JPS62219509A - 真空装置内の基板搬送機構 - Google Patents

真空装置内の基板搬送機構

Info

Publication number
JPS62219509A
JPS62219509A JP6218886A JP6218886A JPS62219509A JP S62219509 A JPS62219509 A JP S62219509A JP 6218886 A JP6218886 A JP 6218886A JP 6218886 A JP6218886 A JP 6218886A JP S62219509 A JPS62219509 A JP S62219509A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rail
pulley
substrate
vacuum
arm
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6218886A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH07107913B2 (ja
Inventor
Toshihiro Nakamura
中村 智弘
Junji Saito
淳二 斉藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP6218886A priority Critical patent/JPH07107913B2/ja
Publication of JPS62219509A publication Critical patent/JPS62219509A/ja
Publication of JPH07107913B2 publication Critical patent/JPH07107913B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 半導体の製造においては真空清白で処理を行うウェハー
・プロカスが多く適用される。真空槽内で簡単な方法に
て、基板をある位置より他の位置に搬送する手段として
マグネット・カップル式マニプレータが使用されるが、
動作時負荷保持部の位置精度に欠ける問題がある。本発
明はマニプレータの他端側に滑車、真空槽側にレールを
設けて精度の向上を図った。
〔産業上の利用分野〕。
本発明は、真空槽内の基板搬送機構としてのマグネット
・カップル式マニプレータの改良に関する。。
半導体装置の製造では真空槽内でのプロセスが数多く適
用される。この場合真空槽の真空度の維持、プロセスの
効率化等のため真空槽を多槽化し、真空槽間をゲートバ
ルブで接続せる構造が使用される・ このような構造で、一つの真空槽より次の真空槽に基板
を移動するのにマグネット・カップル式マニプレータが
使用される。
然し、従来より使用されている構造では、位置精度が低
い欠点があり改善が要望されている。
〔従来の技術〕
従来の装置で使用されているマグネット・カップル式マ
ユブレークの構造を第2図により説明する。
1は図面の右側の真空槽に接続された円筒形の真空シー
ルドで、内部に負荷保持部2(基板支持台)が固定され
たアーム3が挿入される。
アーム3の一端にはスライド・ベアリングによる支持機
構4が固定され、真空シールド1内をスライドしつつ移
動可能となっている。真空シールドの真空槽側の端部に
は、別に内側にスライド・ベアリングを持つ支持機構5
が固定され、スライドするアーム3を保持する。
一アームには内部マグネット6が固定され、真空シール
ドの外部マグネット7とによりマグネット・カップルを
構成し、外部マグネット7を左右に移動させることによ
り内部マグネット6を固定せるアーム3を左右に移動せ
しめる。
第2図の構造では支持機構4が真空シールド1の端面1
1に接する位置より内部マグネット6が支持機構5に接
する迄の移動距離pが最大基板搬送距離となる。
〔発明が解決しようとする問題点〕 上記に述べた、従来のマグネット・カップル式マユブレ
ークでは、アームが真空槽側に最大搬送距離移動せる状
態ではアームは極めて短距離を隔てた二つの支持機構4
.5により保持された片持梁に近い状態となる。
この結果、負荷保持部2はたわみを生じ、上下の位置精
度は著しく低下する。従って、以後の基板を真空槽内の
基板ボルダ−に移す作業性が著しく悪くなる。
〔問題点を解決するための手段〕
上記、従来の構造のマグネット・カップル式マユブレー
クの問題点は、アームの移動距離が増大し真空槽内に深
く挿入された位置では、マニプレータが片持梁となるこ
とに起因している。
本発明ではアームの他端側に基板搭載機能をもつ負荷保
持部に滑車を設け、真空槽側には該滑車を支持するレー
ルを設けることによって問題点の解決をはかるものであ
る。
〔作用〕
上記の如く負荷保持部に滑車、真空槽側には該滑車を支
持するレールを設けることにより、基板を支持するアー
ムは両端の支持点を含む3点支持となり、基板載置部の
上下の位置は常に一定となり、その精度は極めて高くな
る。
[実施例〕 本発明による一実施例を図面により詳細説明する。従来
の技術の項において用いた符号と同一のものは説明を省
略する。
第1図は2槽の真空槽を用いて、両頁空槽間で基板の搬
送を行う場合の搬送機構を模式的に示す断面図である。
真空槽8は予備真空槽と考えてもよいが、基板のロード
、アンロードを行う真空室とする。作業を行う真空槽9
とはゲートバルブ10を介して接続されている。真空槽
9内に基板の搬送の終わった後、ゲートバルブ10を閉
じて、基板の処理を行う。
負荷保持部2には滑車12を備え、一方ゲートバルブの
前後の真空槽8.9にはそれぞれレール13が設置され
ている。
上記レール13は、その高さは負荷保持部がレール上を
滑る時、アームが水平となる如く設置され、またレール
の前後は幾分下方に曲率をもって曲げられていて、滑車
12がレール上に進行するのを容易にしている。
基板14は真空槽8内でマニプレータの負荷保持部2の
上に搭載され、ゲートバルブ10を開いて外部マグネッ
ト7を動かすことにより真空槽9内に移動する。基板を
基板ホルダー15に移した後、アームをもとの位置に戻
し、ゲートバルブを閉じてプロセスが行われる。作業が
終わった後の基板を取出す工程も、基板の取扱いが逆と
なるだけである。
〔発明の効果〕
以上に説明せるごとく本発明の機構を使用せるマグネッ
ト・カップル式マニプレータにより搬送された基板の位
置精度は著しく向上し、基板のハンドリングの作業効率
の改善効果大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明にかかわる真空装置内の基板搬送機構を
説明する模式図、 第2図は従来のマグネット・カップル式マニプレータの
構造、 を示す。 図面において、 1は真空シールド、 2は負荷保持部、 3はアーム、 4.5は支持機構、 6は内部マグネット、 7は外部マグネット、 8.9は真空槽、 10はゲートバルブ、 11は端面、 12は滑車、 13はレール、 14は基板、 15は基板ホルダー、 をそれぞれ示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 真空槽(8)の外方に突出せる筒状の真空シールド(1
    )部に、一端にマグネット・カップル(6)、(7)を
    装着せるアーム(3)が挿入され、該アームを軸方向に
    滑動せしめるマニプレータ機構において、 該アームの他端側の負荷保持部(2)には滑車(12)
    を設け、前記真空槽側には該滑車を支持するレール(1
    3)を備えたことを特徴とする真空装置内の基板搬送機
    構。
JP6218886A 1986-03-19 1986-03-19 真空装置内の基板搬送機構 Expired - Fee Related JPH07107913B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6218886A JPH07107913B2 (ja) 1986-03-19 1986-03-19 真空装置内の基板搬送機構

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6218886A JPH07107913B2 (ja) 1986-03-19 1986-03-19 真空装置内の基板搬送機構

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62219509A true JPS62219509A (ja) 1987-09-26
JPH07107913B2 JPH07107913B2 (ja) 1995-11-15

Family

ID=13192912

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6218886A Expired - Fee Related JPH07107913B2 (ja) 1986-03-19 1986-03-19 真空装置内の基板搬送機構

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07107913B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02152820A (ja) * 1988-12-01 1990-06-12 Tel Sagami Ltd 熱処理装置
JPH02282476A (ja) * 1989-04-24 1990-11-20 Sanko Seisakusho:Kk 真空蒸着装置
WO1994026640A1 (en) * 1993-05-07 1994-11-24 Miller Kenneth C Wafer transport device
WO2021069034A1 (de) * 2019-10-10 2021-04-15 Atec Pharmatechnik Gmbh Behälter und verfahren zum transport von sterilem gut und zur entnahme in einem isolator, sowie kombination aus isolator und angedocktem behälter
CN112849983A (zh) * 2021-02-05 2021-05-28 保利长大海外工程有限公司 一种用于建筑施工的移动车

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02152820A (ja) * 1988-12-01 1990-06-12 Tel Sagami Ltd 熱処理装置
JPH02282476A (ja) * 1989-04-24 1990-11-20 Sanko Seisakusho:Kk 真空蒸着装置
WO1994026640A1 (en) * 1993-05-07 1994-11-24 Miller Kenneth C Wafer transport device
US5417537A (en) * 1993-05-07 1995-05-23 Miller; Kenneth C. Wafer transport device
WO2021069034A1 (de) * 2019-10-10 2021-04-15 Atec Pharmatechnik Gmbh Behälter und verfahren zum transport von sterilem gut und zur entnahme in einem isolator, sowie kombination aus isolator und angedocktem behälter
CN112849983A (zh) * 2021-02-05 2021-05-28 保利长大海外工程有限公司 一种用于建筑施工的移动车

Also Published As

Publication number Publication date
JPH07107913B2 (ja) 1995-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100577622B1 (ko) 용기의 일시적 반입, 유치, 반출용 장치
JP5111285B2 (ja) 試料搬送機構
JPH11145249A (ja) 基板の整列装置
CN211788912U (zh) 离子注入机的作业平台
KR20220100957A (ko) 기판 반송 장치 및 기판 처리 시스템
JPS62219509A (ja) 真空装置内の基板搬送機構
US6343905B1 (en) Edge gripped substrate lift mechanism
JP2002373928A (ja) 被移送体移送装置及びその移送方法
JPH0797564B2 (ja) 縦型半導体製造装置
JPH11165863A (ja) 基板搬送装置
JP2550787B2 (ja) 半導体装置の製造装置
JP2743274B2 (ja) 基板処理装置および基板搬送装置
KR100641497B1 (ko) 고정돌기를 구비한 운반 로봇의 이송 아암
US6854948B1 (en) Stage with two substrate buffer station
JPH0271544A (ja) 基板移載装置
KR102280034B1 (ko) 반송 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치
KR970001884B1 (ko) 반도체 웨이퍼 카세트
KR100252227B1 (ko) 반도체제조용물류반송장치
JPS63132444A (ja) ウエハハンドリング装置
JP4467374B2 (ja) ウエハ立替機、ウエハ処理システム
KR100572318B1 (ko) 반도체 기판을 컨테이너로부터 언로딩하는 이송장치
KR20230125747A (ko) 기판 처리 시스템 및 기판 처리 방법
JP2883888B2 (ja) 処理装置
KR20000014177A (ko) 웨이퍼 이송장치
JP2001093956A (ja) 試料搬送装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees