JPH07288276A - 基板の位置決め装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ステージに対して基板をスループットを低下
させることなく、より高精度に位置決め可能とする。 【構成】 ステージ１上でウェハＷを保持するホルダー
２を回転可能に構成し、ウェハＷをステージ１の上方ま
で搬送してほぼ水平に保持する搬送アーム２０を設ける
とともに、この搬送アーム２０上のウェハＷの周縁部分
に光束を照射し、その光束をホルダー２上の光電検出器
１４、１５、１６で受光してそのウェハＷの回転誤差を
検出し、そのウェハＷをホルダー２上に載置するのに先
立ち、ホルダー２をその回転誤差に対応とした量だけ回
転させる駆動装置５を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェハやガラス
プレート等の基板をステージ上に位置決めする装置に関
し、特に半導体素子、液晶表示素子、撮像素子（ＣＣ
Ｄ）、薄膜磁気ヘッド、光磁気ディスク等のデバイスを
製造するための露光装置（ステッパー、アライナー等）
に好適な位置決め装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の半導体製造用の露光装置において
は、一般に感光基板（ウェハ）を露光ステージ（ウェハ
上に回路パターンを露光する際に、ウェハを保持してＸ
Ｙ平面内で２次元移動するステージ）上に載置する際、
ウェハの外周縁の位置を非接触で検出し、ウェハが露光
ステージの所定の位置に載置されるように、且つウェハ
のオリエンテーションフラット（以下、単に「フラッ
ト」と記す）の方向が露光ステージの一方の移動方向
（例えばＸ方向）に平行となるように位置決めするため
の位置決め装置が設けられている。

【０００３】露光ステージに対してウェハを非接触で位
置決めする従来技術は、例えば特開昭６３−２８０４３
５号公報に開示されている。この公報では、ウェハを露
光ステージ上に載置する前に、露光ステージの外部に設
けられたプリアライメント装置の回転テーブル上に配置
する。そして、ウェハを回転させてその外周形状を光電
的に検出し、ウェハの位置及びウェハのフラットの方向
を予め定められた位置及び方向となるように補正する。
しかる後、ウェハはその姿勢を維持したまま搬送アーム
によってプリアライメント装置から露光ステージに搬送
される。これにより、ウェハは露光ステージ上の所定位
置に、かつフラットの方向がステージの一方の移動方向
（Ｘ方向）に平行となるように位置決めされる。しかし
ながら、このような位置決め装置によって露光ステージ
上に載置されたウェハは、プリアライメント装置から搬
送アームに受け渡されるとき、及びその搬送アームから
露光ステージ上に受け渡される（載置される）ときの２
回の受渡しの際に、露光ステージに対するウェハの位
置、及びＸ方向に対するフラットの平行度が狂い、ウェ
ハ毎にその位置及び平行度は露光ステージに対して不揃
いになってしまう。

【０００４】また、上述の如きプリアライメント装置に
よってウェハの位置及びフラットの方向が補正されたウ
ェハを露光ステージ上に載置した後、さらに高い精度で
プリアライメントを行うために、露光ステージ上におけ
るウェハの位置、及びフラットの方向を検出する方法が
特開昭６３−１０７１３９号公報によって開示されてい
る。これは、ファインアライメント（ウェハと回路パタ
ーンの投影像との高精度な位置合せ）を行う際にウェハ
上のアライメントマークに対して照射するレーザー光束
を用いるもので、ステージ上に保持されたウェハのフラ
ット部分の互いに離れた２点、及びウェハの円周端縁の
２点を上記レーザー光束によって相対走査し、ステージ
の一方の移動方向（Ｘ方向）に対するフラットの回転誤
差量、及びフラット（ウェハ）のＸＹ座標位置を求め
る。そして、その回転誤差量に基づいてウェハを保持す
るウェハホルダーを回転させてウェハのフラットの方向
をＸ方向と一致させるものである。

【０００５】また、これとは異なり、プリアライメント
装置によって位置及びフラットの方向が補正されたウェ
ハを、露光ステージに搭載した後、露光ステージ上に設
けられた位置決めピンに機械的にウェハを押し当てる第
２のプリアライメント機構を設け、より高いプリアライ
メント精度を実現しようとする構成もあった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ファイ
ンアライメント用のレーザー光束を用いてウェハの位置
決めを行う場合、レーザー光束がウェハ上に照射される
照射位置までウェハの外周部における複数の測定点を移
動させなければならず、露光ステージの移動量が多くな
る分、スループットが低下してしまう。

【０００７】また、第２のプリアライメント機構によっ
てウェハ外周に機械的に接触してプリアライメントを行
う場合は、ウェハに付着したフォトレジスト等の異物を
装置内やウェハ上に飛びちらせることがあり、半導体チ
ップの歩留り向上に対する障害となっていた。また、外
部に設けるプリアライメント機構と、その外部のプリア
ライメント機構から露光ステージまでウェハを搬送する
搬送アームは、第２のプリアライメント機構がない場合
の構成と全く同じものを流用しているため、精度上の冗
長性があった。

【０００８】本発明は上記の如き問題点に鑑み、２次元
移動可能なステージに対して、ウェハ等の基板をスルー
プットを低下させることなく、高精度に位置決めするこ
とが可能な基板の位置決め装置を提供することを目的と
する。さらに詳しくは、基板を保持するホルダーに対し
て基板の外周の直線部分（フラット）が常に所定の方向
を向くように、基板を位置決めする装置を提供すること
を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】かかる問題点を解決する
ため本発明における基板の位置決め装置は、所定の基準
面内で２次元移動可能なステージ（１）と、ステージ
（１）上に回転可能に設けられ、外周の少なくとも一部
に直線部分を有する基板（Ｗ）を保持するホルダー
（２）とを備え、ホルダー（２）の回転位置が所定のニ
ュートラル位置にあるとき、基板（Ｗ）の直線部分が所
定の基準方向とほぼ平行となるように基板をホルダー
（２）上に保持するものであり、ステージ（１）が基準
面内の所定位置にあるとき、基板をステージ（１）の上
方で基準面とほぼ水平に保持する保持部材（２０）と、
この保持部材上の基板の直線部分に光束を照射する照射
手段（１１、１２、１３）と、その光束を基板に関して
照射手段と反対側で光電検出する受光手段（１４、１
５、１６）とを有し、かつ照射手段及び受光手段の一方
がホルダー（２）上に設けられ、受光手段からの光電信
号に基づいて、基準方向に対する基板の直線部分の相対
的な回転誤差を検出する回転誤差検出手段（１１〜１
６、ＭＣＳ）と、ホルダー（２）の回転位置をニュート
ラル位置から回転誤差に対応した量だけ回転させる駆動
手段（ＳＣ、５）とを設け、この駆動手段によってホル
ダー（２）を回転させた後、基板をホルダー（２）上に
載置するようにしたものである。

【００１０】さらに本発明における別の位置決め装置
は、所定の基準面内で２次元移動可能なステージ（１）
と、ステージ（１）上に設けられ、外周の少なくとも一
部に直線部分を有する基板（Ｗ）を保持するホルダー
（２）とを有し、基板（Ｗ）の直線部分が所定の基準方
向とほぼ平行となるように基板をホルダー（２）上に保
持するものであり、ステージ（１）が基準面内の所定位
置にあるとき、基板をステージ（１）の上方で基準面と
ほぼ水平に保持する保持部材（２０）と、この保持部材
上の基板の直線部分に光束を照射する照射手段（１１、
１２、１３）と、その光束を基板に関して照射手段と反
対側で光電検出する受光手段（１４、１５、１６）とを
有し、かつ照射手段及び受光手段の一方がホルダー
（２）上に設けられ、受光手段からの光電信号に基づい
て、基準方向に対する基板の直線部分の相対的な回転誤
差を検出する回転誤差検出手段（１１〜１６、ＭＣＳ）
と、その回転誤差が零となるように基板を回転させる駆
動手段（４５、ＨＣ）とを備え、この駆動手段によって
基板を回転させた後、基板をホルダー上に載置するよう
にしたものである。

【００１１】また、その駆動手段は、保持部材とホルダ
ーとの間での基板の受け渡しに用いられ、ホルダーに対
して相対的に回転可能な可動部材（６〜８又は４５）
と、回転誤差がほぼ零となるように基板を載置した可動
部材の回転を制御する装置（ＨＣ）とを有するようにし
てもよい。さらに、この回転された可動部材上の基板が
ホルダー上に載置されるようにそのホルダーと可動部材
とを相対移動する駆動部材を設けるようにしてもよい。

【００１２】さらに本発明における他の位置決め装置
は、所定面内で２次元移動可能なステージ（１）と、そ
のステージ上で基板（Ｗ）を保持するホルダー（２）と
を有するものであり、その基板を保持してステージの上
方に搬送する搬送手段（２０、２１）と；この搬送され
た基板を載置するとともに、ホルダーに対して相対的に
回転可能な可動部材（６〜８又は４５）と；その基板が
ホルダー上に載置されるように可動部材とホルダーとを
相対移動させる駆動部材と；基板に光ビームを照射して
該光ビームの少なくとも一部を光電検出することで基板
の所定の基準方向に対する相対的な回転誤差を検出する
手段（１１〜１６、ＭＣＳ）と；その回転誤差がほぼ零
となるように基板を載置した可動部材の回転を制御する
手段（ＨＣ）とを設けるようにしたものである。

【００１３】また、基板（Ｗ）は外周の少なくとも一部
に直線状の切欠きを有するとともに、検出手段は、搬送
手段又は可動部材に保持された基板の切欠きに光ビーム
を照射する照明系（１１〜１３）と、基板に関してその
照明系と反対側に配置されて該光ビームを光電検出する
受光系（１４〜１６）とを有し、照明系と受光系の一方
をステージに設けることが望ましい。さらに検出手段
は、搬送部材上に保持された基板の周縁部分を非接触で
光電的に検出して基板の位置を求めるようにし、基板を
可動部材に載置するのに先立ち、この求められた位置に
応じて搬送手段とステージとを相対移動する駆動系
（３、４）を更に設けることが望ましい。また、基板の
周縁部分を非接触で光電的に検出して基板の位置とその
直線部分の向きとの少なくとも一方を予備的に補正する
プリアライメント装置（３０）を更に設け、搬送手段に
よってこのプリアライメントされた基板をステージの上
方まで搬送することが望ましい。

【００１４】

【作用】本発明においては基板（Ｗ）をホルダー（２）
上に載置する前に、所定の位置（受け渡し位置）に配置
されたステージ（１）の上方で基板（Ｗ）を保持し、基
準方向に対する基板（Ｗ）の直線部分（フラット）の回
転誤差を回転誤差検出手段（１１〜１６、ＭＣＳ）によ
って検出する。そして、駆動手段（ＳＣ、５）が例えば
ホルダー（２）の回転位置をニュートラル位置からその
回転誤差に対応する量だけ回転させた後、基板をホルダ
ー上に載置する。そして、再びホルダーの回転位置をニ
ュートラル位置に戻すことにより、常に基板（Ｗ）の直
線部分の方向と基準方向とがほぼ平行となるようにウェ
ハをステージ上に位置決めすることができる。また、保
持部材（搬送手段）とホルダーとの間での基板の受け渡
しに用いられる支持部材を、ホルダーに対して相対的に
回転可能に構成する場合には、ホルダーに回転機構を設
ける場合に比べて簡易な構成で基板の回転誤差を零にす
ることができるとともに、ホルダーの回転機構が不要と
なってステージの剛性、即ちステージ上での基板の位置
的な安定性が高まるといった利点が得られる。また、基
板の位置とその直線部分の向きとの少なくとも一方を予
備的に補正するプリアライメント装置を更に設ける場合
には、このプリアライメントされた基板がステージの上
方まで搬送されるので、ホルダーや支持部材（可動部
材）の可動範囲（回転量）が小さくて済むという利点も
ある。

【００１５】

【実施例】図１は、本発明の実施例に好適な投影露光装
置におけるウェハ搬送系の概略的な構成を示す上面図で
ある。図１では、所定の受け渡し位置に配置された露光
ステージ１の上方で、搬送アーム２０によってウェハＷ
が保持されている状態を示す。

【００１６】供給用のウェハカセット２２にはこれから
露光しようとするウェハＷが複数枚収納されている。ウ
ェハＷは搬送用のベルト２４ａ、２４ｂによってラフプ
リアライメント装置３０のターンテーブル３０Ｓ上に搬
送される。このラフプリアライメント装置３０は、例え
ば特開昭６３−２８０４３５号公報に開示されているプ
リアライメント装置とほぼ同一の構成であるので、ここ
では簡単に説明する。ラフプリアライメント装置３０で
は、ウェハＷがターンテーブル３０Ｓ上に保持される
と、ターンテーブル３０Ｓが回転される。そして、ウェ
ハＷの外周形状を不図示の検出系によってウェハＷに非
接触で光電的に検出し、ウェハＷの位置及びその外周の
一部に設けられた直線状の切欠き（フラット）の方向を
検出する。しかる後、ウェハＷの位置及びフラットの方
向を予め定められた位置及び方向に補正する。また、こ
のラフプリアライメント装置３０における位置補正の精
度は比較的粗くてよく、例えば±１ｍｍ程度の誤差の許
容範囲を有する。

【００１７】このラフプリアライメント装置３０によっ
て位置補正されたウェハＷは、Ｙ方向に平行に伸びたガ
イド２１に沿って移動する搬送アーム２０に受け渡され
る。搬送アーム２０は、所定の受け渡し位置に配置され
ている露光ステージ１の上方までウェハＷを移動する。
しかる後、ウェハＷは、搬送アーム２０から後述の３本
のピン６、７、８（図２）に受け渡されるとともに、不
図示の駆動装置によってその３本のピン、又はウェハホ
ルダー２が上下動して、露光ステージ１上に設けられた
ウェハホルダー２によって保持される。このとき、ウェ
ハＷは後述の如く本発明の実施例による位置決め装置に
よって露光ステージ１上のウェハホルダー２に対して位
置決めされる。ウェハＷがウェハホルダー２に保持され
ると、露光動作のために露光ステージ１は投影レンズＰ
Ｌの下方に移動する。そして、露光ステージ１をステッ
ピングさせて、マスク（レチクル）上に形成された回路
パターンの投影像ＰＡに対してウェハＷを相対的に移動
し、その投影像ＰＡでウェハＷ上の複数の領域の各々を
繰り返し露光する。露光が終了すると、ウェハＷは図１
に示す受け渡し位置から搬送アーム２０によってターン
テーブル３０Ｓに受け渡された後、搬送用のベルト２５
ａ、２５ｂによってウェハカセット２３に搬入される。

【００１８】次に、本発明の第１実施例による位置決め
装置を図２及び図３を参照して説明する。図２は本発明
の第１実施例における基板の位置決め装置の概略的な構
成を示す斜視図であり、ステージ１が図１に示した受け
渡し位置に配置され、ウェハＷがステージ１の上方で搬
送アーム２０によって保持されている状態を示す。露光
ステージ１はＸＹ平面内を２次元移動可能であり、この
露光ステージ１上にはウェハＷを保持するためのウェハ
ホルダー２が設けられている。露光ステージ１は、Ｘ駆
動装置３によってＸ方向に駆動されるとともに、Ｙ駆動
装置４によってＹ方向に駆動される。また、ウェハホル
ダー２はθ駆動装置５によって所定の角度範囲（例えば
±１°）で微小回転可能な機構になっている。これらの
駆動装置（３、４、５）はステージ駆動制御装置ＳＣに
よって制御される。また、図２に示すようにウェハホル
ダー２はほぼ円形をしており、外周の一部に直線的な切
欠きを有する。ＸＹ平面内におけるこの切欠きの方向
は、ウェハホルダー２の回転位置がニュートラル位置に
あるときＸ方向とほぼ平行となる。

【００１９】露光ステージ１上にはＸ方向に垂直な反射
面を有する反射鏡３２とＹ方向に垂直な反射面を有する
反射鏡３１とが夫々固設されている。レーザー干渉計３
４は反射鏡３２にレーザー光を投射し、その反射光を受
光して露光ステージ１のＸ方向の位置を検出し、レーザ
ー干渉計３３は反射鏡３１にレーザー光を投射し、その
反射光を受光して露光ステージ１のＹ方向の位置を検出
するように構成されている。レーザー干渉計３３、３４
は露光ステージ１の位置を検出するとその検出信号を主
制御系ＭＣＳに出力する。また、ウェハホルダー２の回
転角は回転角検出系３５によって検出され、回転角検出
系３５はウェハホルダー２の回転角を検出すると、その
検出信号を主制御系ＭＣＳに出力する。また、主制御系
ＭＣＳはステージ駆動制御装置ＳＣを介してＸ駆動装置
３、Ｙ駆動装置４、及びθ駆動装置５を駆動し、露光ス
テージ１の位置及びウェハホルダー２の回転を制御す
る。

【００２０】露光ステージ１にはウェハ上下ピン６、
７、８が設けられている。ウェハホルダー２には円形開
口２６、２７、２８が設けられ、その円形開口はそれぞ
れウェハホルダー２が上述の角度範囲内で回転してもウ
ェハ上下ピン６、７、８に接触しない大きさになってい
る。また、ウェハホルダー２上には３つの光電検出器１
４、１５、１６が設けられている。光電検出器１４及び
１５は上述のウェハホルダー２の切欠きの方向に垂直な
方向を長手方向とし、当該切欠きの方向に所定の間隔Ｌ
をもって配置されている。光電検出器１６はウェハホル
ダー２の切欠きの方向を長手方向とし、その長手方向の
延長線上にウェハホルダー２の中心点がくるようにホル
ダー２の周縁部に配置されている。また、露光ステージ
１が受け渡し位置にあるときの光電検出器１４、１５、
１６に対して平行光束を照射する装置、すなわち平行光
照明系１１、１２、１３が投影露光装置内に設けられて
いる。これら平行光照明系１１、１２、１３は例えばレ
ーザーダイオードを光源として、ウェハＷを感光させな
い波長のレーザー光束を平行光束として各光電検出器に
向けて照射する。また、光電検出器１４、１５、１６は
例えばフォトダイオード等からなり、平行光照明系１
１、１２、１３からの平行光束を受光すると、受光した
レーザー光束の光強度に対応した光電信号を主制御系Ｍ
ＣＳに出力する。ここで、光電検出器１４、１５、１６
から出力される光電信号のレベル（電圧値）を夫々Ｓ
１、Ｓ２、Ｓ３とする。また、主制御系ＭＣＳは露光ス
テージ１の移動、ウェハホルダー２の回転、及び搬送ア
ーム２０の駆動を制御する他、装置全体を統括制御す
る。

【００２１】次に本実施例におけるウェハの位置決め動
作について図２及び図３（ａ）〜（ｄ）を用いて説明す
る。図３（ａ）〜（ｄ）はウェハＷ、露光ステージ１、
ウェハホルダー２、及びウェハホルダー２上に設けられ
ている光電検出器１４、１５、１６の夫々の相対位置関
係を示した上面図であり、ウェハＷをウェハホルダー２
（露光ステージ１）に位置決めする手順を示す図であ
る。

【００２２】先ず、図３（ａ）に示すようにウェハＷ及
び露光ステージ１は夫々受け渡し位置に配置される。こ
のときウェハホルダー２の回転位置はニュートラル位置
にあるので、ウェハホルダー２上の切欠きの方向はＸ方
向と平行となっている。このとき、ウェハＷはラフプリ
アライメント装置３０による位置補正の精度やラフプリ
アライメント装置３０から搬送アーム２０へのウェハＷ
の受け渡し等により、受け渡し位置からずれているとと
もに、フラットの方向とＸ方向との平行度も狂ってい
る。ここで、主制御系ＭＣＳは平行光照明系１１、１
２、１３からレーザー光束を照射させ、図２に示すよう
に各光電検出器の受光面上にウェハＷの３ヶ所の周縁部
分を夫々投影する。この３つ光電検出器のうち、光電検
出器１４、及び１５上にはウェハＷのフラットの部分が
投影され、光電検出器１６上にはウェハＷの円周外縁が
投影される。各光電検出器はウェハＷの周縁部分によっ
て遮光されない光束を受光するため、ウェハＷの周縁部
の位置に応じて各光電検出器から出力される光電信号の
レベルが変化する。

【００２３】ここで主制御系ＭＣＳは各光電検出器１
４、１５、１６からの光電信号のレベルＳ１、Ｓ２、Ｓ
３が夫々所定の目標値Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃとなるように、
露光ステージ１の位置とウェハホルダー２の回転とをサ
ーボ制御する。本実施例における目標値Ｓａ、Ｓｂ、Ｓ
ｃは、各光電検出器の全体に平行光束が照射されている
ときの光電信号のレベルを予め計測し、その値の半分
（５０％）の値に設定している。従って、上述の如く露
光ステージ１の位置とウェハホルダー２の回転とを制御
することにより、各光電検出器の長手方向における中心
点の位置と３ヶ所のウェハエッジの位置とを一致させる
ことになる。ここで、先ず主制御系ＭＣＳは各光電検出
器からの光電信号に基づいて、ウェハＷの３ヶ所の周縁
部の位置と各光電検出器の中心位置とのずれ量Ｄ１、Ｄ
２、Ｄ３を求める。各ずれ量は定数Ｋ１、Ｋ２、Ｋ３を
用いてほぼ次の関係式が成立する。

【００２４】Ｄ１＝Ｋ１（Ｓ１−Ｓａ） Ｄ２＝Ｋ２（Ｓ２−Ｓｂ） Ｄ３＝Ｋ３（Ｓ３−Ｓｃ） 主制御系ＭＣＳはこれらの位置ずれ量に基づいて、露光
ステージ１の移動量（ウェハＷとウェハホルダー２との
位置ずれ量）ΔＸ、ΔＹ及びウェハホルダーの回転量
（ウェハＷのフラットの方向とＸ方向との回転誤差量）
Δθを夫々次の関係式から求める。

【００２５】ΔＸ＝−Ｄ３ ΔＹ＝（Ｄ１＋Ｄ２）／２ Δθ＝（Ｄ２−Ｄ１）／Ｌ ここで、Ｌは光電検出器１４と１５とのＸ方向における
距離である。主制御系ＭＣＳはこれらの移動量及び回転
量（ΔＸ、ΔＹ、Δθ）を随時制御偏差信号として用
い、露光ステージ１のＸＹ方向への移動とウェハホルダ
ー２の回転をサーボ制御する。そして、露光ステージ１
の移動、及びウェハホルダー２の回転が終了したときの
状態を図３（ｂ）に示す。このとき、ウェハＷのエッジ
は各光電検出器１４、１５、１６の長手方向における中
心位置に投影される。

【００２６】上述のように露光ステージ１の移動とウェ
ハホルダー２の回転が終了すると、主制御系ＭＣＳは駆
動装置（不図示）を介してウェハ上下ピン６、７、８を
上方に移動させる。そして、ウェハ上下ピン６、７、８
が搬送アーム２０からウェハＷを受け取ると、搬送アー
ム２０を露光ステージ１の上方から退避させる。ウェハ
上下ピン６、７、８はウェハＷを受け取ると、下方へ下
がってウェハＷをウェハホルダー２上に載置する。さら
にウェハホルダー２はウェハＷを受け取ると、負圧又は
真空等によってウェハＷを吸着して保持する。このとき
の状態を図３（ｃ）に示す。そして、最後にウェハホル
ダー２の回転位置をウェハＷを載置する前の回転位置
（ニュートラル位置）に戻すことにより、ウェハＷのフ
ラットの方向とＸ方向とを平行とする。このときの状態
を図３（ｄ）に示す。このようなウェハの位置決め動作
が終了すると、次に主制御系ＭＣＳは露光ステージ１を
投影光学系ＰＬの下方に配置して、露光動作やファイン
アライメント動作等を行う。

【００２７】以上のようなウェハの位置決め装置及び位
置決め動作によって、ウェハの回転位置がニュートラル
位置にあるとき、ウェハＷを露光ステージ１に関して、
ウェハのフラットの方向と基準方向（Ｘ方向）とが平行
となるように、速やかに且つ高精度に位置決めすること
が可能となる。また、本実施例におけるラフプリアライ
メント装置３０は従来より用いていたプリアライメント
装置のように高精度（誤差の許容範囲が±１５μｍ程
度）な装置である必要がないため、コストを抑制するこ
とができる。

【００２８】ところで、本実施例においては露光ステー
ジ１の移動とウェハホルダー２の回転が終了した状態
（図３（ｂ）に示す状態）から、ウェハホルダー２がウ
ェハＷを保持した状態（図３（ｃ）に示す状態）に至る
際に、ウェハ上下ピン６、７、８の機械的なガタ等によ
って、ウェハホルダー２に対するウェハＷの位置がずれ
ることがある。従って、主制御系ＭＣＳはウェハホルダ
ー２がウェハＷを保持した後、再び平行光照明系１１、
１２、１３からレーザー光束を照射して、光電検出器１
４、１５、１６からの光電信号を入力することにより、
ウェハホルダー２がウェハＷを保持した状態（図３
（ｃ）に示す状態）で生じているウェハＷとウェハホル
ダー２との位置ずれ量ΔＸ、ΔＹ、及び回転誤差量Δθ
を求めることができる。そして、これらの位置ずれ量又
は回転誤差量が所定の許容範囲を超えているとき、Δθ
についてはウェハホルダー２をニュートラル位置に戻す
際に補正すればよく、またΔＸ、ΔＹについては、露光
動作やファインアライメント動作時にオフセット量とし
て用い、露光ステージの位置を補正してやればよい。

【００２９】また、本実施例においては平行光照明系１
１、１２、１３から照射されるレーザー光束の照射領域
内における光強度はほぼ均一として考えているため、各
光電信号のレベルＳ１、Ｓ２、Ｓ３の目標値Ｓａ、Ｓ
ｂ、Ｓｃを常に一定の値として位置決め動作を行ってい
る。しかしながら、例えばこの照射領域内の光強度にム
ラがある場合、この目標値Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃの値が一定
の値であると、上述のずれ量Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３の計算結
果に誤差が生じてしまうことがある。例えば図４（ａ）
に示すように１つの光電検出器１６に着目してみると、
露光ステージ１の上方に搬送されたウェハのエッジ部分
が光強度の比較的高い位置にあると、光電検出器１６か
らの光電信号のレベルＳ３が目標値Ｓｃ（図４（ａ）に
おける斜線部）になるように露光ステージ１を位置決め
したとき、光電検出器の中心位置１６ｃがウェハエッジ
の位置よりも−Ｘ方向側にずれてしまう。逆に、ウェハ
のエッジ部分が光強度の比較的小さい位置にあると、露
光ステージ１を位置決めしたとき光電検出器１６の中心
位置１６ｃはウェハエッジの位置よりも＋Ｘ方向側にず
れてしまう。従って、主制御系ＭＣＳは露光ステージ１
の上方にウェハが搬送されると、図４（ｂ）に示すよう
に光電検出器１６を一度ウェハエッジの近傍に配置する
とともに、光電検出器１６の受光面全体にレーザー光束
が照射されるときの光電信号のレベルＳｘを検出し、そ
のレベルの半分の値（Ｓｘ／２）を目標値として設定す
る。このことによって露光ステージ１を位置決めしたと
き図４（ｃ）に示すように常に光電検出器１６の中心位
置１６ｃがウェハエッジの位置の近傍に配置される。こ
れは他の光電検出器１４、１５についても同様のことが
言えるため、上述の如く全ての光電検出器からの光電信
号の目標値を設定したのち、露光ステージ１の位置決め
を行うことによって、さらに高精度な位置決めを行うこ
とができる。

【００３０】また、本実施例においてはウェハエッジの
検出系として平行光照明系１１、１２、１３及び光電検
出器１４、１５、１６から構成したが、例えばウェハホ
ルダー上に光源を設けてウェハＷの下側からレーザー光
束を照射し、ウェハの上側に配置された光電検出器によ
ってその光束を受光するような構成であってもよい。ま
た、テレビカメラ、ＣＣＤ等の撮像素子でエッジ部分を
撮像し、ウェハエッジの位置を検出するような構成であ
っても良い。

【００３１】次に本実施例の変形例について図５を用い
て説明する。図５は本変形例における位置決め装置の概
略的な構成を示す斜視図であり、図２と同様にウェハＷ
及び露光ステージ１が夫々受け渡し位置に配置されてい
る状態を示している。本変形例は、前述の第１実施例の
ようにウェハホルダー２を回転させる代わりに、図２中
のウェハ上下ピン６〜８と同様にウェハホルダー２と搬
送アーム２０との間のウェハＷの受け渡しに用いられる
可動支柱（センタピン）４５を、ウェハホルダー２のほ
ぼ中心に、ウェハホルダー２に対して回転可能にかつ上
下動可能に配置するものである。この可動支柱４５は、
不図示の駆動機構によって回転及び上下動されるととも
に、その上面でウェハＷのほぼ中心部を支持する。可動
支柱４５の上下動及び回転は回転制御装置ＨＣによって
制御される。尚、可動支柱４５、駆動機構（不図示）及
び回転制御装置ＨＣ以外の構成は先の第１実施例と同様
であるため、ここでは説明を省略する。

【００３２】本変形例においては、先ず可動支柱４５を
上昇させて、露光ステージ１の上方まで移動された搬送
アーム２０上のウェハＷを可動支柱４５上に載せ替え、
例えば負圧又は真空等によってウェハＷを吸着保持す
る。しかる後、搬送アーム２０は移動されて露光ステー
ジ１の上方から退避する。そして先の第１実施例と同様
に、ウェハＷの周縁３ヶ所のエッジの位置と各光電検出
器の中心の位置とのずれ量Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３を求めると
ともに、ウェハＷとウェハホルダー２との位置ずれ量Δ
Ｘ、ΔＹ、及びウェハＷのフラットの方向と基準方向
（Ｘ方向）との回転誤差量Δθを求める。主制御系ＭＣ
Ｓはこの回転誤差量Δθに基づいて回転制御装置ＨＣに
対して指令信号を出力し、フラットの方向と基準方向
（Ｘ方向）とが平行となるように可動支柱４５を回転さ
せる。その後、回転制御装置ＨＣは可動支柱４５を下降
させるとともに、ウェハＷの吸着を解除して、ウェハＷ
をウェハホルダー２上に載置する。また、位置ずれ量Δ
Ｘ、ΔＹについては、露光動作やファインアライメント
動作時にオフセット量として用い、露光ステージ１の位
置を補正する。このような位置決め装置の動作及び構成
によって、例えばウェハホルダー２に回転機構が設けら
れていない場合でも、先の第１実施例と同様に速やかに
且つ高精度にウェハＷをステージ１上に位置決めするこ
とが可能となる。

【００３３】本変形例では、ウェハＷを可動支柱４５に
保持した後で位置ずれ量ΔＸ、ΔＹ、及び回転誤差量Δ
θを検出するものとしたが、先の第１実施例と同様に、
ウェハＷを搬送アーム２０に保持した状態で位置ずれ量
ΔＸ、ΔＹ、及び回転誤差量Δθを検出するようにして
もよい。この場合、ウェハＷとウェハホルダー２との位
置ずれ量ΔＸ、ΔＹを零とするためには、ウェハＷを可
動支柱４５に保持する前に露光ステージ１をＸ、Ｙ方向
に微動すればよく、回転誤差量Δθを零とするために
は、ウェハＷを可動支柱４５で保持した後に可動支柱４
５を回転させればよい。さらに本変形例では、前述の回
転誤差量Δθを零にするために、図５中の可動支柱４５
を回転させるものとしたが、図２中の３本のピン６、
７、８を一体に回転可能に構成し、この３本のピンをウ
ェハホルダー２に対して相対的に回転させて回転誤差量
Δθを零とするようにしてもよい。

【００３４】次に、本発明の第２実施例を図６を用いて
説明する。本実施例は先の第１実施例における平行光照
明系１１、１２、１３からのレーザー光束の光強度のム
ラによる上述のずれ量Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３の検出誤差を軽
減するために、先の第１実施例における光電検出器１
４、１５、１６の代わりに、受光領域が微小な光電検出
器（以下、「微小光電センサ」と記す）４１、４２、４
３を設けたものである。また、光電検出器４１、４２、
４３以外の構成は先の第１実施例と同様の構成であるた
め、詳しい説明は省略する。

【００３５】図６（ａ）はウェハＷ、露光ステージ１、
ウェハホルダー２、及びウェハホルダー２上に設けられ
ている微小光電センサ４１、４２、４３の夫々の相対位
置関係を示した上面図であり、先の第１実施例の説明で
用いた図３（ａ）に対応する図である。先の第１実施例
の位置決め動作と同様に、主制御系ＭＣＳは搬送アーム
２０を移動させてウェハＷを露光ステージ１の上方に配
置した後、このウェハＷの周縁３ヶ所のエッジ部分の位
置を検出する。このとき、図６（ａ）に示すように全て
の微小光電センサ４１、４２、４３の受光面全体にレー
ザー光束が受光されるように、主制御系ＭＣＳは露光ス
テージ１を受け渡し位置から＋Ｘ方向及び−Ｙ方向に夫
々数ｍｍずれた位置に配置する。次に主制御系ＭＣＳは
矢印で示した＋Ｙ方向及び−Ｘ方向に夫々４５°傾いた
方向（図６（ａ）における左上の方向）に露光ステージ
１を走査させる。このとき、主制御系ＭＣＳは微小光電
センサ４１、４２からの光電信号を露光ステージ１のＹ
座標位置の関数として記憶し、微小光電センサ４３から
の光電信号を露光ステージ１のＸ座標位置の関数として
記憶する。

【００３６】図６（ｂ）〜（ｄ）は主制御系ＭＣＳ内に
記憶された各微小光電センサからの信号波形である。図
６（ｂ）〜（ｄ）に示すように、微小光電センサ４１、
４２、４３がウェハＷの影に隠れる前はレーザー光束の
光強度のむらにより、各光電信号のレベルＳ１、Ｓ２、
Ｓ３は露光ステージ１の位置によって変化している。そ
して、各微小光電センサがウェハエッジの影に隠れ始め
ると、光電信号のレベルは急激に低下し、完全に隠れた
状態で零となる。主制御系ＭＣＳはこれらの信号波形に
基づいて、各信号が低下し始めるときの値の半分の値Ｓ
ｄ、Ｓｅ、Ｓｆを光電信号のレベルＳ１、Ｓ２、Ｓ３の
目標値として求めるとともに、そのときの露光ステージ
１の座標値Ｙｄ、Ｙｅ、Ｘｆを夫々求める。そして、こ
れらの信号に基づいて、各光電信号のレベルＳ１、Ｓ
２、Ｓ３が夫々目標値Ｓｄ、Ｓｅ、Ｓｆとなるように露
光ステージ１のＸＹ座標位置及びウェハホルダー２の回
転位置を夫々制御する。露光ステージ１の移動及びウェ
ハホルダー２の回転が終了した後は、先の第１実施例と
同様にウェハＷをウェハホルダー２上に保持させ、ウェ
ハホルダー２の回転位置をニュートラル位置に戻すこと
により、ウェハＷの位置決め動作が終了する。

【００３７】以上のような位置決め装置の構成及び動作
によって、平行光照明系から照射される照明光の光強度
が均一でない場合でもウェハを露光ステージ上に正確に
位置決めすることが可能となる。尚、本実施例でもウェ
ハホルダー２を回転させる代わりに、ウェハＷを搬送ア
ーム２０からウェハホルダー２（又はその逆）に受け渡
すための上下動可能な上下ピン６〜８（図２）又は可動
支柱４５（図５）を回転させるようにしてもよい。

【００３８】以上の第１及び第２実施例では、光電検出
器１４、１５、１６を露光ステージ１に固設するものと
したが、例えばウェハホルダー２には細長い矩形開口を
有するスリット板のみを設けるようにし、この矩形開口
を通過した光を光ファイバー（又はミラー等）を介して
露光ステージ１の外部に配置される光電検出器の受光面
に導くように構成してもよい。また、照明系１１、１
２、１３を露光ステージ１に設ける場合には、照明光を
射出する光源を露光ステージ１の外部に配置し、その照
明光を光ファイバー等で露光ステージ１の内部に導いて
ウェハＷの周縁端を照明するように構成してもよい。こ
のとき、光ファイバーの射出端を細長い矩形状としてウ
ェハホルダー２に設けてもよいし、あるいはウェハホル
ダー２に細長い矩形開口を有するスリット板を設け、光
ファイバーから射出される照明光でスリット板をその裏
面から照射するようにしてもよい。

【００３９】次に、本発明の第３実施例における基板の
位置決め装置について図７を用いて説明する。図７は本
実施例における位置決め装置の概略的な構成を示す斜視
図である。本実施例は先の第１実施例における光電検出
器１４、１５、１６をウェハホルダー２上とは別の位置
に設けた例であり、その他の構成は第１実施例と同様で
あるため、位置決め装置の構成の詳しい説明は省略す
る。また、第１実施例と同じ機能を果たす部材について
は同一の符号を付している。

【００４０】図７においてウェハＷは搬送アーム２０に
よって受け渡し位置に配置されている状態を示す。ここ
で、ウェハＷをウェハホルダー２上に載置する前に、平
行光照明系１１、１２、１３からウェハＷに対してレー
ザー光束が照射される。ウェハエッジの投影像はミラー
５１、５２、５３によって反射され、受光部５４、５
５、５６に設けられた光電検出器１４、１５、１６によ
って受光される。これらの光電検出器１４、１５、１６
から出力される光電信号のレベルは、先の第１実施例と
同様にウェハエッジの位置に応じて変化する。また、ミ
ラー５１及び受光部５４は駆動手段５７によって一体と
なってＹ方向に移動可能であり、ミラー５２及び受光部
５５は駆動手段５８によって一体となってＹ方向に移動
可能である。さらに、ミラー５３及び受光部５６は駆動
手段５９によって一体となってＸ方向に移動可能であ
る。主制御系ＭＣＳはこれらの駆動装置５７、５８、５
９を介して夫々のミラー及び受光部の駆動を制御する。

【００４１】平行光照明系１１、１２、１３からの光束
を受光した光電検出器１４、１５、１６は、受光したレ
ーザー光束の光強度に対応した光電信号を主制御系ＭＣ
Ｓに出力する。主制御系ＭＣＳはこれらの光電信号に基
づいて、先の第１実施例と同様の計算によってウェハＷ
の受け渡し位置からの位置ずれ量ΔＸ、ΔＹ、及びＸ方
向に対するフラットの回転誤差量Δθを夫々求める。こ
のとき露光ステージ１の位置はどの位置にあってもよ
い。そして主制御系ＭＣＳはウェハＷをウェハホルダー
２上に載置する際に、これらの位置ずれ量及び回転誤差
量（ΔＸ、ΔＹ、Δθ）に基づいて露光ステージの位置
及びウェハホルダー２の回転位置を制御する。このと
き、露光ステージ１の位置は基準位置から（ΔＸ、Δ
Ｙ）だけずれた位置に配置され、ウェハホルダー２の回
転位置はニュートラル位置からΔθだけ回転した位置に
ある。そして、ウェハＷをウェハホルダー２上に載置す
るとき、主制御系ＭＣＳは駆動装置５７、５８、５９に
対して指令信号を出力し、ミラー５１、５２、５３がウ
ェハＷの下部から退避するようにミラー５１、５２、５
３及び受光部５４、５５、５６を夫々移動させる。そし
て、ウェハＷをウェハホルダー２によって保持させた
後、先の第１実施例と同様にウェハホルダー２の回転位
置をニュートラル位置に戻すことによってウェハＷの位
置決め動作が終了する。

【００４２】以上のような位置決め装置の構成及び動作
によって、ウェハホルダー２上に光電検出器等を設ける
ことなく、ウェハＷを露光ステージ１に対して位置決め
することが可能となる。また、このような構成の場合、
ウェハの位置ずれ検出をウェハ交換時に行う必要がな
く、予め位置ずれを計測しておくことができるため、ス
ループットが向上するという利点がある。

【００４３】以上の各実施例では、ウェハＷをウェハホ
ルダー２に載置する前に、露光ステージ１をＸ、Ｙ方向
に微動して、ウェハＷとウェハホルダー２との位置ずれ
量ΔＸ、ΔＹを零にするものとしたが、例えば搬送アー
ム２０をＸ、Ｙ方向に微動可能に構成し、ウェハＷが載
置された搬送アーム２０を露光ステージ１（ウェハホル
ダー２）に対して相対移動して位置ずれ量ΔＸ、ΔＹを
零とした後で、搬送アーム２０上のウェハＷを３本ピン
６、７、８、又は可動支柱４５を介してウェハホルダー
２に受け渡すようにしてもよい。さらに、ウェハホルダ
ー２や可動支柱４５（又は３本ピン６、７、８）の代わ
りに、搬送アーム２０を回転可能に構成し、前述の回転
誤差量Δθを零とするようにその搬送アーム２０を回転
させるとともに、この回転された搬送アーム２０上のウ
ェハＷを３本ピン６、７、８、又は可動支柱４５を介し
てウェハホルダー２に受け渡すようにしてもよい。

【００４４】また、３本ピン６〜８、又は可動支柱４５
を用いて、搬送アーム２０とウェハホルダー２との間で
ウェハＷの受け渡しを行うものとしたが、例えばウェハ
ホルダー２を上下動可能に構成してウェハＷの受け渡し
を行うようにしてもよい。この場合、露光ステージ１の
上方まで移動された搬送アーム２０を下降させてウェハ
Ｗを３本ピン６〜８（又は可動支柱４５）に載せ替え
る。しかる後、搬送アーム２０を露光ステージ１の上方
から退避させるとともに、ウェハホルダー２をその載置
面が３本ピン６〜８（又は可動支柱４５）の上端面より
も所定量だけ高くなるようにウェハホルダー２を上昇さ
せてウェハＷをウェハホルダー２上に真空吸着保持し、
この状態のまま露光ステージ１を駆動して露光動作等を
行うことになる。

【００４５】尚、ロード用のウェハカセット２２とプリ
アライメント装置３０との間、及びプリアライメント装
置３０とアンロード用のウェハカセット２３との間に設
けられる搬送装置は、図１中のベルト２４ａ、２４ｂ、
及び２５ａ、２５ｂに限られるものではなく、図１中の
ガイド２１とスライダ（搬送アーム）２０とを組み合わ
せたもの、又は市販されている多関節アームを持つ搬送
ロボットを用いるようにしてもよい。

【００４６】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、基板をホ
ルダー上に載置する際に、ホルダー上方において基板の
外周の直線部分を非接触で検出することにより、速やか
に且つ高精度に基板をステージに対して位置決めするこ
とができる。また、ホルダーの回転位置がニュートラル
位置にあるときに、基板の外周の直線部分（フラット）
の方向がホルダーに対して常に所定の基準方向を向くよ
うに載置されるため、ホルダーが所定の角度範囲しか回
転できない場合でも、露光動作時やファインアライメン
ト動作時にホルダーを回転したとき、ホルダーの回転可
能な角度範囲を超えることが極めて少なくなる。

【００４７】さらに、保持部材（搬送手段）とホルダー
との間での基板の受け渡しに用いられる可動部材を、ホ
ルダーに対して相対的に回転可能に構成する場合には、
ホルダーに回転機構を設ける場合に比べて簡易な構成で
基板の回転誤差を零にすることができるとともに、ホル
ダーの回転機構が不要となってステージの剛性、即ちス
テージ上での基板の位置的な安定性が高まるという利点
も得られる。

【００４８】また、基板の位置とその直線部分の向きと
の少なくとも一方を予備的に補正するプリアライメント
装置を更に設ける場合には、このプリアライメントされ
た基板がステージの上方まで搬送されるので、ホルダー
や支持部材（可動部材）の可動範囲（回転量）が小さく
て済むという利点がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に好適な投影露光装置における
ウェハ搬送系の概略的な構成を示す上面図である。

【図２】本発明の第１実施例における基板の位置決め装
置の概略的な構成を示す斜視図である。

【図３】図３（ａ）はウェハＷを露光ステージ１上に配
置したときの上面図、図３（ｂ）はウェハＷと露光ステ
ージ１及びホルダー２とを相対的に位置決めしたときの
上面図、図３（ｃ）はウェハＷをウェハホルダー２上に
配置したときの上面図、図３（ｄ）はウェハホルダー２
を初期位置に戻したときの上面図である。

【図４】図４（ａ）は主制御系ＭＣＳによるずれ量Ｄ１
〜Ｄ３の計算結果に生じる誤差を説明するための上面
図、図４（ｂ）、（ｃ）はずれ量Ｄ１〜Ｄ３の計算誤差
を低減させるための動作を説明する上面図である。

【図５】図５は第１実施例の変形例における基板の位置
決め装置の概略的な構成を示す斜視図である。

【図６】図６（ａ）は本発明の第２実施例における基板
の位置決め装置の概略的な構成を示す上面図、図６
（ｂ）〜（ｄ）は微小光電センサ３４、３５、３６から
得られる光電信号の信号波形を示す図である。

【図７】本発明の第３実施例における基板の位置決め装
置の概略的な構成を示す斜視図である。

【符号の説明】

１・・・・露光ステージ ２・・・・ウェハホルダー ３・・・・Ｘ駆動装置 ４・・・・Ｙ駆動装置 ５・・・・θ駆動装置 １１、１２、１３・・・平行光照明系 １４、１５、１６・・・光電検出器 ２０・・・搬送アーム ＭＣＳ・・・主制御系 ＳＣ・・・ステージ駆動制御装置 Ｗ・・・・ウェハ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 9/00 Ｈ Ｈ０１Ｌ 21/027

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定の基準面内で２次元移動可能なステ
   ージと、前記ステージ上に回転可能に設けられ、外周の
   少なくとも一部に直線部分を有する基板を保持するホル
   ダーとを有し、前記ホルダーの回転位置が所定のニュー
   トラル位置にあるとき、前記基板の直線部分が所定の基
   準方向とほぼ平行となるように前記基板を前記ホルダー
   上に保持する位置決め装置において、 前記ステージが前記基準面内の所定位置にあるとき、前
   記基板を前記ステージの上方で前記基準面とほぼ水平に
   保持する保持部材と；前記保持された基板の直線部分に
   光束を照射する照射手段と、前記光束を前記基板に関し
   て前記照射手段と反対側で光電検出する受光手段とを有
   し、かつ前記照射手段及び前記受光手段の一方が前記ホ
   ルダー上に設けられ、前記受光手段からの光電信号に基
   づいて、前記基準方向に対する前記基板の直線部分の相
   対的な回転誤差を検出する回転誤差検出手段と；前記ホ
   ルダーの回転位置を前記ニュートラル位置から前記回転
   誤差に対応した量だけ回転させる駆動手段とを備え、 前記駆動手段によって前記ホルダーを回転させた後、前
   記基板を前記ホルダー上に載置することを特徴とする基
   板の位置決め装置。
2. 【請求項２】 所定の基準面内で２次元移動可能なステ
   ージと、前記ステージ上に設けられ、外周の少なくとも
   一部に直線部分を有する基板を保持するホルダーとを有
   し、前記基板の直線部分が所定の基準方向とほぼ平行と
   なるように前記基板を前記ホルダー上に保持する位置決
   め装置において、 前記ステージが前記基準面内の所定位置にあるとき、前
   記基板を前記ステージの上方で前記基準面にほぼ水平に
   保持する保持部材と；前記保持された基板の直線部分に
   光束を照射する照射手段と、前記光束を前記基板に関し
   て前記照射手段と反対側で光電検出する受光手段とを有
   し、かつ前記照射手段及び前記受光手段の一方が前記ホ
   ルダー上に設けられ、前記受光手段からの光電信号に基
   づいて、前記基準方向に対する前記基板の直線部分の相
   対的な回転誤差を検出する回転誤差検出手段と；前記回
   転誤差がほぼ零となるように前記基板を回転させる駆動
   手段とを備え、 前記駆動手段によって前記基板を回転させた後、前記基
   板を前記ホルダー上に載置することを特徴とする基板の
   位置決め装置。
3. 【請求項３】 前記駆動手段は、前記保持部材と前記ホ
   ルダーとの間での前記基板の受け渡しに用いられ、前記
   ホルダーに対して相対的に回転可能な可動部材と、前記
   回転誤差がほぼ零となるように前記基板を載置した可動
   部材の回転を制御する装置とを有することを特徴とする
   請求項２に記載の装置。
4. 【請求項４】 前記回転された可動部材上の基板が前記
   ホルダー上に載置されるように前記ホルダーと可動部材
   とを相対移動する駆動部材を有することを特徴とする請
   求項３に記載の装置。
5. 【請求項５】 所定面内で２次元移動可能なステージ
   と、前記ステージ上で基板を保持するホルダーとを有す
   る位置決め装置において、 前記基板を保持して前記ステージの上方に搬送する搬送
   手段と；前記搬送された基板を載置するとともに、前記
   ホルダーに対して相対的に回転可能な可動部材と；前記
   基板が前記ホルダー上に載置されるように前記可動部材
   と前記ホルダーとを相対移動させる駆動部材と；前記基
   板に光ビームを照射して該光ビームの少なくとも一部を
   光電検出することで前記基板の所定の基準方向に対する
   相対的な回転誤差を検出する手段と；前記回転誤差がほ
   ぼ零となるように前記基板を載置した可動部材の回転を
   制御する手段とを備えたことを特徴とする基板の位置決
   め装置。
6. 【請求項６】 前記基板は、外周の少なくとも一部に直
   線状の切欠きを有し、 前記検出手段は、前記搬送手段、又は前記可動部材に保
   持された基板の切欠きに光ビームを照射する照明系と、
   前記基板に関して前記照明系と反対側に配置されて該光
   ビームを光電検出する受光系とを有し、前記照明系と受
   光系の一方を前記ステージに設けたことを特徴とする請
   求項５に記載の装置。
7. 【請求項７】 前記検出手段は、前記搬送部材上に保持
   された基板の周縁部分を非接触で光電的に検出して前記
   基板の位置を求め、 前記基板を前記可動部材に載置するのに先立ち、前記求
   められた位置に応じて前記搬送手段と前記ステージとを
   相対移動する駆動系を有することを特徴とする請求項５
   に記載の装置。
8. 【請求項８】 前記基板の周縁部分を非接触で光電的に
   検出して、前記基板の位置とその直線部分の向きとの少
   なくとも一方を予備的に補正するプリアライメント装置
   を有し、前記搬送手段は、該プリアライメントされた基
   板を保持して前記ステージの上方まで搬送することを特
   徴とする請求項５に記載の装置。