JP2006294793A - ステージ装置および露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 平面モータ型ステージ装置に適したウエハ受渡し機構を提供する。
【解決手段】 対象物６を保持するための保持部５を備えたステージ３と、ステージの保持部と反対側の面で対向し、ステージを２次元方向に移動可能に支持するベース１と、ステージとベースとの間に配置された平面モータと、対象物を保持部から離れた状態で支持するための受け渡しピン７を備え、受け渡しピンの台座８と駆動力伝達部１１ａと連結部１０とは保持部と平面モータの間に配置されることを特徴とする。
【選択図】 図２

Description

本発明はステージ装置に関するものであり、特にはステージに搭載した対象物をステージ外部へ受け渡すための受け渡し機構を備えたステージ装置に関するものである。このようなステージ装置は好ましくは露光装置に用いられるウエハステージに適用されうる。

露光装置において、ウエハステージは、搭載されたウエハ（基板）を交換するための搬送ハンドへウエハを受渡すための受渡し機構を備える。図９は従来用いられている露光装置のウエハステージの概観を示す図である。図において、ウエハステージはリニアモータ１０５、１０６によって長ストロークで移動する粗動ステージ１０２と、粗動ステージに対して短ストロークで移動する微動する微動ステージ１０１とを有する。

図１０はこのようなウエハステージにおけるウエハ受渡し機構を示す図である。微動ステージ１０１は、リニアモータ１１４によって粗動ステージに対して短ストロークに駆動される。粗動ステージ上には、受渡しのためのピン１１５ａ〜１１５ｃ（１１５ｂは不図示）が設けられる。図１０において、ウエハ１１２を受渡す際には微動ステージ１０１はＺ方向下方に移動し、受渡しピン１１５の上端がウエハ保持面（保持部１１１）から突出する。受渡しピン１１５が保持面から突出することによって、保持面とウエハ１１２との間にスペースが生じる。このスペースに搬送ハンドを入れることによって、搬送ハンドはウエハ１１２を裏面から受取ることが可能となる。

また、図１１は特許文献２に記載された構成であり、図１０とは異なる例である。図１１において、粗動ステージに設けられた受渡しピン１１５を駆動手段１１８によってＺ方向に駆動することで、受渡しピンの上端がウエハ保持面（保持部１１１）から突出する。
特開２００３−１６３２５７号公報 特開２００３−２８９０９８号公報

近年、ステージ装置の駆動機構として、平面モータを用いたステージ装置が注目されている。平面モータとはステージの裏面に可動子を配置して、ステージを支持するベースに固定子を配置することによって、ステージをベースに沿って二次元方向に駆動する駆動機構である。平面モータはローレンツ方式やリニアパルスモータ方式のものがある。ローレンツ方式では、可動子として複数の磁石を並べており、固定子として複数のコイルを並べている。リニアパルスモータ方式では、可動子として複数の電磁石を並べており、固定子として極歯を並べている。

しかしながら、従来のウエハ受渡し機構を平面モータを用いたステージ装置に適用した場合には以下のような問題が生じる。

ウエハ受渡し機構において、微動ステージと受渡しピンとが受渡し時に相対移動する移動範囲を小さくすることが好ましい。そうすることによって、ウエハ受渡しにかかる時間を短縮し、さらに微動ステージと受渡しピンとが接触する可能性を低減することができるためである。図１０や図１１では、移動範囲を小さくするために粗動ステージに凸部を設けて、微動ステージに凹部を設けて、受渡しピンを凸部の上部に設けている。

ここで、平面モータを用いたステージ装置において、ステージの裏面には複数の磁石または複数の電磁石が設けられるため、微動ステージに大きな凹部を設けることが困難である。すなわち、平面モータを用いたステージ装置においては、受渡し時に受渡しピンと微動ステージとが相対移動する移動範囲が大きくなってしまうために、受渡しに時間がかかり、微動ステージと受渡しピンとの接触の可能性が高くなってしまう。

また、微動ステージに平面モータを用いたステージ装置ではなく、粗動ステージと微動ステージを一体として平面モータを用いたステージ装置においては、この課題はより顕著である。平面モータを支持するベースに受渡しピンを設けた場合、平面モータがベースに沿って長ストロークで移動するため、ベースに小さな凹部を設けることすらできないためである。

本発明は上述の課題に鑑みなされたものであり、その目的は平面モータを用いたステージ装置に適した基板受渡し機構または基板受渡し方法を提供することである。

本発明では、対象物を保持するための保持部を備えたステージと、前記ステージの前記保持部と反対側の面で対向し、前記ステージを２次元方向に移動可能に支持するベースと、前記ステージと前記ベースとの間に配置された平面モータと、前記対象物を前記保持部から離れた状態で支持するための支持部とを備え、前記支持部は前記保持部と前記平面モータの間に配置されることを特徴としている。

本発明は別の観点では、露光装置において、基板をステージから搬送手段に受け渡す受渡し方法であって、基板を保持した状態でステージを受渡し位置まで移動させる工程と、前記受渡し位置において、ステージ内部に設けられた支持手段がステージ外部に設けられた駆動手段によって前記基板を保持する保持面から押し出される工程と、押し出された前記支持手段によって前記基板を支持する工程と、支持された基板を前記搬送手段が受取る工程とを備えることを特徴としている。

本発明によれば、平面モータを用いたステージ装置に適した基板受渡し機構または基板受渡し方法を提供することができる。

（実施例１）
図１により平面モータ（サーフェスモータ）を用いたステージ装置を説明する。ベース１に格子状に複数のコイル２が配置されており、ステージ３の下部に格子状に複数の磁石４が配置されている。コイル２は、Ｘ方向に直線部を有する長円形コイルをＹ方向に並べたコイル層２Ａと、Ｙ方向に直線部を有するコイル層２Ｂを備え、さらにコイル層を有していてもよい。磁石４はＮ極とＳ極が交互にベースに対面するように二次元に並べられる。

コイル２の少なくとも１つに電流を流すことで、ステージ３はローレンツ力により推力を得て、ＸＹＺ方向とωｘ（Ｘ軸周りの回転方向）、ωｙ方向（Ｙ軸周りの回転方向）、ωｚ方向（Ｚ軸周りの回転方向）に駆動される。

ステージ３上には、ウエハを保持する保持部５とセンサ２４が配置される。保持部５は、保持面を備え、ウエハを保持する方法は真空吸着であっても静電吸着によるものであってもよい。センサ２４は、光源の光量をモニタするためのセンサやアライメント用センサ等である。

ステージ３上にはバーミラー２５が直交する方向に２本配置され、Ｘレーザ干渉計２７ｘ、Ｙレーザ干渉計２７ｙにより少なくともＸ、Ｙ、ωｚ方向の位置が計測され、不図示の制御装置からの目標値に一致するようにコイル２の少なくとも１つに電流を流し、案内機構なし（ガイドレス）で位置決めを行う。

コイル２には、ステージ３の位置に応じてコイル２を順次切り替えるための切り替え手段３１が接続される。切り替え手段には各コイル毎にスイッチＳＷｎが配置されており、ステージ駆動信号３０が接続される。スイッチＳＷｎはステージの位置に応じて切り替え信号２９により制御される。

コイル２２には左側から順にＣ１〜Ｃ８まで番号を付しておく。同様にスイッチＳＷｎにも左側から順にＳＷ１〜ＳＷ１８まで番号を付しておく。

ステージ３と、ベース１がＢ図のような位置関係にある場合、コイルＣ４からＣ１０はステージ下面の磁石と対向しているため、駆動信号がこれらのコイルに通電されるように切り替え手段を制御する。ステージ３の位置はレーザ干渉計２７により計測しており、ステージ３の位置に応じて切り替え信号２９を制御することにより、通電すべきコイルを適切に切り替えることが可能である。図において、Ｃ２とＣ３は磁石と対向していないので、コイルとして使用できないため、ＳＷ２とＳＷ３は開放状態にする。このような粗動ステージと微動ステージを一体にして平面モータを用いたステージ装置は特開２００４−２５４４８９号公報に開示されているため、さらなる詳細な説明は省略する。

以下、本発明の特徴となるウエハ受渡し機構について説明する。

図２は図１におけるウエハ受渡し機構を表す部分断面図である。ステージ３にはウエハ６を保持するための保持部５が設けられている。保持部５がウエハを保持する方法は真空吸着、静電吸着、機械的クランプのいずれであってもよい。

ステージ３の内部には受渡しピン７ａ〜７ｃ（７ｂは不図示）と、これらのピンを固定する共通の台座８と、台座８と駆動力伝達部１１ａを連結する連結部１０が設けられている。また、台座８にはピンをＺ方向のみに案内するための案内機構９が設けられている。案内機構９は台座８に平行板ばねを取り付けた構成としているが、これに限られるものではなくリニアガイド等を用いてもよい。

ステージの下面には、連結部１０と駆動力伝達部１１ａをステージ外部に貫通させるための穴が設けられている。駆動力伝達部１１ａはウエハを保持した状態では、図のように磁石４の下面とほぼ同一面に位置している。

ここで、ベース１には所定の位置（以下、ウエハ受渡し位置とする）に駆動部１２が設けられている。駆動部１２は連結部１３を介して駆動力伝達部１１ｂをＺ方向に駆動する。駆動部１２として例えばリニアモータ、ボイスコイルモータ、エアシリンダ等が用いられる。

ステージの上面およびウエハ保持部５には、受渡しピン７ａ〜７ｃがウエハ保持面から突出できるように穴が設けられている。また、受渡しピン７ａ〜７ｃはその上面にウエハが保持できるように形成されている。

このような構成により、ウエハがウエハ保持部５から搬送ハンドへ受け渡される方法を説明する。

投影レンズの下方で露光を終えたウエハ６を搭載したステージ３は、ウエハ受渡し位置までベース１に沿って移動する（図２ａの状態）。ウエハ受渡し位置までステージ３が移動してくると、駆動部１２が駆動力伝達部１１ｂを＋Ｚ方向に駆動し、駆動力伝達部１１ｂから力を伝達された駆動力伝達手段１１ａは＋Ｚ方向へ駆動される。駆動力伝達部１１ａが＋Ｚ方向に駆動されることで、駆動力伝達部１１ｂと連結された連結部１０および台座９が＋Ｚ方向に駆動される。台座８が＋Ｚ方向に駆動されることで、受渡しピン７ａ〜７ｃは押し出されてウエハ保持面から突出する（図２ｂの状態）。ウエハ保持面と突出したピンの上面との間隔は、搬送ハンド（不図示）が間に入り込めるだけあればよい。

ここで、駆動力伝達部１１ａ、１１ｂは互いに接触して力を伝達するものにかぎらず、電磁石、磁石や気体軸受などを用いて非接触で力を伝達してもよい。

ウエハ保持面から突出した受渡しピン７ａ〜７ｃはウエハ６を保持し、受渡しピンから搬送ハンドへウエハ６が受け渡される。そして、新たなウエハが搬送ハンドから受渡しピンへと受け渡される。

搬送ハンドから受渡しピンへウエハが受け渡されると、駆動部１２は駆動力力伝達部１１ｂを−Ｚ方向に駆動する。駆動力伝達部１１ｂが−Ｚ方向に駆動されると、板ばねによって台座８は図２ａの状態まで−Ｚ方向に降下する。

さらに駆動部１２を−Ｚ方向に駆動して、ベース構造体１の上面より下まで駆動力伝達部を降下させることで、一連の受渡し動作が完了する。

このように受渡しピンを、保持部と平面モータとの間に設けることで、受渡しピンをベースに設けた場合に比べて受渡しピンの駆動ストロークを短くすることができ、結果としてウエハの受渡しに要する時間を短縮することができる。

また、ステージ下面の近傍に位置する駆動力伝達部１１ａによって受渡しピンにＺ方向への駆動力を伝達できるようにしたことも駆動ストロークを短くする効果に寄与している。この場合には駆動部１２をステージ内に配置しないため、ステージを軽量化でき、駆動部の発熱がステージやウエハに与える影響を低減することができる。

また、受渡しピンをＺ方向に案内する案内機構がステージに取り付けられているため、ステージがベースに対して傾斜した状態であっても、受渡しピンがステージ上面の穴と接触する可能性が低い。

本実施例では、粗動ステージと微動ステージを一体として平面モータを用いたステージ装置に適用しているが、粗動ステージと微動ステージを有する平面モータ型ステージやその他のステージ装置においても、微動ステージに受渡しピンを設けることで、接触の可能性を低減するという効果を奏する。本実施例のステージ装置においては、前述のように凹部を形成することが困難であり、受渡しピンの駆動ストロークが必然的に長くなるため特に効果を奏するものである。

また、受渡しピンはステージ内部に配置したほうがスペースの観点からも好ましいが、ステージ外部にも設けうる。また、駆動力伝達部を複数設ける構成も可能である。つまり、上述の効果を達成しうる構成を逸脱しないかぎり適宜実施例は変更しうる。

（実施例２）
図３は実施例２におけるウエハ受渡し機構の部分断面図である。図３において図２に対応する部分には同一符号を付して詳細な説明を省略する。

実施例２では、駆動力伝達手段１１ｂを駆動するための駆動部１２がベース１内ではなく、ベース１またはその他の部材から支持された駆動部支持部１４に設けられている。また、駆動力伝達部１１ｂは、駆動部１２によってＺ方向ではなくＸ方向（Ｙ方向でもよい）に駆動可能となっている。

台座８と駆動力伝達部１１ａとを連結する連結部１０は、Ｘ方向の力をＺ方向に変換する機能を備える。受渡しピン７と台座８、案内機構９の構成は実施例１と同様である。

ステージの側面には、連結部１０と駆動力伝達部１１ａをステージ外部に貫通させるための穴が設けられている。駆動力伝達部１１ａはウエハを保持した状態では、図のように磁石４の側面面とほぼ同一面に位置している。

ここで、ベース１にはウエハ受渡し位置に駆動部支持部１４および駆動部１２が設けられている。駆動部１２は連結部１３を介して駆動力伝達部１１ｂを−Ｘ方向に駆動する。駆動部１２として例えばリニアモータ、ボイスコイルモータ、エアシリンダ等が用いられる。

このような構成により、ウエハがウエハ保持部５から搬送ハンドへ受け渡される方法を説明する。

投影レンズの下方で露光を終えたウエハ６を搭載したステージ３は、ウエハ受渡し位置までベース１に沿って移動する（図３ａの状態）。ウエハ受渡し位置までステージ３が移動してくると、駆動部１２が駆動力伝達部１１ｂを−Ｘ方向に駆動し、駆動力伝達部１１ｂから力を伝達された駆動力伝達部１１ａは−Ｘ方向に駆動される。駆動力伝達部１１ａと連結された連結部１０は−Ｘ方向の力を＋Ｚ方向に変換して、連結された台座８に＋Ｚ方向へ力を伝達する。台座８が＋Ｚ方向に駆動されることで、受渡しピン７ａ〜７ｃはウエハ保持面から突出する（図３ｂの状態）。ウエハ保持面と突出したピンの上面との間隔は、搬送ハンド（不図示）が間に入り込めるだけあればよい。

ウエハ保持面から突出した受渡しピン７ａ〜７ｃはウエハ６を保持し、受渡しピンから搬送ハンドへウエハ６が受け渡される。そして、新たなウエハが搬送ハンドから受渡しピンへと受け渡される。

搬送ハンドから受渡しピンへウエハが受け渡されると、駆動部１２は駆動力力伝達部１１ｂを＋Ｘ方向に駆動する。駆動力伝達部１１ｂが＋Ｘ方向に駆動されると、板ばねによって台座８は図３ａの状態まで−Ｚ方向に降下する。

さらに駆動力伝達部１１ｂを＋Ｘ方向に駆動して、駆動部支持部１４の側面まで駆動力伝達部を駆動させることで、一連の受渡し動作が完了する。

本実施例によれば、実施例１の効果に加えて、ステージの下面に連結部１０と駆動力伝達部１１ａをステージ外部に貫通させるための穴を設ける必要がないため、ステージ下面の磁石配置の自由度が増す。また、駆動部１２をベース１に設ける必要がないため、ベース１のコイル配置の自由度が増す。つまり、本実施例の構成は平面モータを用いたステージ装置に好適である。

（実施例３）
図４は実施例３におけるウエハ受渡し機構の部分断面図である。図４において図２に対応する部分には同一符号を付して詳細な説明を省略する。

実施例３では、駆動部１２をステージ内部に配置した点が実施例１および実施例２と異なる。図３において、台座８は連結部１３と連結され、連結部１３は駆動部１２によってＺ方向に駆動される。駆動部１２は、発熱ができるだけ小さく軽量であるものが好ましい。受渡しピン７と台座８、案内機構９の構成は実施例１と同様である。

このような構成により、ウエハがウエハ保持部５から搬送ハンドへ受け渡される方法を説明する。

投影レンズの下方で露光を終えたウエハ６を搭載したステージ３は、ウエハ受渡し位置までベース定盤１に沿って移動する（図４ａの状態）。ウエハ受渡し位置までステージ３が移動してくると、駆動部１２が連結部１３を介して台座８を＋Ｚ方向に駆動する。台座８が＋Ｚ方向に駆動されることで、受渡しピン７ａ〜７ｃはウエハ保持面から突出する（図４ｂの状態）。ウエハ保持面と突出したピンの上面との間隔は、搬送ハンド（不図示）が間に入り込めるだけあればよい。

ウエハ保持面から突出した受渡しピン７ａ〜７ｃはウエハ６を保持し、受渡しピンから搬送ハンドへウエハ６が受け渡される。そして、新たなウエハが搬送ハンドから受渡しピンへと受け渡される。

搬送ハンドから受渡しピンへウエハが受け渡されると、駆動部１２は−Ｚ方向に台座８を駆動する。ピンの上端が保持面よりも下方に駆動されることにより一連の受渡し動作が完了する。

このように、受渡しピンをステージに設けることで、受渡しピンをベース定盤に設けた場合に比べて受渡しピンの駆動ストロークを短くすることができ、結果としてウエハの受渡しに要する時間を短縮することができる。

また、受渡しピンをＺ方向に案内する案内機構がステージに取り付けられているため、ステージがベース定盤に対して傾斜した状態であっても、受渡しピンがステージ上面の穴と接触する可能性が低い。

本実施例によれば、ステージの下面に連結部１０と駆動力伝達部１１ａをステージ外部に貫通させるための穴を設ける必要がないため、ステージ下面の磁石配置の自由度が増す。また、駆動部１２をベース定盤１に設ける必要がないため、ベース定盤１のコイル配置の自由度が増す。つまり、本実施例の構成は平面モータ型ステージ装置に好適である。

実施例１〜３において、粗動と微動を一体にして６自由度で移動可能な平面モータを用いたステージ装置の例を示したが、微動ステージのみを平面モータにしたステージ装置にしてもよい。

図５は、微動ステージのみを平面モータにしたステージ装置の例である。ベース１上を粗動ステージ１５が移動し、粗動ステージ上に微動ステージが設けられている。粗動ステージ１５は平面モータによって駆動してもよいし、駆動軸ごとに積重ねた構成のステージであってもよい。粗動ステージ１５は図１〜４におけるベース構造体１のように複数のコイルを備え、微動ステージ１６に設けられた複数の磁石との間で平面モータを構成する。平面モータの詳細な構成については実施例１〜３における説明と同様である。

なお、上述の実施例１〜３において、コイルと磁石によって生じるローレンツ力を利用した平面モータの例を示したが、磁気吸引力を用いたリニアパルスモータ方式の平面モータであってもよい。つまり、本発明は上述の実施例に限定されるものでなく、本発明の趣旨を変えない範囲内で適宜変更が可能である。

（露光装置に適用した例）
実施例１〜３におけるステージ装置を用いた例示的な露光装置について説明する。露光装置は図６に示すように、照明装置１０１、レチクルを搭載したレチクルステージ１０２、投影光学系１０３、ウエハを搭載したウエハステージ１０４とを有する。露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウエハに投影露光するものであり、ステップアンドリピート投影露光方式またはステップアンドスキャン投影露光方式であってもよい。

照明装置は回路パターンが形成されたレチクルを照明し、光源部と照明光学系とを有する。光源部は、例えば、光源としてレーザを使用する。レーザは、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ、波長約１５３ｎｍのＦ２エキシマレーザなどを使用することができるが、レーザの種類はエキシマレーザに限定されず、例えば、ＹＡＧレーザを使用してもよいし、そのレーザの個数も限定されない。光源にレーザが使用される場合、レーザ光源からの平行光束を所望のビーム形状に整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザ光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。また、光源部に使用可能な光源はレーザに限定されるものではなく、一又は複数の水銀ランプやキセノンランプなどのランプも使用可能である。

照明光学系はマスクを照明する光学系であり、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、絞り等を含む。

投影光学系は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子を少なくとも一枚の凹面鏡とを有する光学系（カタディオプトリック光学系）、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等を使用することができる。

このような露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用されうる。

次に、図７及び図８を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図７は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。

ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップＳ２（マスク作製）では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。ステップＳ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。ステップＳ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップＳ６（検査）では、ステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップＳ７）される。

図８は、ステップ４の上はプロセスの詳細なフローチャートである。ステップＳ１１（酸化）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップＳ１２（ＣＶＤ）では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１４（イオン打ち込み）では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップＳ１５（レジスト処理）では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップＳ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに露光する。ステップＳ１７（現像）では、露光したウエハを現像する。ステップＳ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。

平面モータ型ステージ装置を示す図 実施例１におけるウエハ受渡し機構を示す部分断面図 実施例２におけるウエハ受渡し機構を示す部分断面図 実施例３におけるウエハ受渡し機構を示す部分断面図 微動ステージに平面モータを用いた例を示す図 露光装置を示す図 デバイス製造方法を示す図 ウエハプロセスを示す図 露光装置を示す図 従来のウエハ受け渡し機構を示す図 従来のウエハ受け渡し機構を示す図

符号の説明

１ ベース構造体
２ コイル
３ ステージ
４ 磁石
５ 保持手段
６ ウエハ
７ａ、７ｂ、７ｃ 受け渡しピン
８ 台座
９ 案内機構
１０ 連結部
１１ａ、１１ｂ 駆動力伝達手段
１２ 駆動部
１３ 連結部
１４ 駆動部支持部材
１５ 粗動ステージ
１６ 微動ステージ
２４ センサ
２５ バーミラー
２７ｘ、２７ｙ レーザ干渉計
２９ 切り替え信号
３０ 駆動信号
３１ 切り替え手段
１０１ 照明ユニット
１０２ レチクルステージ
１０３ 投影レンズ
１０４ ウエハステージ
１０５ 本体構造体

Claims (12)

1. 対象物を保持するための保持部を備えたステージと、
   前記ステージの前記保持部と反対側の面で対向し、前記ステージを２次元方向に移動可能に支持するベースと、
   前記ステージと前記ベースとの間に配置された平面モータと、
   前記対象物を前記保持部から離れた状態で支持するための支持部とを備え、
   前記支持部は前記保持部と前記平面モータの間に配置されることを
   特徴とするステージ装置。
2. 前記平面モータは、
   前記ベースに設けられた複数のコイルと、
   前記ステージの前記保持部と反対側の面に設けられた複数の磁石と、
   を備えることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
3. 前記ステージ外部に設けられた駆動部と、
   前記駆動部の駆動力を前記支持部に伝える伝達部と、
   を備えることを特徴とする請求項１または２に記載のステージ装置。
4. 前記伝達部は、前記駆動部からの駆動力の方向を変換して前記支持部に伝達することを特徴とする請求項３に記載のステージ装置。
5. 前記支持部を駆動するための駆動部を備え、
   前記駆動部は前記保持部と前記平面モータとの間に配置されることを特徴とする請求項１〜４の少なくともいずれかに記載のステージ装置。
6. 前記ステージは内部に空間を有し、前記支持部は前記空間内に配置されることを特徴とする請求項１〜５の少なくともいずれかに記載のステージ装置。
7. 前記ステージを搭載して、前記ステージが移動する範囲よりも大きな範囲を移動する第２ステージを備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のステージ装置。
8. 前記ステージは６自由度で移動可能であることを特徴とする請求項１〜７の少なくともいずれかに記載のステージ装置。
9. 前記支持部によって支持された対象物を受け取って、ステージ外部へ搬送するための搬送機構を備えることを特徴とする請求項１〜８の少なくともいずれかに記載のステージ装置。
10. 請求項１〜９の少なくともいずれかのステージ装置をウエハステージまたはレチクルステージあるいはその双方として備えることを特徴とする露光装置。
11. 請求項１０の露光装置を用いてウエハを露光する工程と、
    前記ウエハを現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
12. 露光装置において、基板をステージに設けられた支持手段から搬送手段に受け渡す受渡し方法であって、
    基板を保持した状態でステージを受渡し位置まで移動させる工程と、
    前記受渡し位置において、ステージ内部に設けられた支持手段がステージ外部に設けられた駆動手段によって前記基板を保持する保持面から押し出される工程と、
    押し出された前記支持手段によって前記基板を支持する工程と、
    支持された基板を前記搬送手段が受取る工程と
    を備えることを特徴とする受渡し方法。

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