JPH04206746A - ボンディング装置 - Google Patents

ボンディング装置

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JPH04206746A
JPH04206746A JP2336610A JP33661090A JPH04206746A JP H04206746 A JPH04206746 A JP H04206746A JP 2336610 A JP2336610 A JP 2336610A JP 33661090 A JP33661090 A JP 33661090A JP H04206746 A JPH04206746 A JP H04206746A
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小澤 寛治
Yukitaka Sonoda
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、チップをリードフレーム又は基板にボンディ
ングするチップボンディング、固形デバイスの外部リー
ドをリードフレーム又は基板にボンディングする外部リ
ードボンディング、チップをテープキャリアに設けられ
た内部リードにボンディングするする内部リードボンデ
ィング等のように、2つの部品をボンディングするボン
ディング方法及びその装置に係り、特に2つの部品の位
置ずれを補正して整合させる整合方法及びその装置に関
する。
[従来の技術] 2つの部品をボンディングする場合、一方の部品に対し
て他方の部品の位置ずれを検出装置で検出し、この検出
結果に基づいて位置ずれを修正して2つの部品の位置整
合を行う必要がある。
従来、一方の部品を吸着保持して他方の部品上に移送さ
せてボンディングするボンディング装置においては、例
えば特公平2−26379号公報に示すように、一方の
部品はボンディング位置でパターンを検出し、他方の部
品は前記ボンディング位置より離れた位置でパターンを
検出し、両者の相対的な位置ずれを補正するように吸着
保持して移送させる部品を他方の部品の上方に移送させ
て位置整合させている。
[発明が解決しようとする課題] 上記従来技術は、一方の部品を他方の部品より遠く離れ
た位置で位置ずれを検出するので、該部品の検査位置か
らボンディング位置(他方の部品の上方)に移送した場
合、移送手段の機械的な動作誤差により、2つの部品の
高精度な位置整合が行えないという問題点があった。
本発明の目的は、2つの部品の高精度な位置整合が行え
るボンディング方法及びその装置を提供することにある
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するためのボンディング方法は、1つの
部品を他の部品の上方又は下方に移送する移送工程と、
前記2つの部品のパターンを検出する検出工程と、この
検出工程の検出結果に基づいていずれか一方の部品を基
準として2つの部品を位置整合させる位置整合工程と、
この位置整合された2つの部品をボンディングするボン
ディング工程とを有するボンディング方法において、前
記検出工程は、1つの部品が移送されて他の部品の上方
又は下方に移送された状態で、上下に検出口を看する検
出装置を前記2つの部品間に位置させて2つの部品の相
対的な位置ずれを検出することを特徴とする。
上記目的を達成するためのボンディング装置は、1つの
部品を保持して他の部品の上方又は下方に移送して位置
整合させ、2つの部品をボンディングするボンディング
装置において、上下に検出口を有し、1つの部品の上方
又は下方に他の部品が位置させられた状態で、該2つの
部品間に移動させられて前記上下の検出口でそれぞれ上
下の部品のパターンを検出する検出装置を備えたことを
特徴とする。
[作用] 上記ボンディング方法及びその装置によれば。
ボンディングされる2つの部品が上下に位置させられた
状態で、該2つの部品間に検出装置を位置させて検出す
るので、位置ずれ検出後は部品をゎずかに移動させるの
みでよい、即ち、検出装置に上下に設けられた検出口が
同軸上にある場合には、位置ずれ量のみ部品を移動させ
る。また上下の検出口がオフ上−2トされている場合に
は、位置ずれ量に前記オフセット量を加えた量だけ部品
を移動させればよい。
[実施例] 以下、本発明の一実施例を第1図乃至第6図により説明
する0本実施例は、基板lにチップ2をボンディングす
るチップボンディングに適用した例を示す。
第1図及び第2図に示すように、基板lは、ホットプレ
ート3及びヒータブロック4等よりなる試料台5に位置
決め保持される。チップ2は。
図示しないチップピックアップ位置よりボンディングツ
ール6によって吸着保持されて基板lの上方に移送され
、ボンディングツール6が下降して基板1にチップ2が
ボンディングされる。
基板1とチップ2との位置ずれを検出する検査装置10
は1周知のXステージ11とYステージl2とからなる
XYステージ13のXステージ11に上下スライダー1
4を介して上下位置調整可能に取付けられており、第3
図乃至第6図に示すような構造となっている。光学系を
内部に収納するケース15は、下方が開放したケース本
体15aと、このケース本体15aの下面に固定された
裏蓋15bとからなっている。
ケース本体15aの上面には、第3図及び第4図に示す
ように、第1の上側ランプホルダ20Aと第1の下側ラ
ンプホルダ20Bとが隣接して軸心が垂直になるように
取付けられ、第1の上側ランプホルダ20A及び第1の
下側ランプホルダ20Bの上端側には、それぞれ第2の
上側ランプホルダ21A及び第2の下側ランプホルダ2
1Bがねじ螺合され、更に第2の上側ランプホルダ21
A及び第2の下側ランプホルダ21Bの上端側には、上
側ランプ22A及び下側ランプ22Bが取付けられてい
る。前記第1の上側ランプホルダ20A及び第2の上側
ランプホルダ21Aの下端側には、それぞれ上側ランプ
22Aの照明光70Aを平行な投射光71Aとする集光
レンズ23A、集光レンズ24Aが取付けられ、更に集
光レンズ23Aの下方には垂直な投射光71Aを水平方
向に投射光72Aとして90度反射させるプリズム25
Aが配設されている。前記第1の下側ランプホルダ20
B及び第2の下側ランプホルダ21Bの下端側にも同様
に、それぞれ下側ランプ22Bの照明光70Bを平行な
投射光71Bとする集光レンズ23B、集光レンズ24
Bが取付けられ、更に集光レンズ23Bの下方には、垂
直な投射光71Bを前記投射光72Aと同方向に投射光
72Bとして90度反射させるプリズム25Bが配設さ
れている。ここで、プリズム25A、25Bはケース1
5内に配設され、かつプリズム25Bは前記プリズム2
5Aより下方位置に配設されている。
またケース15内には、前記投射光72Aの光路上に上
側対物レンズ30Aと、この上側対物レンズ30Aの投
射光73Aを上側垂直に投射光74Aとして90度反射
させるプリズム31Aと、前記投射光72Bの光路上に
該投射光72Bを下側垂直に投射光73Bとして90度
反射させるプリズム31Bと、投射光73Bの光路上に
投射光74Bとする下側対物レンズ30Bが配設されて
いる。ここで、プリズム31A、31B及び下側対物レ
ンズ30Bは同一垂直軸心上に配設されている。即ち、
投射光74Aと74Bの光軸中心が一致するようになっ
ている。前記プリズム31A、31Bはプリズムホルダ
32に固定され、プリズムホルダ32はケース本体15
aに固定されている。上側対物レンズ30A及び下側対
物レンズ30Bは、それぞれレンズホルダ33A、33
Bに固定され、レンズホルダ33Aはプリズムホルダ3
2に固定され、レンズホルダ33Bは裏蓋15bに固定
されている。
従って、投射光74Aはチップ2に当って反射光80A
(第3図参照)となり、この反射光80Aはプリズム3
1A、上側対物レンズ30Aを通って反射光81Aとな
る。同様に、投射光74Bは基板1に当って反射光80
Bとなり、この反射光80Bは下側対物レンズ30B、
プリズム31Bを通って反射光81Bとなる。
プリズム25Aと上側対物レンズ30A間には、投射光
72Aを通過させると共に、反射光81Aを水平方向に
反射光82Aとして90度反射させるハーフミラ−4O
Aが配設されている。同様に、プリズム25Bとプリズ
ム31B間には、投射光72Bを通過させると共に、反
射光81Bを前記反射光82Aと同方向に反射光82B
として90度反射させるハーフミラ−40Bが配設され
ている。また反射光82Aの光路上には、wII3図、
第5図及び第6図に示すように、上側対物レンズ41A
と、この上側対物レンズ41Aの反射光83Aを水平方
向で前記投射光72Aと反対方向に反射光84Aとして
90度反射させるプリズム42Aが配設されている0反
射光82Bの光路上にも同様に、下側対物レンズ41B
と、この下側対物レンズ41Bの反射光83Bを前記反
射光84Aと同方向で、かつ該反射光84Aと同一垂直
面内に反射光84Bとして90度反射させるプリズム4
2Bが配設されている。また反射光84Aの光路上には
、反射光84Aを垂直上方に反射光85Aとして90度
反射させるプリズム43Aが配設され、このプリズム4
3Aの真下には、反射光84Bを前記反射光85Aと同
方向に反射光85Bとして90度反射させるプリズム4
3Bが配設されている。
プリズム43Aの上方でケース本体15aの上面には、
カメラホルダ50が固定され、このカメラホルダ50の
上端側にカメラ51が固定されている。また前記ハーフ
ミラ−4OA、40Bはミラーホルダ52(第45!i
、第6図参照)に固定され、上側対物レンズ41A、下
側対物レンズ41Bはレンズホルダ53に固定され、プ
リズム42A、プリズム42Bはそれぞれプリズムホル
ダ54A、54Bに固定され、更に前記ミラーホルダ5
2、レンズホルダ53及びプリズムホルダ54A、54
Bはそれぞれケース本体15aに固定されている。また
プリズム43A、43B(第5図参照)はプリズムホル
ダ55に固定され、プリズムホルダ55は前記カメラホ
ルダ50内に固定されている。
また第6図に示すように、上側対物レンズ41Aとプリ
ズム42AMには、シャッタBOAが配設されており、
シャッタ60Aはケース本体15aに固定されたンレノ
イド61Aによって回動させられるようになっている。
下側対物レンズ41Bとプリズム42B間にも同様に、
シャー、タロ0Bが配設され、シャー2タロ0Bはケー
ス本体15aに固定されたンレノイド61Bによって回
動させられるようになっている。
第4図に示すように、集光レンズ23A、24A及び2
3B、24Bは、それぞれ上側ランプ22人及び下側ラ
ンプ22Bの照明光70A及び照明光70Bを平行な投
射光71A及び投射光71Bとして作用し、上側対物レ
ンズ30A及び下側対物レンズ30Bは、それぞれ平行
な投射光72A及び投射光72Bをチップ2及び基板l
に焦点を結ぶ投射光74A及び投射光73Bとして作用
するようになっている。また第5図及び第6図に示すよ
うに、上側対物レンズ41A及び下側対物レンズ41B
は、それぞれ平行な反射光82A及び反射光82Bをカ
メラ51に焦点を結ぶ反射光85A及び反射光85Bと
して作用するようになっている。
次に作用について説明する。まず、ボンディング動作に
先立ち、検査装置10の光学系の焦点調整を行う、この
調整は、まず、ホットプレート3上に基板1を位置決め
載置し、チップ2を吸着保持したボンディングツール6
を基板1の上方に位置させた状態にし、基板lとチップ
2間に検査装置10の玉検出口16Aと下検出口16B
とが位置するようにXYステージ13を駆動する。
この状態で、初めに下側対物レンズ30Bによる投射光
74Bが基板lに焦点を結ぶように、上下スライダー1
4を上下動させて検査装置ioを上下動させ、焦点を結
んだ位置で上下スライダー14をxYステージ13に固
定する6次に上側対物レンズ3OAによる投射光74A
がチップ2に焦点を結ぶように、ボンディングツール6
を上下動させる図示しないボンディングツール上下駆動
手段を駆動させてボンディングツール6を上下動させ、
焦点を結んだ位置におけるボンディングツール6の上下
位置を図示しない記憶手段に検出位置として記憶させる
。以後、ボンディングツール6がチップ2を吸着して基
板lの上方に移動する場合、前記検出位置に位置させる
ようにする。このようにして検査装置10の光学系の焦
点調整が完了した後、通常のボンディング作業が行われ
る。検査装WIOは、通常、ホットプレート3の上方か
ら離れた位置にあり、またシャッタ6゜A、60Bは反
射光83A、83Bを遮蔽した状態にある。
次にボンディング動作について説明する。基板1が試料
台5のホットプレート3上に位置決めされ、またボンデ
ィングツール6が図示しないチップピックアップ位置よ
リチー2プ2を吸着保持して移送し、前記した基板l上
方の検出位置に位置すると、xYステージ13がXY力
方向移動されて検査装置10の玉検出口16Aと下検出
口16Bは基板1とチップ2間に位置する0次にソレノ
イド61Aが作動してシャー、タロ0Aが回動し、シャ
ッタ60Aは反射光83Aの光路外に位置する。
この状態においては、上側ランプ22Aの照明光70A
は、投射光71A、72A、73A、74Aとなってチ
ップ2に照射される。この投射光74Aは反射光80A
、81A、82A、83A、84A、85Aとなってカ
メラ51に入射され、カメラ51によってチー、ブ2の
位置が検出される0次にソレノイド61Bが作動してシ
ャー7り60Bが回動し、シャッタ60Bは反射光83
Bの光路外に位置する。下側ランプ22Bの照明光70
Bも同様に、投射光74Bとなって基板lに照射され、
投射光74Bが基板1によって反射した反射光80Bは
反射光85Bとなってカメラ51に入射され、基板lの
位置が検出される。
カメラ51が検出した反射光85A、85Bの映像は1
図示しない演算装置に入力、また図示しないテレビモこ
夕に映し出され、演算装置によって反射光85A、85
B、即ちチップ2と基板lとの位置ずれが算出される。
この算出された位置ずれの量に基づいて、ボンディング
ツール6をXY力方向駆動する駆動手段によってボンデ
ィングツール6はXY力方向駆動されてチップ2の位置
が補正される。
このようにして基板1に対するチー2ブ2の位置ずれが
補正されると、xYステージ13が駆動されて検査装置
10は基板lとチップ2間から退避させられ、またソレ
ノイド61A、61Bが作動してシャッタ60A、60
Bが反射光83A、83Bを遮蔽する0次にボンディン
グツール6が下降させられ、チップ2は基板lにボンデ
ィングされる。
このように、チップ2が基板lの上方に位置した実際の
ボンディング位置で基板1に対するチップ2の位置ずれ
を検出及び補正するので、ボンディングツール6をXY
力方向移動させる機械的な動作誤差の影響を受けなく、
高精度の位置整合が行える。
なお、上記説明は、基板1に対してチップ2の位置ずれ
を検出してチー2ブ2の位置を補正する場合について説
明したが、試料台5がxY力方向駆動される試料台駆動
手段を有するものでは、チップ2に対する基板1の位置
ずれを検出し、基板1側の位置ずれを補正するようにし
てもよい。
また上記実施例においては、チップ2と基板lとの2つ
のパターンの検出をシャッタ60A、60Bによって切
換えて1個のカメラ51に入力するようにしたが、それ
ぞれに対応してカメラを設け、各カメラによって検出さ
れた画像を合成装置によって合成し、この合成された画
像をテレビモニタで観察するようにしてもよい、しかし
、2個のカメラの画像を電気的に合成すると、同期信号
のわずかなずれから映像の歪みやノイズを生じ、2個の
カメラの増幅度も正確に一致させることは不可能である
ので、微細パターンの位置合せには適していない。
この点、本実施例に示すように、1g1のカメラ51で
2つの対象物(チップ2と基板l〕を観るようにすると
、位置合せの精度が極めて高くなる。また個別の対象像
を得る場合と、2つの対象像を得る場合の電気的、信号
的変位がない。
また本実施例においては、第2図、第4図及び第5図に
示すように、検査装置10には、ヒータ90を有する加
熱手段91が取付けられている。
そこで、加熱手段91によって検査装置lOを周囲温度
近くに加熱しておくと、始業時から終業時才で光学系の
熱変位が安定して、高精度化が実現できる。
ところで、投射光74Aと74Bの光軸中心を完全に一
致させることは困難である。即ち、2つの光学系の各部
品の取付は誤差及び2つの光学系の光路の周rMI1度
による光軸ずれ等が生じる。
本実施例においては、!15!I及び第7図に示すよう
に、検査装置lOの検出口16A、16Bから投射され
る投射光74Aと74Bの光軸中心を検査する原器95
が設けられている。この原器95は、コ字形をしており
、上下に同軸で数pmの太さのクロスマーク96A、9
6B入のガラス板97A、97Bを有している。
そこで、ボンディング動作に先立ち、まず検査装置lO
の検出口16Aと16Bが原器95のガラス板97A、
97B間に位置するようにxYステージ13が駆動され
る。そして、ランプホルダ20Aと20Bによる投射光
74Aと74Bより、ガラス板97Aと97Bのクロス
マーク96A、96Bによる反射光80Aと80Bがカ
メラ51によって検出され、投射光74Aと74Bの光
軸中心のずれ量が検出される。このずれ量は、第8図に
示すように、上側クロスマーク96Aと下側クロスマー
ク96Bのずれ量ΔX、Δyとして検出され、このずれ
量ΔX、Δyをボンディングの位置データに加算するこ
とで、光学系のドリフト分をキャンセルする。その後、
通常のボンディングに移る。
また検査装置lOの光学系の光軸ずれは、周囲温度によ
っても変化するので、ボンディングが指定ボンディング
回数に達すると、検査装置10を前記したように原器9
5の位置へ移動させ、前記したようにして光軸ずれを検
査してボンディングの位置データを補正し、次回のボン
ディング動作においてはこの補正したデータによって行
う。
第10図は本発明の他の実施例を示す、前記実施例は、
第9図に示すように、投射光74Aと74Bが同軸にな
るように検出口16Aと16Bを形成した。このため、
プリズム31Aと31Bとは上下に配置する必要があり
、検査装置10の厚さはWlと厚くなる。これに対して
本実施例は。
検出口16Aと16Bとは長さLだけオフセットして形
成されている。このため、プリズム31Aと31Bとは
平面的に配置することができ、検査装置10の厚さは前
記W、より薄いW2とすることができる。
従って、本実施例における検査の場合は、検出口16B
を基板1の上方に位置させ、チップ2が検出口16Bよ
りオフセットされた検出口16Aの上方にくるようにボ
ンディングツール6を移動させる必要がある。また基板
lとチップ2との位置ずれを検出した後は、このずれ量
に前記したオフセット量りを加えて基板1とチップ2と
を位置整合させた後にボンディングする必要がある。
なお、上記各実施例においては、チップボンディングの
場合について説明したが、外部リードボンディング、内
部リードボンディング等にも同様に適用できることは言
うまでもない、内部リードボンディングの場合には、チ
ップをテープキャリアの下方に移送させて位置ずれを検
出することになる。即ち、1つの部品の下方に他の部品
を移送させて両者の位置ずれを検出することになる。
[発明の効果] 以上の説明から明らかなように1本発明によれば、ボン
ディングされる2つの部品が上下に位置させられた状態
で、該2つの部品間に検出装置を位置させて検出するの
で、検出後に部品をXY力方向移動させる機械的な動作
誤差の影響を受けなく、高精度の位置整合が行える。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す外観斜視図。 第2図は第1図の正面図、第3図は光学系の説明図、第
4図は第1図のC−C線断面拡大図、第5図は第1図の
D−D線断面拡大図、第6図は第4図のE−E線断面図
、第7図は原器の斜視図、第8図は光軸ずれを示す説明
図、第9図は検出口部分を示す説明図、第10図は本発
明の他の実施例を示す検出口部分の説明図である。 に基板、     2:チップ、 5:試料台、     6:ボンディングツール、lO
:検査装置、   13:XYステージ、16A:玉検
出口、  16B:下検出口、51:カメラ、   6
0A、60B=シヤツタ、61A、61B=ソレノイド
、 91:加熱手段。 一二] 一二一ご′1 代理人 弁理士 1)辺 良 徳 −5゜゛二一 第1図 1:11−坂 2: モト・ソフ0 5:iへ魁台 第4fi 第7図 16B:下槽出口 第8図 6A 第10図 第9図 5:1式料台 6;ボ゛〉テーイ〉7゛ツール 1o:輸盃菰1 16A:上膣飢口 16B:下才令出口

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)1つの部品を他の部品の上方又は下方に移送する
    移送工程と、前記2つの部品のパターンを検出する検出
    工程と、この検出工程の検出結果に基づいていずれか一
    方の部品を基準として2つの部品を位置整合させる位置
    整合工程と、この位置整合された2つの部品をボンディ
    ングするボンディング工程とを有するボンディング方法
    において、前記検出工程は、1つの部品が移送されて他
    の部品の上方又は下方に移送された状態で、上下に検出
    口を有する検出装置を前記2つの部品間に位置させて2
    つの部品の相対的な位置ずれを検出することを特徴とす
    るボンディング方法。
  2. (2)1つの部品を保持して他の部品の上方又は下方に
    移送して位置整合させ、2つの部品をボンディングする
    ボンディング装置において、上下に検出口を有し、1つ
    の部品の上方又は下方に他の部品が位置させられた状態
    で、該2つの部品間に移動させられて前記上下の検出口
    でそれぞれ上下の部品のパターンを検出する検出装置を
    備えたことを特徴とするボンディング装置。
  3. (3)前記検出装置は、XY方向に移動可能なXYステ
    ージに取付けられていることを特徴とする請求項2記載
    のボンディング装置。
  4. (4)前記検出装置は、上下の2つの部品のパターンを
    切換えてカメラに供給するために、それぞれの光学系の
    経路途中にシャッタ手段を有していることを特徴とする
    請求項2記載のボンディング装置。
  5. (5)前記検出装置は、該検出装置の熱的経時変位を補
    償するために、周囲温度近くに加熱しておく加熱手段を
    有することを特徴とする請求項2、3又は4記載のボン
    ディング装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019201006A (ja) * 2018-05-14 2019-11-21 パナソニックIpマネジメント株式会社 ボンディング装置

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5383118A (en) * 1992-09-23 1995-01-17 At&T Corp. Device alignment methods
US5407519A (en) * 1993-07-07 1995-04-18 Interserv Corp. Apparatus for manufacturing liquid crystal display screens
JP2941658B2 (ja) * 1994-07-08 1999-08-25 株式会社三協精機製作所 電子部品表面実装装置
US5699448A (en) * 1995-07-05 1997-12-16 Universal Instruments Corporation Split field optics for locating multiple components
JP3756580B2 (ja) * 1995-11-07 2006-03-15 セイコープレシジョン株式会社 多層基板の製造方法及びその製造装置
NL1003357C2 (nl) * 1996-06-17 1997-12-19 Fico Bv Overzetinrichting en samenstel van overzetinrichting en verwarming.
JPH11218412A (ja) * 1998-02-02 1999-08-10 Shinkawa Ltd ボンディング装置
JP2002093858A (ja) * 2000-09-14 2002-03-29 Toray Eng Co Ltd チップ実装装置及びそれにおけるキャリブレーション方法
US20080152919A1 (en) * 2006-12-22 2008-06-26 Magna International Inc. Resistive implant welding for structural bonds in automotive applications
EP2343165A1 (en) * 2010-01-07 2011-07-13 Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO System and method for picking and placement of chip dies
JP6382390B2 (ja) * 2016-05-10 2018-08-29 ハンミ セミコンダクター カンパニー リミテッド ビジョン検査装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58182718A (ja) * 1982-04-20 1983-10-25 Datsuku Eng Kk 位置合わせ装置
JPH0226379A (ja) * 1988-07-14 1990-01-29 Fuji Technica Inc 電磁ソレノイドバルブ
US5133603A (en) * 1988-10-18 1992-07-28 Canon Kabushiki Kaisha Device for observing alignment marks on a mask and wafer
US5044072A (en) * 1990-04-13 1991-09-03 Air-Vac Engineering Company, Inc. Vision system apparatus and method for component/pad alignment

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019201006A (ja) * 2018-05-14 2019-11-21 パナソニックIpマネジメント株式会社 ボンディング装置

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