルチェッカーＰＲＣ内のアーム２の
所定通過経路中に複数個配置しておけば，ペリクル検査
中であっても時々刻々アーム２の姿勢，すなわちペリク
ル面の水平性が確認できることになり，検査の信頼性は
一段と向上する。
ところで，アーム２はレチクルを吸着した状態でＲ方向
に直進運動するとともに旋回運動も行う。このためアー
ム２のフォーク部２ａ，２ｂに真空系を導くためにチュ
ーブの引き回しに何らかの工夫をしておかないと，アー
ム２の運動によってチューブを他の機構部分に引っかけ
てしまい，機械系のトラブルを引き起こすことになる。
本実施例ではガイドプレート５の一部にそのチューブの
巻き取り機構を設け，チューブがアーム２の運動によっ
てたるんだり，からまったりしないようにした。第５図
はその巻き取り機構の概略的な構成を示す斜視図であ
り，第６図はその部分断面を示す図である。アーム２を
Ｒ方向に移動する水平移動部４はガイドプレート５上に
設けられ，その水平移動部４内を貫通してアーム２のフ
ォーク部２ａ，２ｂまで真空引きのための配管がなされ
ている。そして水平移動部４の配管終端からは真空引き
のためのチューブ２１がガイドプレート５に沿って後方
に伸び，ガイドプレート５の他端下部に回転自在に軸支
された２つのプーリ２２ｂ，２２ａを介してＵの字状に
折り返され，巻き取り用のプーリ２３に巻き取られるよ
うに装架されている、このプーリ２３は，ガイドプレー
ト５の下側に水平回転機構部６によるガイドプレート５
の回転中心と同軸に回転自在に設けられ、しかも水平移
動部４のＲ方向の移動に対して機械的に干渉しないよう
に配置されている。そしてプーリ２３は常にチューブ２
１を巻き取る回転方向に付勢されている。プーリ２３は
第６図に示すようにガイドプレート５に軸２３ａを介し
て軸支され，その軸２３ａのまわりに同軸にねじりつる
巻きバネ２９が設けられている。ねじりつる巻きバネ２
９は一端はガイドプレート５に固定され，他端はプーリ
２３に固定され，プーリ２３を常に一方向に回転付勢す
る。また，プーリ２３に巻き取られるチューブ２１の先
端は，プーリ２３の回転軸中心に沿ってほぼ同軸に引き
出され，回転ジョイント７０を介してチューブ７１と接
続される。チューブ７１は不図示の真空排気系につなが
る。
以上のような構成でアーム２がＲ方向に移動すると，プ
ーリ２３はガイドプレート５に対して回転して，チュー
ブ２１の巻き取り，又は送り出しを行なう。またアーム
２をＲ方向に移動させることなく，ガイドプレート５を
θ方向に回転させる場合，プーリ２３はガイドプレート
５の回転と一体となって回転する。このように，チュー
ブ２１，７１の引き出し位置をガイドプレート５の回転
中心とほぼ一致させることによって，引き出したチュー
ブ７１のよじれやからみ等が防止され，機械系のトラブ
ルがなくなる。
さて，アーム２によって搬送されるレチクルは必要に応
じて装置に対する位置決めが行なわれる。第７図は位置
決め機構１５の構成を示す斜視図であり，第８図はその
断面図である。レチクルと同じような大きさ形状のベー
ス板８１の４辺には，エアシリンダ８０によって揺動す
ると共にローラ１５ａを下部に軸支する揺動部１５ｂが
設けられる。このローラ１５ａによってレチクルのガラ
ス端面を挟持するようにつかむことによって，レチクル
の位置決めが行なわれる。この位置決めのために，揺動
部１５ｂの位置を規制するストッパー８２ａ，８２ｂが
設けられている。以上までの構成は特開昭５７−６４９
３０号公報に開示されたものと同一である。本実施例で
はベース板８１の下面にペリクル付きレチクルか否かを
検出するための反射型フォトセンサー８５を設けた。こ
のフォトセンサー８５は，第８図に示すように，ローラ
１５ａがレチクルを挟持したとき，レチクルの上面のペ
リクルフレーム１ａの上端面に光を照射し，その反射光
を受光するように配置される。また，ベース板８１の下
面からローラ５１ａまでの高さ方向の間隔は，搬送され
るペリクル付きレチクルのフレームの高さ寸法よりも大
きくなるように定められる。
このような構成において，レチクルを位置決めする際，
まずアーム２を位置決め機構１５の下方に位置させた
後，アームをＺ方向に上昇させる。このときローラ１５
ａを開いた状態であり，レチクルがローラ１５ａと同一
の高さになった時点でアーム２の上昇を停止する。そし
て第５図，第６図に示したチューブ２１による真空吸着
を解除して，レチクルがアーム２のフォーク部２ａ，２
ｂ上で水平面内で自由に移動できるようにする。次にシ
リンダー８０を作動させてローラ１５ａをレチクルの端
面に押圧して，レチクルの位置決めを行なう。このとき
レチクルはフォーク部２ａ，２ｂ上をわずかに摺動する
ことになるので，レチクルと接触する部分，例えば真空
吸着孔のまわりにはテフロンやデルリン等の合成樹脂を
設けるとよい。そしてローラ１５ａがレチクルを挟持し
ている状態で，フォーク部２ａ，２ｂは再びレチクルの
真空吸着を開始し，最後にローラ１５ａを開いて一連の
位置め動作を完了する。尚，この位置決め動作は，レチ
クルをケースＣＳから取り出した直後，あるいはレチク
ルをケースＣＳに戻す直前に行なうことが望ましい。ま
た各装置間でのレチクルの受け渡し精度を保つために
も，必要に応じてレチクルの位置決めを行なえばよい。
次に本実施例の装置による搬送シーケンスを説明する。
ペリクル付きレチクルをステッパーＳＲに搬送する場合
は，アーム２を所望のケースＣＳの扉の前に位置決めす
る。Ｚ方向に移動するプレート７上には特開昭５７−６
４９３０号公報に開示された扉開閉機構が設けられてお
り，アーム２が位置決めされたケースＣＳの扉のみが開
かれる。その後アーム２がケースＣＳ内のレチクル１の
下側に進入し，フォーク部２ａ，２ｂによる真空吸着で
レチクル１をアーム２上に載置して，ケースＣＳ内から
水平に外部に取り出す。そしてアーム２は位置決め機構
１５の直下まで駆動部１０によりＲ方向に移動した後，
駆動部１２によりＺ方向に上昇し，第８図に示した通り
レチクル１を位置決めする。次にアーム２はそのまま最
下部のペリクルチェッカーＰＲＣの位置まで降下し，さ
らにＲ方向に移動して，第３図第４図に示した通りペリ
クル上の異物検査を行なうべく，ペリクルチェッカーＰ
ＲＣ内でレチクル１を水平に走査する。この検査におい
て，ステッパーＳＲで解像，転写される程の異物が発見
された場合，アーム２はそのレチクル１を元のケースＣ
Ｓに戻すように移動する。異物がないか，あるいは存在
したとしても転写に影響する程のことではないと判断さ
れると，アーム２はペリクルチェッカーＰＲＣ内から引
き出された後，水平回転機構部６の作動によって，第１
図の位置から反時計方向に９０゜だけ旋回させられ，Ｚ
方向に上昇してステッパーＳＲのステージ３０ａへの受
け渡しの高さ位置で停止する。そしてアーム２はＲ方向
に移動して，レチクル１をステージ３０ａ上に載置す
る。尚，アーム２がペリクルチェッカーＰＲＣ内から引
き出された後，Ｚ方向に上昇してから反時計方向に９０
゜だけ旋回するようなシーケンスとしても同様である。
さて，ペリクルのないレチクルの場合は，ペリクルチェ
ッカーＰＲＣの代りにパーティクルチェッカーＰＣに搬
送されて異物検査された後，ステッパーＳＲに送り込ま
れる。その場合，レチクルを位置決めした後，アーム２
をパーティクルチェッカーＰＣのスライダー１８の高さ
位置まで降下させた後，第１図のような状態からガイド
プレート５を反時計方向に１８０゜だけ回転させる。こ
のときスライダー１８はパーティクルチェッカーＰＣ内
から最も外に引き出されており，アーム２はそのスライ
ダー１８と干渉しないように，スライダー１８のわずか
上方を旋回して，レチクル１をスライダー１８の直上に
位置させる。尚，このシーケンスは逆でもよく，アーム
２が１８０゜だけ旋回した後，アーム２の下側にスライ
ダー１８が引き出されるようにしてもよい。次にフォー
ム部２ａ，２ｂの真空吸着が解除されてアーム２が降下
されると，アーム２のフォーム部２ａ，２ｂはスライダ
ー１８のコの字形の内部をすりぬけて，レチクル１の周
辺部はスライダー１８上に載置される。次にパーティク
ルチェッカーＰＣ内にスライダー１８が進入し，所定の
異物検査が行なわれる。異物がないときはスライダー１
８が最も引き出された位置で，待期していたアーム２が
上昇してレチクル１を受け取り，レチクル１を第１図に
おいて時計方向に９０゜だけ旋回させた後，ステッパー
ＳＲに送り込む。もちろん異物の付着が認められたとき
は，アーム２が時計方向に１８０゜だけ旋回して，その
レチクル１は元のケースＣＳに戻される。
尚，第１図に示したバーコードリーダ２４はステッパー
ＳＲの内部に設けてもよく，送り込まれたレチクルが正
しいものか否か判断する。ただし，第１図のようにリー
ダ２４を設ければ，アーム２の直進運動だけでレチクル
の確認と，正しくないレチクルのケースＣＳへの再収納
ができ，高速である。リーダ２４はレチクルのケースＣ
Ｓからの引き出し方向と直交する方向に伸びたスリット
状の光像をレチクルの裏面（パターン面）に投射し，反
射性のクロムで形成されたバーコートからの反射光を受
光するように構成されている。またレチクル上のバーコ
ードは，パターン領域の周辺でフォーク部２ａ，２ｂに
よって遮光されないような位置に設けられる。
以上，本実施例の説明をしたが，例えばパーティクルチ
ェッカーＰＲＣはペリクルのないレチクルについての異
物検査もある程度行なえる。第３図のように検査のため
のレーザ光ＬＢ１，ＬＢ２はレチクルの上下に平行に照
射されているので，例えばレチクルのパターンの形成さ
れていないガラス面側については，ペリクル表面の異物
検査と同様に検査できる。この場合は、アーム２の高さ
を検出するフォトセンサー６３（第４図参照）を使っ
て，レチクルのガラス面とレーザ光ＬＢ１との高さが一
致するように，アーム２をＺ方向に調整すればよい。ま
た，レーザ光ＬＢ１とＬＢ２の間隔を十分にあけてお
き，レチクルの進入時にはレーザ光ＬＢ１によって上面
のペリクル面を走査し，レチクルの引き出し時には，レ
チクルを少し下げてからレーザ光ＬＢ２によって下面の
ペリクル面を走査するようにしてもよい。
さらに本実施例のパーティクルチェッカーＰＣはレチク
ルの一次元走査のために専用のスライダー１８を備えて
いる。これは，そのようなスポット光走査型の検出分解
能の高い異物検査装置では，レチクルの一次元移動の精
度もかなり高くする必要があるからである。しかしなが
ら，パーティクルチェッカーＰＣ内に進入してきたアー
ム２のフォーク部２ａ，２ｂを，Ｒ方向とＺ方向の直進
安定性が向上するように支持するローラやガイド部を設
ければ，専用のスライダー１８は不用となり，レチクル
の受け渡し回数はさらに減る。
また，ライブラリＲＬはケースＣＳが装置全体の正面側
から装着できるように配置してもよい。すなわちライブ
ラリＲＬを第１図の位置から，ガイドプレート５の回転
軸を中心に時計方向に９０゜だけ回転した位置に設け
る。この場合，ケースＣＳの扉はステッパーＳＲと対向
することになる。
さらに本実施例ではステッパー等のようにレチクルを用
いてウェハ等の加工片に処理を加える装置に好適な搬送
装置として説明したが，レチクルやマスク自体に何らか
の処理を加える装置，例えばレチクルの洗浄装置，パタ
ーンの修正装置等と異物検査装置とを組み合わせた場合
の搬送装置としても同様の効果が得られる。またペリク
ルチェッカーＰＲＣにおいては，フォトセンサー６３で
アーム２の高さ位置や傾きを検出することによって，ペ
リクル面とレーザ光ＬＢ１，ＬＢ２とを一致させていた
が，ペリクル面の高さ位置を直線検出するようなセンサ
ーを設けるようにすれば，ペリクルフレームの高さがど
のようなものであっても，同様の検査が可能である。さ
らに位置決め機構１５に設けられたフォトセンサー８５
は反射型以外に透過型にしてもよい。その場合はペリク
ルフレームの側面に光が投射されるようにし，その光を
ペリクルフレームの反対側で受光するようなフォトセン
サーとする。そしてペリクルフレームによって光が遮断
されるか否かによって，ペリクル付きレチクルかどうか
を判断する。
（発明の効果） 以上本発明によれば，露光装置等の処理装置へマスクや
レチクル等の基板を搬送する途中で，その基板（ペリク
ル付きも含む）に付着した異物を検査する際，搬送用の
保持部（アーム）が基板を保持したまま，異物検査装置
（ペリクルチェッカー等）内に進入して，そのまま異物
検査のための一次元走査を行なうようにしたので，異物
検査時の基板の受け渡し動作が不要となり，この受け渡
しに伴う時間的なロスがなく，露光装置等におけるマス
クやレチクルの交換作業がより高速になるといった効果
がある。また，不用な受け渡し動作がないため，保持部
が基板を露光装置等に載置する精度にバラつきが生じる
ことがなく，露光装置側での基板の位置決めがスムーズ
に行なえるといった利点もある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の実施例による搬送装置の概略的な構成
を示す平面図，第２図は第１図の正面図，第３図はペリ
クル上の異物検査を行なうペリクルチェッカーの構成を
示す斜視図，第４図はアームのたわみ，ねじれ又は傾き
を検出するフォトセンサーの配置を示す斜視図，第５図
はレチクルをアームに真空吸着するために引き回される
真空系のチューブの巻き取り機構の構造を示す斜視図，
第６図は巻き取り機構の部分断面図，第７図はレチクル
の位置決め機構の構造を示す斜視図，第８図はその位置
決め機構によるレチクルの保持状態を示す横断面図であ
る。 〔主要部分の符号の説明〕 １……レチクル １ａ，１ｂ……ペリクルフレーム ２……搬送アーム、４……水平移動部 ６……回転駆動部， ＲＬ……レチクルライブラリ ＣＳ……ケース ＰＣ……パーティクルチェッカー ＰＲＣ……ペリクルチェッカー ＳＲ……ステッパー

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】半導体製造用のマスク又はレチクル等の基
    板を略水平に収納する収納手段と、該基板を移動させな
    がら該基板の異物や傷等の欠陥を検査する検査手段との
    間で前記基板を搬送する装置において、 前記基板を保持するための保持部材と； 前記保持部材を直進移動させる搬送手段とを有し、 前記搬送手段は、前記保持部材を水平方向に移動させて
    前記収納手段に前記基板を搬入するか又は前記収納手段
    から前記基板を搬出し、 前記基板を保持した前記保持部材を前記収納手段と前記
    検査手段との間で移動させ、 前記検査装置に前記基板を挿入する際もしくは検査装置
    から前記基板を退出させる際及び前記欠陥を検査中に前
    記基板を保持した前記保持部材を直進移動させることを
    特徴とする基板の搬送装置。
  2. 【請求項２】前記保持部材は前記基板を略水平に保持す
    るための保持部材であることを特徴とする特許請求の範
    囲第１項に記載の基板搬送装置。
  3. 【請求項３】前記収納手段と前記検査部とは垂直方向に
    並んで設けられ、前記搬送手段は前記保持部材を水平方
    向に移動して前記収納手段に前記基板を搬入するか又は
    前記収納手段から前記基板を搬出し、 前記基板を載置した前記保持部材を垂直方向に移動し、
    前記収納手段と前記検査手段との間で前記基板を搬送
    し、 前記保持部材以外への前記基板の受渡し動作を行うこと
    なく前記基板の欠陥を検査中に前記基板を保持した前記
    保持部材を前記水平方向に移動して前記欠陥の検査を行
    うことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の基板
    の搬送装置。
  4. 【請求項４】前記基板は枠部材を介して張設された透明
    な薄膜を有し、前記検査装置は前記薄膜上の欠陥を検査
    することを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の基
    板の搬送装置。
  5. 【請求項５】前記検査手段は前記保持部材の傾きを検出
    する検出部を有することを特徴とする特許請求の範囲第
    １項に記載の基板の搬送装置。
  6. 【請求項６】前記基板の水平方向の移動経路を挟んで上
    下に前記基板と対向して配置され、前記基板表面にイオ
    ン化された気体を噴射するイオン発生器が設けられてい
    ることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の基板
    搬送装置。
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