JP3741401B2 - 基板搬送装置、半導体製造装置および液晶プレート製造装置 - Google Patents

基板搬送装置、半導体製造装置および液晶プレート製造装置 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハや液晶プレートなどの基板を搬送するための基板搬送装置、半導体露光装置などの半導体製造装置、および液晶プレート製造装置に関るものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体素子製造の効率化に伴い、半導体露光装置において使用するウエハの大型化が進んできている。このような半導体露光装置で使用するウエハとしては、今までの6インチウエハおよび8インチウエハから12インチウエハに変化してきている。また、上記ウエハを搬送する搬送系も同じように大型化されてきている。
【0003】
ところで、上記ウエハおよび搬送系が大型化していく中、ウエハが大型化することにより搬送中のたわみやゆがみ等の問題が発生している。つまり、大型のウエハを従来と同じ方式の搬送系で搬送しようとした場合、ウエハ自体のたわみ等が発生しウエハキャリア等への搬送時、ウエハの端面とウエハキャリアを干渉させて、キャリアやウエハの破損事故が発生する。このような問題に対し、従来は上記たわみ量等を予想し干渉を起こさないようにウエハのたわみ相当の量をオフセットとして事前にウエハキャリアを垂直方向に移動させていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来例では干渉を起こさない目的でウエハのたわみ相当の量をオフセットとして事前にウエハキャリアを垂直方向に移動しているが、それでもウエハのたわみ量自体がばらつくため、ウエハとウエハキャリアの干渉が発生していた。このため干渉によるウエハ破損事故や装置故障や装置エラーが発生して装置が停止し、エンジニアによる装置の修復作業が発生していた。この装置修復作業のため装置の稼働率が低下するという問題が生じていた。
同様の問題は、液晶表示パネルを製造するための液晶プレートなど半導体ウエハ以外の基板を扱う製造装置においても発生する。
【0005】
本発明は、上述の従来例における問題点に鑑みてなされたものであり、上述のように半導体ウエハや液晶プレートなどの基板のたわみ量がばらついても、搬送中の干渉による基板破損事故、装置故障または装置エラーを起こすことを防止し、エンジニアによる装置の修復作業の減少およびメンテナンス負荷の軽減を図り、スループットおよび生産性を向上させることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため本発明の基板搬送装置は、基板を保持し水平に搬送する搬送手段と、前記搬送手段から基板を受け取る受け取り部とを有する基板搬送装置において、前記搬送手段により保持された基板の搬送途中の複数位置で該基板の垂直方向の位置を測定する測定手段と、前記搬送手段により保持された前記基板の水平方向の位置と前記測定手段により測定された前記基板の複数の垂直方向の位置とに基づいて前記受け取り部の垂直方向の位置を調整する調整手段と、を設けたことを特徴とする。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の一形態に係る基板搬送装置は、基板を保持し水平に搬送する搬送手段と、前記搬送手段から基板を受け取る受け取り部とを有する基板搬送装置において、前記搬送手段により保持された基板の搬送途中の複数位置で該基板の垂直方向の位置を測定する測定手段と、前記搬送手段により保持された前記基板の水平方向の位置と前記測定手段により測定された前記基板の複数の垂直方向の位置とに基づいて前記受け取り部の垂直方向の位置を調整する調整手段と、を設ける。
【0010】
【実施例】
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
(第1の実施例)
図1は、本発明の一実施例に係る半導体製造装置の構成を示す図である。同図の半導体製造装置は、露光基板として半導体パターンを焼き付けるウエハ3をバキューム吸着するウエハハンド2、ウエハハンド2を固定する固定支柱部1、固定支柱部1と走査ガイド12を接続している接続部4、ウエハ3のZ方向の位置を両サイドから検知するセンサ投光部9とセンサ受光部10、基板受け渡しおよび収納部としてのウエハキャリア8を固定するための固定台7、固定台7をガイド6上Z方向に移動させるための駆動部5から構成される。固定支柱部1は内部の駆動機構(不図示)により回転動作可能となっている。センサ投光部9はセンサガイド部13上をZ方向に移動する。センサ受光部10はセンサ投光部9とウエハ3を挟んで対向しており、センサ投光部9と同期してセンサガイド部14上をΖ方向に移動する。
【0011】
図2は、図1の装置の電気関係のブロック図である。
図2に示すように、図1の半導体製造装置の電気ブロックは、センサ投光部9からの光を受光するセンサ受光部10の出力を増幅するアンプ部15、アンプ部15から出力される信号をAD変換するためのAD変換部16、本実施例に係るウエハ搬送関係の指示を出すための上位のCPU18、センサ9,10からのデジタルデータや上位CPU18からのデータを受け取り、各種の制御を行なうCPU17、センサ受光部10およびセンサ投光部9のΖ方向の駆動を行なうためのモータ22、モータ22を駆動するためのドライバ19、固定台7をガイド6上Z方向に移動させるためのモータ23、モータ23を駆動するためのドライバ20、ウエハハンド2を固定する固定支柱部1をキャリア8方向に水平に駆動させるためのモータ24と、モータ24を駆動するためのドライバ21から構成される。
【0012】
図3は、図1におけるセンサとウエハの位置関係を示した図である。
次に、図1、2および3を使用して本装置の動作を説明する。
図1の半導体製造装置において、ウエハ3を搬送しウエハキャリア8の特定スロットに搬送する場合、上位CPU18からのコマンドデータに従い、CPU17は固定支柱部1を移動させるためモータ24のドライバ21に駆動信号を出力する。本実施例ではウエハキャリアの第3スロットにウエハを搬送する場合について説明する。
【0013】
CPU17の指令に従い、固定支柱部1上のハンド21は半導体製造装置の他のユニット(不図示)からウエハ3を回収する。回収されたウエハ3をハンド2上に載せて固定支柱部1がキャリア8の方向に移動する。ウエハ3の先端がセンサ受光部10とセンサ投光部9の間を通過する時、CPU17はセンサ受光部10およびセンサ投光部9のZ方向の駆動を行なうためドライバ19に駆動信号を出力する。
【0014】
センサ受光部10とセンサ投光部9はZ方向の駆動を行ないウエハ3の先端部分を検知する。センサ受光部10からの出力信号はアンプ部15にてAD変換部16の入力範囲に合わせるように増幅され、AD変換部16に入力される。AD変換部16では入力されたアナログ信号をデジタル信号に変換する。変換されたデジタル信号は、CPU17に入力される。
【0015】
CPU17において、入力されたデジタル信号とドライバ19に出力した信号を比較し、現在のウエハ3のZ方向の位置を計算する。またこれと同時にセンサ受光部10の出力のデータよりウエハ3のZ方向の最大値と最小値を計算する。
【0016】
CPU17は前記Z方向の最大値と最小値の計算結果をもとに、ウエハ3全体のZ方向位置とウエハ3の先端のZ方向位置および基板たわみ量を確認する。本確認においてたわみ量が事前に入力された量と比較して大きい場合、CPU17はウエハキャリア8にて干渉が発生すると判断し、固定支柱部1を水平方向に駆動するモータ24を停止させるため、モータ24を駆動するドライバ21に停止信号を出力する。ドライバ21が停止信号を受け取るとドライバ21は固定支柱部を駆動しているモータ24を停止させる。
【0017】
CPU17は、前記の基板たわみ量が事前に入力された量と比較して小さいと判断した場合、ウエハキャリア8のZ方向の位置を計算しウエハキャリア8の第3スロット位置と前記ウエハ3先端のZ方向の位置が同じ位置になるようにドライバ20に駆動指令を出す。駆動指令に従いドライバ20はウエハキャリア8が載っている固定台7を動作させるためのモータ23を駆動する。さらにウエハ3をハンド2上に載せて固定支柱部1がキャリア8の方向に移動する。このとき固定支柱部1の移動と同期しCPU17はウエハ3の側面部分を検知するためセンサ受光部10およびセンサ投光部9をZ方向に駆動させる。
【0018】
ウエハ3をハンド2上に載せてキャリア8の方向に搬送する間、CPU17は上記センサ受光部10からの信号またはデータ、センサ受光部10およびセンサ投光部9のZ方向の駆動量と固定支柱部1の移動量のデータを計算し、ウエハキャリア8とウエハ3が干渉位置関係になっていないかを確認する。本位置関係において事前に決められたデータより大きい位置ずれが確認された場合には、前記固定支柱部1の停止動作と同じシーケンスで停止させる。
【0019】
(第2の実施例)
図4は、本発明の第2の実施例に係る半導体製造装置の図である。図4に示す第2の実施例と図1に示す第1の実施例の違いは、Z方向の移動手段11がキャリア8およびキャリアの固定台7に付属しているのではなく基板の固定支柱1に取り付いていることであり、図2のモータ23が固定支柱1上の移動手段11を駆動させるためのモータとなり、前記モータ23を駆動するためのドライバがドライバ20となる点とまたセンサ受光部10とセンサ投光部9がそれぞれ駆動部分を持たないラインセンサ受光部25とラインセンサ投光部26になり、図2で示したセンサ受光部10およびセンサ投光部9のZ方向の駆動を行なうためのモータ22およびモータ22を駆動するためのドライバ19が削除された点である。
【0020】
図4および5を使用して本装置の動作を説明する。
図5は、本実施例に係る半導体製造装置のセンサとウエハの位置関係を示した図である。
【0021】
第1の実施例と同じように本半導体製造装置にて基板を搬送しウエハキャリアの特定スロットに搬送する場合、上位CPU18からのコマンドデータに従いCPU17は固定支柱部1を水平方向と垂直方向に移動させるためモータ24のドライバ21とモータ23のドライバ20に駆動信号を出力する。本実施例ではウエハキャリアの第5スロットにウエハを搬送する場合について説明する。
【0022】
CPU17の指令に従いハンド2を垂直方向最上部に移動する。固定支柱部1上のハンド2は装置の他のユニット(不図示)からウエハ3を回収する。回収されたウエハ3をハンド2上に載せて固定支柱部1がキャリア8の方向に移動する。
【0023】
ウエハ3の先端がラインセンサ受光部25とラインセンサ投光部26の間を通過する時ラインセンサ受光部25はウエハ3の先端部分のZ方向の位置を検知する。
ラインセンサ受光部25からの出力信号はアンプ部15にてAD変換部16の入力範囲に合わせるように増幅され、AD変換部16に入力される。AD変換部16では入力されたアナログ信号をデジタル信号に変換する。変換されたデジタル信号は、CPU17に入力される。CPU17においては、入力されたデジタル信号から現在のウエハ3全体のZ方向位置の最大値と最小値を計算する。
【0024】
CPU17は、前記ウエハ3全体のZ方向位置の最大値と最小値の計算結果をもとにしウエハ3全体のZ方向位置、ウエハ3先端のZ方向位置、およびウエハ3のたわみ量を確認する。本確認においてたわみ量が事前に入力された量と比較して大きい場合、CPU17は、ウエハキャリア8にて干渉が発生すると判断し、固定支柱部1を駆動するモータ24を停止させるためモータ24を駆動するドライバ21に停止信号を出力する。
ドライバ21が停止信号を受け取るとドライバ21は固定支柱部1を駆動させるためのモータ24を停止させる。
【0025】
CPU17において本たわみ量が事前に入力された量と比較して小さいと判断した場合、ウエハ3のΖ方向の位置を計算しウエハキャリア8の第5スロット位置と前記ウエハ3先端のZ方向の位置が同じ位置になるようにドライバ20に駆動指令を出す。
駆動指令に従いドライバ20はハンド2のΖ方向移動手段11を動作させるためのモータ23を駆動する。
さらにウエハ3をハンド2上に載せて固定支柱部1がキャリア8の方向に移動する。このとき固定支柱部1の移動と同期しCPU17はラインセンサ受光部25からの出力信号からウエハ3の側面部分を検知する。ウエハ3を搬送中、CPU17は上記ラインセンサ受光部25からの信号またはデータと固定支柱部1の移動量のデータを計算し、第5スロット位置と前記ウエハ3先端のZ方向の位置が干渉位置関係になっていないかを確認する。本位置関係において事前に決められたデータより大きい位置ずれが確認された場合前記固定支柱部の停止動作と同じシーケンスで停止させる。
【0026】
(第3の実施例)
図6は、本発明の第3の実施例に係る液晶プレート製造装置の図である。
図7は、図6における電気関係のブロック図である。
第1、第2の実施例は露光基板としてウエハを搬送する場合についての実施例であったが第3の実施例は露光基板として液晶プレートを搬送するものである。
【0027】
液晶プレートでは近年大型化が推進され液晶プレート自体のたわみ等が大きくなっている。このため本発明による高い効果が期待できる。
【0028】
図6に示す第3の実施例と図1および図4に示す第1の実施例および第2の実施例の違いは、第3の実施例では搬送物が大型液晶プレー卜27であり、かつ液晶プレートを受け渡す受け渡し部がZ方向駆動機構を持ったプレートチャック28となった点である。前記プレートチャック28はXYステージのYステージ29上に、プレートチャック28およびYステージ29はXステージ30上に載っている。
【0029】
また電気ブロック図においては、第1、第2の実施例ではCPU17が各モータ22〜24およびドライバ19〜21に駆動信号を出力していたが、本実施例ではこれらの駆動信号出力のうちモータ22〜23およびドライバ19〜20への信号出力が他ユニットへのデータの受け渡しに変わっている。
【0030】
本実施例ではラインセンサ26で計測した最大値および最小値データをCPU17にて処理し、処理したデータから液晶プレート全体のZ方向位置、液晶プレート先端のZ方向位置を求め、CPU17は前記計算結果をもとにし、液晶プレート27のたわみ量を確認する。本確認にて、たわみ量が事前に入力されたたわみ量と比較して大きい場合、プレートチャック28にて干渉が発生すると判断し、CPU17は固定支柱部1を駆動するモータ24を停止させるため、モータ24を駆動するドライバ21に停止信号を出力する。ドライバ21が停止信号を受け取るとドライバ21は固定支柱部1を駆動さセるためのモータ24を停止させる。
【0031】
CPU17において本たわみ量が事前に入力された量と比較して小さいと判断した場合、プレートチャック28のZ方向の位置を計算し、プレートチャック28の位置と前記液晶プレート27先端のZ方向の位置が同じ位置になるようにステージ制御用のCPU34に駆動データを送る。
【0032】
さらに液晶プレート27をハンド2上に載せて固定支柱部1がプレートチャック28の方向に移動する。このとき固定支柱部1の移動と同期し、CPU17はラインセンサ受光部25からの出力信号から液晶プレート27の側面部分を検知する。液晶プレート27の搬送中、CPU17は上記ラインセンサ受光部25からの出力信号またはデータと固定支柱部1の移動量のデータを計算し、プレートチャック28と液晶プレート27が干渉位置関係になっていないかを確認する。本位置関係において事前に決められたデータより大きい位置ずれが確認された場合、前記固定支柱部の停止動作と同じシーケンスで停止させる。
【0033】
(第4の実施例)
上述の実施例においては、ウエハ3とウエハキャリア8または液晶プレート27とプレートチャック28が干渉位置関係にある場合、ウエハ3または液晶プレート27の搬送を停止するようにしていた。以下の第4〜第6の実施例においては、上記の干渉位置関係が生じないようにウエハキャリア8またはプレートチャック28の垂直位置を制御する例について説明する。
第4の実施例は、第1の実施例とハードウエア構成は全く同じであるが、ソフトウエア、すなわちCPU17が実行するシーケンス(プログラム)が異なる。
【0034】
次に、図1、2および図8を使用して本第4の実施例に係る装置の動作を説明する。本半導体製造装置にてウエハを搬送しウエハキャリアの特定スロットに搬送する場合、上位CPU18からのコマンドデータに従い、CPU17は固定支柱部1を移動させるためモータ24のドライバ21に駆動信号を出力する。本実施例ではウエハキャリアの第3スロットにウエハを搬送する場合について説明する。
【0035】
CPU17の指令に従い固定支柱部1上のハンド2は本半導体製造装置の他のユニット(不図示)からウエハ3を回収する。回収されたウエハ3をハンド2上に載せて固定支柱部1がキャリア8の方向に水平移動する。ウエハ3の先端がセンサ受光部10とセンサ投光部9の間を通過する時、CPU17はセンサ受光部10およびセンサ投光部9のZ方向の駆動を行なうためドライバ19に駆動信号を出力する。センサ受光部10とセンサ投光部9はZ方向に駆動され、ウエハ3の先端部分を検知する。センサ受光部10からの出力信号1はアンプ部15にてAD変換部16の入力範囲に合わせるように増幅され、AD変換部16に入力される。AD変換部16では入力されたアナログ信号をデジタル信号に変換する。変換されたデジタル信号は、CPU17に入力される。CPU17において入力されたデジタル信号とドライバ19に出力した信号を比較し現在のウエハ3のZ方向位置の最大値と最小値を計算する。
【0036】
CPU17は前記ウエハ3のZ方向位置の最大値と最小値の計算結果をもとにしウエハ3全体のZ方向位置とウエハ3の先端のZ方向位置ウエハたわみ量を確認する。また同時にCPU17はウエハキャリア8のZ方向の位置を計算し、ウエハキャリア8の第3スロット位置と前記ウエハ3先端のZ方向の位置が同じ位置になるようにドライバ20に駆動指令を出す。駆動指令に従いドライバ20はウエハキャリア8が載っている固定台7を動作させるためのモータ23を駆動する。
【0037】
さらにウエハ3をハンド2上に載せて固定支柱部1がキャリア8の方向に移動する。
このとき固定支柱部1の移動と同期し、CPU17はウエハ3の側面部分を検知するためセンサ受光部10、センサ投光部9をZ方向に駆動させる。
CPU17は上記センサ受光部10からの信号またはデータとセンサ受光部10およびセンサ投光部9のZ方向の駆動量と固定支柱部1の移動量のデータを計算し、第3スロット位置と前記ウエハ3のZ方向の位置が同じ位置になるように常時ドライバ20に駆動指令を出す。
本動作を示したグラフが図8(a)(b)である。図8(a)は、ウエハ3を検知するためのセンサ検知部(9,10)のZ方向の位置ZS とセンサ検知部(9,10)の位置を0としたときのウエハ3の移動量Lの関係を示したものであり、図8(b)はセンサ検知部(9,10)の位置を0としたときのウエハ3の移動量Lとこのときに必要な固定台7のZ方向位置ZB の関係を示したものである。図8(b)に示してあるL2 はセンサ検知部(9,10)とウエハキャリア8の水平方向の位置の差分でありLC は固定支柱部1の通常の最大移動量を示している。
【0038】
上記センサ受光部10からの信号またはデータとセンサ受光部10およびセンサ投光部9のZ方向の駆動量と固定支柱部1の移動量Lのデータより、図8(a)のグラフに示すようにウエハ3のZ方向位置が計算できる。本計算結果からCPU17は、図8(b)に示すように、ウエハキャリア8が載っている固定台7のZ方向位置ZB を求め本位置に固定台7を移動させる。
【0039】
上記に示したようにCPU17は常時ウエハ3の側面部分を検知するためセンサ受光部10およびセンサ投光部9をZ方向に駆動させ、センサ受光部10からの信号またはデータとセンサ受光部10およびセンサ投光部9のZ方向の駆動量と固定支柱部1の移動量のデータを計算し、第3スロット位置と前記ウエハ3のZ方向の位置が同じ位置になるようにウエハキャリア8が固定されている固定台7を制御しウエハ3をウエハキャリア8内に搬送する。
【0040】
(第5の実施例)
第5の実施例のハードウエア構成は、第2の実施例を示す図4および5と全く同じである。但し、ソフトウエア、すなわちCPU17が実行するシーケンスが第2の実施例と異なる。
【0041】
次に、図4および5を参照しながら、本発明の第5の実施例を説明する。この第5の実施例と第4の実施例の違いはZ方向の移動手段11がキャリア8およびキャリアの固定台7に付属しているのではなく、ウエハの固定支柱部1に取り付いていることであり、図2のモータ23が固定支柱部1上の移動手段11を駆動させるためのモータとなり、前記モータ23を駆動するためのドライバがドライバ20となる点と、センサ受光部10およびセンサ投光部9がそれぞれ駆動部分を持たないラインセンサ受光部25およびラインセンサ投光部26になり、図2で示したセンサ受光部10とセンサ投光部9のZ方向の駆動を行なうためのモータ22およびモータ22を駆動するためのドライバ19が削除された点である。
【0042】
図4および5を使用して本装置の動作を説明する。
第4の実施例と同じように本半導体製造装置にてウエハを搬送しウエハキャリアの特定スロットに搬送する場合、上位CPU18からのコマンドデータに従いCPU17は固定支柱部1を水平方向と垂直方向に移動させるためモータ24のドライバ21とモータ23のドライバ20に駆動信号を出力する。本実施例ではウエハキャリアの第5スロットにウエハを搬送する場合について説明する。
【0043】
CPU17の指令に従いハンド2を垂直方向最上部に移動し固定支柱部1上のハンド2は本半導体製造装置の他のユニット(不図示)からウエハ3を回収する。回収されたウエハ3をハンド2上に載せて固定支柱部1がキャリア8の方向に移動する。
ウエハ3の先端がラインセンサ受光部25とラインセンサ投光部26の間を通過する時、ラインセンサ受光部25はウエハ3の先端部分のZ方向の位置を検知する。
【0044】
ラインセンサ受光部25からの出力信号はアンプ部15にてAD変換部16の入力範囲に合わせるように増幅され、AD変換部16に入力される。AD変換部16では入力されたアナログ信号をデジタル信号に変換する。変換されたデジタル信号は、CPU17に入力される。CPU17において入力されたデジタル信号から現在のウエハ3のZ方向位置の最大値と最小値を計算する。
【0045】
CPU17は前記ウエハ3のZ方向位置の最大値と最小値の計算結果をもとにウエハ3全体のZ方向位置とウエハ3の先端のZ方向位置ウエハたわみ量を確認し、ウエハキャリアの第5スロット位置と前記ウエハ3先端のZ方向の位置が同じ位置になるようにドライバ20に駆動指令を出す。駆動指令に従いドライバ20はハンド2のZ方向移動手段11を動作させるためのモータ23を駆動する。
【0046】
さらにウエハ3をハンド2上に載せて固定支柱部1がキャリア8の方向に移動する。このとき固定支柱部1の移動と同期しCPU17はラインセンサ受光部25からの出力信号からウエハ3の側面部分を検知する。CPU17は上記ラインセンサ受光部25からの信号、データと固定支柱部の移動量のデータを計算し、第5スロット位置と前記ウエハ3のZ方向の位置が同じ位置になるように常時ドライバ20に駆動指令を出す。
【0047】
上記に示したようにCPU17は常時ウエハ3の側面部分を検知し固定支柱部1の移動量のデータを計算し第5スロット位置と前記ウエハ3のZ方向の位置が同じ位置になるようにウエハ3が載っているハンド2を制御しウエハ3をウエハキャリア8内に搬送する。
【0048】
(第6の実施例)
第6の実施例のハードウエア構成は、第3の実施例を示す図6および7と全く同じである。但し、ソフトウエア、すなわちCPU17が実行するシーケンスが第3の実施例と異なる。
【0049】
次に、図6および7を参照しながら、本発明の第6の実施例を説明する。第4および第5の実施例はウエハを搬送する場合についての実施例であったが、この第6の実施例は液晶プレートの搬送についてのものである。
液晶プレートでは近年大型化が推進され液晶プレート自体のたわみ等が大きくなっている。このため本発明による高い効果が期待できる。
【0050】
本第6の実施例と第4の実施例または第5の実施例の違いは、本実施例では搬送物が大型液晶プレー卜27であり、かつ液晶プレー卜を受け渡す受け渡し部がZ方向駆動機構を持ったプレートチャック28となった点である。前記プレートチャック28はXYステージのYステージ29上に、プレートチャック28およびYステージ29はXステージ30上に載っている。
【0051】
また電気ブロック図においては、第4および第5の実施例ではCPU17が各モータ22〜24およびドライバ19〜21に駆動信号を出力していたが、本実施例ではこれらの駆動信号出力のうちモータ22〜23およびドライバ19〜20への信号出力が他ユニットへのデータの受け渡しに変わっている。
【0052】
本実施例ではラインセンサ26で計測したデータをCPU17にて処理し、ドライバ19〜20へ駆動信号を送出するのではなく、処理したデータからプレートチャックの全体のZ方向位置と先端のZ方向位置たわみ量を求め本位置情報をXYステージの制御を行なうCPU34にデータバス33を通して出力する。XYステージの制御を行なうCPU34は本データを基にし事前にプレートチャック28をたわみ量を含めた適正位置に移動させ液晶プレートをハンド2より受け取る。
【0053】
以上説明したように、搬送中に基板およびハンドの垂直位置を検知することにより、搬送する基板にそりたわみ等があった場合には、基板搬送を停止して、基板と基板受け渡し部の干渉事故を防ぐことができ、装置のトラブルを未然に防ぎ装置メンテナンス時間の減少が可能となる。
また、基板およびハンドの垂直位置を検知することにより、基板と基板収納部の垂直位置関係を補正して、安全に基板を基板収納部のウエハキャリアに収納することが可能となり、装置停止時間の減少、装置運用の効率アップも可能となる。
【0054】
また、第6の実施例に示すように事前にステージ上のチャックを移動することが可能となり、装置のスループットアップや装置の処理能力の向上も可能となった。
【0055】
【発明の効果】
本発明によれば基板のたわみ量がばらついても、搬送中の干渉による基板破損事故、装置故障または装置エラーを起こすことを防止し、エンジニアによる装置の修復作業の減少およびメンテナンス負荷の軽減を図り、スループットおよび生産性を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例に係る半導体製造装置の図である。
【図2】 図1の装置の電気関係のブロック図である。
【図3】 図1の装置におけるセンサと基板の位置関係を示した図である。
【図4】 本発明の第2の実施例に係る半導体製造装置の図である。
【図5】 図4の装置におけるセンサとウエハの位置関係を示した図である。
【図6】 本発明の第3の実施例に係る液晶プレート製造装置の図である。
【図7】 図6の装置の電気関係のブロック図である。
【図8】 図1の装置におけるセンサ検知部の位置とウエハの移動量と固定台の位置の関係を示した図である。
【符号の説明】
1:ウエハハンドを固定する固定支柱部、2:ウエハハンド、3:半導体パターンを焼き付けるウエハ、4:走査ガイド固定支持部を接続している接続部、5:駆動部、6:固定台のガイド、7:ウエハキャリア8を固定するための固定台、8:ウエハキャリア、9:センサ投光部、10:センサ投光部、11:ウエハハンドの移動手段、12:走査ガイド、13,14:センサガイド部、15:センサ受光部10の出力を増幅するアンプ部、16:AD変換するためのAD変換部、17:上位CPUからのデータを受け取り制御を行なうCPU、18:本ウエハ搬送関係の指示を出すための上位のCPU、19:モータ22を駆動するためのドライバ、20:モータ23を駆動するためのドライバ、21:モータ24を駆動するためのドライバ、22:センサ受光部、センサ投光部のZ方向の駆動を行なうためのモータ、23:固定台を移動させるためのモータ、24:固定支柱部を駆動させるためのモータ、25:ラインセンサ受光部、26:ラインセンサ投光部、27:液晶プレー卜、28:プレートチャック、29:Yステージ、30:Xステージ、31:ラインセンサ用アンプ部、32:ラインセンサ信号処理部、33:データバス、34:ステージ制御のためのCPU。

Claims (7)

  1. 基板を保持し水平に搬送する搬送手段と、前記搬送手段から基板を受け取る受け取り部とを有する基板搬送装置において、前記搬送手段により保持された基板の搬送途中の複数位置で該基板の垂直方向の位置を測定する測定手段と、前記搬送手段により保持された前記基板の水平方向の位置と前記測定手段により測定された前記基板の複数の垂直方向の位置とに基づいて前記受け取り部の垂直方向の位置を調整する調整手段と、を設けたことを特徴とする基板搬送装置。
  2. 前記測定手段は、垂直方向に可動の光センサを含むことを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。
  3. 前記測定手段は、垂直方向に沿って配置された光ラインセンサを含むことを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。
  4. 前記基板は被露光基板であることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の基板搬送装置。
  5. 前記受け取り部は基板収納部および基板ステージのいずれかであることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の基板搬送装置。
  6. 請求項1〜のいずれかに記載の基板搬送装置を有することを特徴とする半導体製造装置。
  7. 請求項1〜のいずれかに記載の基板搬送装置を有することを特徴とする液晶プレート製造装置。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7054713B2 (en) * 2002-01-07 2006-05-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Calibration cassette pod for robot teaching and method of using
US20040071534A1 (en) * 2002-07-18 2004-04-15 August Technology Corp. Adjustable wafer alignment arm
GB2392309B (en) * 2002-08-22 2004-10-27 Leica Microsys Lithography Ltd Substrate loading and unloading apparatus
CN1324670C (zh) * 2002-09-29 2007-07-04 光洋热系统株式会社 热处理装置用工件装载装置
US6905300B1 (en) * 2004-01-16 2005-06-14 Dmetrix, Inc. Slide feeder with air bearing conveyor
JP4626205B2 (ja) * 2004-07-28 2011-02-02 シンフォニアテクノロジー株式会社 基板の受渡し方法、及びその装置
ATE549129T1 (de) 2007-04-26 2012-03-15 Adept Technology Inc Vakuumgreifvorrichtung
JP6408349B2 (ja) * 2014-11-10 2018-10-17 株式会社アルバック 基板搬送方法
JP6357187B2 (ja) * 2016-03-31 2018-07-11 キヤノン株式会社 搬送装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
JP7199211B2 (ja) * 2018-12-03 2023-01-05 東京エレクトロン株式会社 搬送検知方法及び基板処理装置

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3945505A (en) * 1974-07-08 1976-03-23 Motorola, Inc. Indexing apparatus
US4694186A (en) 1984-09-10 1987-09-15 Canon Kabushiki Kaisha System for photoelectric detection
JPH0620091B2 (ja) * 1985-01-31 1994-03-16 株式会社ニコン 基板の搬送装置
JPS61188331A (ja) * 1985-02-15 1986-08-22 Nippon Texas Instr Kk 物体取出装置
JPH07115773B2 (ja) * 1986-01-29 1995-12-13 株式会社ニコン 基板搬送装置
JPS63106127U (ja) * 1986-12-26 1988-07-08
US4819167A (en) * 1987-04-20 1989-04-04 Applied Materials, Inc. System and method for detecting the center of an integrated circuit wafer
US4895486A (en) * 1987-05-15 1990-01-23 Roboptek, Inc. Wafer monitoring device
US5685684A (en) * 1990-11-26 1997-11-11 Hitachi, Ltd. Vacuum processing system
JP2868645B2 (ja) * 1991-04-19 1999-03-10 東京エレクトロン株式会社 ウエハ搬送装置、ウエハの傾き検出方法、およびウエハの検出方法
KR940006241A (ko) * 1992-06-05 1994-03-23 이노우에 아키라 기판이재장치 및 이재방법
JPH06236910A (ja) * 1993-02-08 1994-08-23 Tokyo Electron Yamanashi Kk 検査装置
JPH06244268A (ja) * 1993-02-16 1994-09-02 Tokyo Electron Tohoku Ltd 移載装置
JP3172900B2 (ja) * 1993-02-19 2001-06-04 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置及び基板処理装置及び基板搬送方法及び基板処理方法
US5642978A (en) * 1993-03-29 1997-07-01 Jenoptik Gmbh Device for handling disk-shaped objects in a handling plane of a local clean room
KR100213991B1 (ko) * 1994-05-23 1999-08-02 히가시 데쓰로 프로우브 장치
JP3674063B2 (ja) * 1994-06-21 2005-07-20 東芝機械株式会社 ウェハ搬送装置
TW319751B (ja) * 1995-05-18 1997-11-11 Toshiba Co Ltd
JP3347528B2 (ja) 1995-05-23 2002-11-20 キヤノン株式会社 半導体製造装置
TW309503B (ja) * 1995-06-27 1997-07-01 Tokyo Electron Co Ltd
KR100315007B1 (ko) * 1995-11-22 2002-02-28 이시다 아키라 카세트내의 기판 검출 및 반송장치와 그 방법
JPH09283600A (ja) * 1996-04-09 1997-10-31 Toshiba Corp ウエハ移載装置におけるウエハ高さ位置検出機構
JPH09283603A (ja) * 1996-04-10 1997-10-31 Metsukusu:Kk 半導体ウェハ検出装置
US5909994A (en) * 1996-11-18 1999-06-08 Applied Materials, Inc. Vertical dual loadlock chamber
US6013920A (en) * 1997-11-28 2000-01-11 Fortrend Engineering Coirporation Wafer-mapping load post interface having an effector position sensing device

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