JP2010200452A - モータ装置及びステージ装置並びに露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】固定子60と移動子とのいずれか一方にコイル体63が設けられる。コイル体の第1領域を相変化冷却する第1冷却系CL1と、第1冷却系よりも高い冷却能力を有し、コイル体の第2領域をコイル体の温度分布に基づいて冷却する第2冷却系CL2と、を備える。
【選択図】図5
Description
また、特許文献2には、冷媒が相変化する際の潜熱により効果的にコイル体を冷却する技術が開示されている。
近年、スループットを向上させるために、ステージの速度(すなわち加速度)が大きくなっており、それに伴ってリニアモータからの発熱も大きくなる傾向にある。発熱が大きくなった場合には、コイル体の耐熱温度(例えば、コイルを被覆している樹脂材の耐熱温度)を超えた温度になり、所定の駆動特性が得られなくなる虞がある。
そこで、例えば上記の相変化冷却の能力を上げてコイル体を冷却することが考えられるが、コイル体を所定温度に制御しても、冷却能力が上がったことにより、冷媒が接するコイル体以外の部位については所定温度よりも低下する可能性がある。特に、コイル体は固定子、または可動子のいずれに設けられる場合であっても、モータ装置としての駆動効率を考慮して、発磁体との距離を小さくする設計がなされることから、ハウジングの外側に近い位置、すなわち装置内の空間に近い位置に配置されるため、環境温度に悪影響を及ぼす可能性がある。
本発明のモータ装置は、固定子(60)と移動子(51)とのいずれか一方にコイル体(63)が設けられたモータ装置(50)であって、コイル体の第1領域を相変化冷却する第1冷却系(CL1)と、前記第1冷却系よりも高い冷却能力を有し、前記コイル体の第2領域を該コイル体の温度分布に基づいて冷却する第2冷却系(CL2)と、を備えるものである。
従って、本発明のモータ装置では、コイル体の発磁体側の第1領域を第1冷却系により環境温度に悪影響を及ぼさない範囲で相変化冷却しつつ、発磁体と逆側の第2領域をコイル体の温度分布に応じて、第1冷却系よりも高い冷却能力をもって耐熱温度以下の温度に冷却することができる。
従って、本発明のステージ装置では、コイル体及び環境温度に悪影響を及ぼすことなく、所定の駆動特性で移動子の移動速度を大きくしてスループットを向上させることが可能になる。
従って、本発明の露光装置では、コイル体及び環境温度に悪影響を及ぼすことなく、高いスループットで露光処理を実施することが可能になる。
なお、本発明をわかりやすく説明するために、一実施例を示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
図1には、一実施形態に係る露光装置100の全体的な構成が概略的に示されている。この露光装置100は、いわゆるステップ・アンド・スキャン露光方式の走査型露光装置である。
この露光装置100は、照明系10、レチクル(マスク)Rを保持するレチクルステージRST、投影光学系PL、基板としてのウエハWをXY平面内でXY2次元方向に駆動する基板ステージ装置30、及びこれらの制御系等を備えている。
なお、永久磁石52N、52S、53N、54N、54S及び後述するコイル体63の大きさ、配置(配列ピッチ)と、基板テーブル18の駆動特性については国際公開第00/46911号等に詳述されているため、ここではその説明を省略する。
まず、第1冷却系CL1においては、供給装置70から相変化冷却用の冷媒が所定圧力で冷却空間CA1に供給される。冷媒の圧力としては、平板状部材68の外側の環境空間温度に応じて設定され、例えば環境空間温度22℃において、冷媒が液相から気相に変化(蒸発)する圧力で供給される。
図中、位置T1はコイル体63の下面(ペルチェ素子72に当接している位置)であり、位置T3は、コイル体63の上面(平板状部材68に最も近い位置)であり、図6で破線は第2冷却系CL2を用いずに第1冷却系CL1のみでコイル体63を冷却したときの関係を示し、実線は第1、第2冷却系CL1、CL2の双方を用いて冷却したときの関係である。
続いて、平面モータ50の第2実施形態について、図7を参照して説明する。
この図において、図1乃至図6に示す第1実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
他の構成は、上記第1実施形態と同様である。
続いて、平面モータ50の第3実施形態について、図8を参照して説明する。
この図において、図1乃至図6に示す第1実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
すなわち、本実施形態では、供給装置75から冷却空間CA2に対して、第1冷却系CL1で森用いられる冷媒と同一種類の相変化冷却用冷媒が供給される。
冷却空間CA2に対して供給される冷媒は、コイル体63の内部温度が耐熱温度以下となるときの下面の表面温度で液相から気相に変化(蒸発)する圧力(第1冷却系CL1により冷却空間CA1に供給される冷媒よりも低い圧力)で供給される。
このように、本実施形態では、上記第1実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、第1冷却系CL1、第2冷却系CL2で用いる冷媒を同一種とすることができ、冷媒供給系及び回収系の少なくとも一部を共用することが可能になり、材料コスト及び設備コストの低減を実現できる。
また、上記実施形態では、当接部材としてペルチェ素子72とヒートパイプ72Aをそれぞれ個別に設置する構成を例示したが、これに限定されるものではなく、ペルチェ素子72及びヒートパイプ72Aを双方積層したり、並列して用いる構成としてもよい。
また、上記実施形態では、固定子60にコイル体63が設けられ、移動子である基板テーブル18に永久磁石52、54が設けられる、所謂ムービングマグネット型(MM型)の平面モータ50を例示したが、これとは逆に、固定子60に永久磁石52、54が設けられ、移動子である基板テーブル18にコイル体63が設けられる、所謂ムービングコイル型(MC型)の平面モータ50にも本発明を適用できることは言うまでもない。
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第1パターンと基板とをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第1パターンの縮小像を基板上に転写した後、第2パターンと基板とをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第2パターンの縮小像を第1パターンと部分的に重ねて基板上に一括露光してもよい(スティッチ方式の一括露光装置)。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板上で少なくとも2つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Pを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン(又は位相パターン・減光パターン)を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第6,778,257号公報に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク(可変成形マスクとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子(空間光変調器)の一種であるDMD(Digital Micro-mirror Device)などを含む)を用いてもよい。
また、例えば国際公開第2001/035168号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板上に形成することによって、基板上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置(リソグラフィシステム)にも本発明を適用することができる。
また、例えば特表2004−519850号公報(対応米国特許第6,611,316号)に開示されているように、2つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、1回の走査露光によって基板上の1つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
ステップS21(酸化ステップ)おいては、ウエハの表面を酸化させる。ステップS22(CVDステップ)においては、ウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップS23(電極形成ステップ)においては、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップS24(イオン打込みステップ)においては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップS21〜ステップS24のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
Claims (9)
- 固定子と移動子とのいずれか一方にコイル体が設けられたモータ装置であって、
前記コイル体の第1領域を相変化冷却する第1冷却系と、
前記第1冷却系よりも高い冷却能力を有し、前記コイル体の第2領域を該コイル体の温度分布に基づいて冷却する第2冷却系と、
を備えるモータ装置。 - 前記第2領域の表面温度と、前記コイル体の内部温度との相関関係に基づいて前記第2領域を冷却する請求項1記載のモータ装置。
- 前記第2冷却系は、前記コイル体の第2領域に当接する当接部材と、該当接部材を介した熱交換により前記コイル体の第2領域を冷却する熱交換装置とを有する請求項1または2記載のモータ装置。
- 前記当接部材がペルチェ素子を有する請求項3記載のモータ装置。
- 前記当接部材がヒートパイプを有する請求項3または4記載のモータ装置。
- 前記熱交換装置は、第2の相変化冷却により前記当接部材を介して前記コイル体の第2領域を冷却する請求項3から5のいずれか一項に記載のモータ装置。
- 前記第1冷却系における相変化冷却と、前記第2の相変化冷却とは、同一種類の冷媒を用いる請求項6記載のモータ装置。
- 請求項1から7のいずれか一項に記載のモータ装置を備えるステージ装置。
- 請求項8記載のステージ装置を備える露光装置。
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---|---|---|---|---|
CN110582927A (zh) * | 2017-05-03 | 2019-12-17 | 赛峰直升机发动机公司 | 用于涡轮机启动器/发电机的具有相变材料的电机 |
JP2020071321A (ja) * | 2018-10-30 | 2020-05-07 | キヤノン株式会社 | 冷却装置、光源装置、露光装置及び物品の製造方法 |
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