KR20020049820A - 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치 - Google Patents

반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20020049820A
KR20020049820A KR1020000079115A KR20000079115A KR20020049820A KR 20020049820 A KR20020049820 A KR 20020049820A KR 1020000079115 A KR1020000079115 A KR 1020000079115A KR 20000079115 A KR20000079115 A KR 20000079115A KR 20020049820 A KR20020049820 A KR 20020049820A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
reticle
axis
receiver
arm
cassette
Prior art date
Application number
KR1020000079115A
Other languages
English (en)
Inventor
정재관
Original Assignee
박종섭
주식회사 하이닉스반도체
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 박종섭, 주식회사 하이닉스반도체 filed Critical 박종섭
Priority to KR1020000079115A priority Critical patent/KR20020049820A/ko
Publication of KR20020049820A publication Critical patent/KR20020049820A/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67359Closed carriers specially adapted for containing masks, reticles or pellicles
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은 노광용 스텝퍼의 레티클 로딩장치의 구조 개선을 통해, 노광 장비안의 레티클 카세트 내에 수납되는 레티클에 대한 보관 방법의 변경이 가능하도록 하므로써, 장기 보관시에도 레티클의 크리스탈 뒷면 오염이 방지되도록 한 것이다.
이를 위해, 본 발명은 메인프레임(1)과, 상기 메인프레임(1)상에 Z축 방향을 따라 승강가능함과 더불어 Z축을 중심으로 회전 가능하도록 설치되는 제1아암(2)과, 상기 제1아암(2) 선단부에 Z축을 중심으로 회전 가능하도록 설치되는 제2아암(3)과, 레티클(14)이 안착되는 핑거(5)를 구비한 레티클 리시버(4)와, 상기 레티클(14)이 안착된 레티클 리시버(4)를 X축 또는 Y축을 중심으로 회전시키는 레티클 리시버 회전수단을 포함하여서 됨을 특징으로 하는 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치가 제공된다.

Description

반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치{device for loading reticle in exposure system in fabrication of semiconductor device}
본 발명은 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 노광을 위한 스텝퍼 내의 레티클 카세트에 수납되는 레티클(즉, 마스크)에 대한 보관 방법 개선을 위해, 레티클 로딩장치의 구조를 개선한 것이다.
도 1은 종래 노광공정용 스텝퍼의 레티클 로딩 시스템(reticle loading system)을 나타낸 사시도로서, 레티클 로딩 순서를 설명하기 위한 사시도로서, 레티클 카세트 적재실(9)의 레티클 카세트(10)내에 수납되어 있던 레티클(14)은 카세트 로봇(11)에 의해 레티클 카세트(10)를 빠져 나온 후, 레티클 로딩유니트(12)로 이동하게 된다.
이어, 상기 레티클 로딩유니트(12)로 빠져 나온 레티클(14)은 레티클 핸드(13)로 이동한 다음, 다시 반송로봇(도시는 생략함)의 작용에 의해 레티클 스테이지(도시는 생략함)로 이동한 후 노광에 투입된다.
한편, 도 2는 레티클 로딩유니트(12)를 나타낸 사시도로서, 메인프레임(1)과, 상기 메인프레임(1)상에 Z축 방향을 따라 승강가능함과 더불어 Z축을 중심으로회전 가능하도록 설치되는 제1아암(2)과, 상기 제1아암(2) 선단부에 Z축을 중심으로 회전 가능하도록 설치되는 제2아암(3)과, 상기 제2아암(3) 선단부에 Z축을 중심으로 회전 가능하도록 설치되는 레티클 리시버(4)를 포함하여 구성된다.
이 때, 상기 레티클 리시버(4)에는 레티클(14)이 직접 안착되는 핑거(5)가 구비된다.
한편, 종래에는 레티클(14)이 도 3에 도시된 바와 같은 형태로 레티클 카세트(10)내에 보관된다.
즉, 종래에는 레티클(14)을 레티클 카세트(10)내에 수납시, 레티클(14) 제작시 기판 역할을 하는 크리스탈(15)의 양면 중에서 패턴(16)이 형성되지 않은 면이 상부를 향하고 미세패턴(16)이 형성된 면은 하부를 향하도록 레티클(14)이 카세트 내부에 수납된다.
또한, 패턴(16)이 형성된 면은 박막(17)(pellicle)에 의해 2차적으로 커버링되어 패턴(16)영역에 이물질이 유입되는 것이 보다 확실히 방지된다.
그러나, 종래에는 이같은 방식으로 레티클(14)을 레티클 카세트(10)내에 보관함에 따라 레티클 카세트 적재실(9)(reticle cassette library)내에 레티클(14)이 장기간 방치될 경우, 마스크 제작시 기판 역할을 하는 크리스탈(15) 뒷면이 이물질로 인해 오염되는 문제점이 있었다.
따라서, 이를 해소하기 위해서는 카세트 내의 레티클(14) 수납 방향을 바꾸어, 도 6에 도시된 바와 같이 상기 레티클(14)의 박막(17)이 위쪽을 향하도록 하면 된다.
그러나, 이 경우에는 레티클(14) 상하면의 방향이 바뀌어 수납됨에 따라, 이에 맞추어 레티클 로딩유니트(12)의 구조 변경이 수반되어야 한다.
즉, 노광공정에의 투입을 위해 레티클(14)을 레티클 카세트 적재실(9)에 적재된 레티클 카세트(10)로부터 빼내어 레티클 핸드(13)측으로 이동시킬 경우, 레티클 로딩유니트(12)의 구조가 개선되지 않으면 안된다.
이는, 기존의 레티클 로딩유니트(12)는 기능상 상하 및 평면상으로의 이동은 가능하나, 레티클(14)의 상하면을 뒤집을 수 있는 회전기능은 없기 때문이다.
본 발명은 상기한 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 레티클 로딩장치의 구조 개선을 통해, 노광 장비안의 레티클 카세트 내에 수납되는 레티클에 대한 보관 방법의 변경이 가능하도록 하므로써, 장기 보관시 레티클의 크리스탈 뒷면 오염을 방지하는데 그 목적이 있다.
도 1은 종래 노광공정용 스텝퍼의 레티클 로딩 시스템을 나타낸 사시도로서, 레티클 로딩 순서를 설명하기 위한 사시도
도 2는 레티클 로딩 유니트를 나타낸 사시도
도 3은 레티클 카세트에 레티클이 놓인 모습을 나타낸 종단면도
도 4는 본 발명에 따른 레티클 로딩 유니트를 나타낸 사시도
도 5는 도 4의 측면도
도 6은 본 발명 장치 적용시, 레티클 카세트에 레티클이 수납된 모습을 나타낸 종단면도
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
1:메인프레임 2:제1아암
3:제2아암 4:레티클 리시버
5:핑거 6:진공홀
7:레티클 리시버 마운트 8:구동모터
9:레티클 카세트 적재실 10:레티클 카세트
11:카세트 로봇 12:레티클 로딩유니트
13:레티클 핸드 14:레티클
15:크리스탈 16:패턴
17:박막
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 메인프레임과, 상기 메인프레임상에 Z축 방향을 따라 승강가능함과 더불어 Z축을 중심으로 회전 가능하도록 설치되는 제1아암과, 상기 제1아암 선단부에 Z축을 중심으로 회전 가능하도록 설치되는 제2아암과, 레티클이 안착되는 핑거를 구비한 레티클 리시버와, 상기 레티클이 안착된 레티클 리시버를 X축 또는 Y축을 중심으로 회전시키는 레티클 리시버 회전수단을 포함하여서 됨을 특징으로 하는 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치가 제공된다.
이하, 본 발명의 일실시예를 첨부도면 도 4 내지 도 6를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 4는 본 발명에 따른 레티클 로딩유니트(12)를 나타낸 사시도이고, 도 5는 도 4의 측면도로서, 메인프레임(1)상에 Z축 방향을 따라 승강가능함과 더불어 Z축을 중심으로 회전 가능하도록 제1아암(2)이 설치되고, 상기 제1아암(2) 선단부에는 Z축을 중심으로 회전 가능하도록 제2아암(3)이 설치되며, 상기 제2아암(3) 선단부에는 Z축을 중심으로 회전 가능한 레티클 리시버 마운트(7)(reticle receiver mount)가 설치되고, 상기 레티클 리시버 마운트(7) 상에는 구동모터(9)가 장착되며, 상기 구동모터(9)의 회전축에는 진공홀(6)이 형성된 핑거(5)가 구비된 레티클 리시버(4)(reticle receiver)가 결합되어 구성된다.
즉, 상기 구성에서, 제2아암(3) 선단부에 Z축을 중심으로 회전 가능하도록 설치되는 레티클 리시버 마운트(7)와, 상기 레티클 리시버 마운트(7) 상면에 장착되는 구동모터(9)는 레티클 리시버 회전수단을 구성한다.
이와 같이 구성된 본 발명의 레티클 로딩유니트(12)의 작용은 다음과 같다.
먼저, 본 발명 장치 적용시에는, 레티클 카세트 적재실(9)에 적재된 레티클 카세트(10) 내에는 도 6에 나타낸 바와 같은 모습으로 레티클(14)이 수납된다.
이와 같이 된 상태에서 노광공정에의 투입을 위해 레티클 스테이지(도시는 생략함)으로 레티클(14)을 반송시킬 경우, 레티클 카세트 적재실(9)의 레티클 카세트(10)내에 수납되어 있던 레티클(14)은 카세트 로봇(11)에 의해 레티클 카세트(10)를 빠져 나온 후, 레티클 로딩유니트(12)로 이동하게 된다.
이어, 상기 레티클 로딩유니트(12)로 빠져 나온 레티클(14)은 레티클 핸드(13)로 이동하게 된다.
이 때, 본 발명에서는 레티클 카세트(10)에 수납된 레티클(14)이 도 6에서와 같이 패턴(16) 형성면이 상부를 향하고 있어, 카세트 로봇(11)에 의해 레티클 카세트(10)를 빠져 나온 레티클(14)은 레티클 로딩유니트(12)의 레티클 리시버(4)에 구비된 핑거(5)에 안착될 때까지 동일한 방향성을 나타내게 된다.
따라서, 레티클(14)을 레티클 핸드(13)로 반송하는 과정에서 레티클(14)의 상하면 위치를 바꾸어 주어야 하는데, 본 발명의 레티클 로딩유니트(12) 상에는 레티클 리시버(4)를 회전시킬 수 있는 수단이 구비되어 있으므로 레티클(14)을 뒤집을 수 있게 된다.
이 때, 본 발명에서는 핑거(5)에 진공홀(6)이 구비되어 있어, 레티클 리시버(4)의 X축 또는 Y축을 중심으로 한 회전시, 레티클(14)이 핑거(5)에 흡착되어 떨어지지 않게 된다.
이와 같은 레티클 로딩유니트(12)의 동작에 의해 레티클 핸드(13)측으로 이동한 레티클(14)은 다시 반송로봇(도시는 생략함)의 작용에 의해 레티클 스테이지(도시는 생략함)로 이동한 후 노광 공정에 투입된다.
이상에서와 같이, 본 발명은 노광용 스텝퍼의 레티클 로딩장치의 구조 개선을 통해, 노광 장비안의 레티클 카세트 내에 수납되는 레티클에 대한 보관 방법의 변경이 가능하도록 한 것이다.
이에 따라, 본 발명은 레티클 카세트에 레티클을 장기 보관시에도 레티클의 크리스탈 뒷면 오염을 효과적으로 방지할 수 있게 된다.

Claims (3)

  1. 메인프레임과,
    상기 메인프레임상에 Z축 방향을 따라 승강가능함과 더불어 Z축을 중심으로 회전 가능하도록 설치되는 제1아암과,
    상기 제1아암 선단부에 Z축을 중심으로 회전 가능하도록 설치되는 제2아암과,
    레티클이 안착되는 핑거를 구비한 레티클 리시버와,
    상기 레티클이 안착된 레티클 리시버를 X축 또는 Y축을 중심으로 회전시키는 레티클 리시버 회전수단을 포함하여서 됨을 특징으로 하는 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 레티클 리시버 회전수단은,
    상기 제2아암 선단부에 Z축을 중심으로 회전 가능하도록 설치되는 레티클 리시버 마운트와,
    상기 레티클 리시버 마운트 상면에 장착되는 구동모터를 포함하여서 됨을 특징으로 하는 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 레티클 리시버의 핑거에는 레티클의 흡착을 위한 복수개의 진공홀이 형성됨을 특징으로 하는 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치.
KR1020000079115A 2000-12-20 2000-12-20 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치 KR20020049820A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000079115A KR20020049820A (ko) 2000-12-20 2000-12-20 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000079115A KR20020049820A (ko) 2000-12-20 2000-12-20 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20020049820A true KR20020049820A (ko) 2002-06-26

Family

ID=27683770

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020000079115A KR20020049820A (ko) 2000-12-20 2000-12-20 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20020049820A (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100622335B1 (ko) * 2003-05-23 2006-09-14 아사히 가세이 일렉트로닉스 가부시끼가이샤 대형 펠리클의 지지장치 및 어태치먼트
KR100774828B1 (ko) * 2006-12-18 2007-11-07 동부일렉트로닉스 주식회사 레티클 방향전환장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100622335B1 (ko) * 2003-05-23 2006-09-14 아사히 가세이 일렉트로닉스 가부시끼가이샤 대형 펠리클의 지지장치 및 어태치먼트
KR100774828B1 (ko) * 2006-12-18 2007-11-07 동부일렉트로닉스 주식회사 레티클 방향전환장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100299114B1 (ko) 기판 반송 장치
KR100551207B1 (ko) 기판반송장치및기판반송방법
JP2845738B2 (ja) 回転式基板処理装置の基板回転保持具
CN101388327B (zh) 基板处理装置以及基板处理方法
KR20020092918A (ko) 레티클 보호용 제거 가능한 덮개, 이를 포함하는 시스템및 이를 사용하는 방법
JPH10116760A (ja) 露光装置及び基板保持装置
JP2007158343A (ja) 液浸リソグラフィシステム
JP2007214365A (ja) 基板処理装置
KR20030081453A (ko) 처리 도구내 기판상의 입자 오염물질의 저감 장치 및 방법
US8031324B2 (en) Substrate processing apparatus with integrated cleaning unit
KR20020049820A (ko) 반도체 제조를 위한 노광시스템의 레티클 로딩장치
JPH07302830A (ja) ウェハステージ及びウェハプロービング装置
KR20120112615A (ko) 액침 부재, 액침 부재의 제조 방법, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
JP2002299405A (ja) 基板搬送装置
US20070292769A1 (en) Method of Manufacturing Photomask Blank
JP7453757B2 (ja) 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法
JPH01192117A (ja) レジスト処理装置及びレジスト処理方法
JPH0669126A (ja) ウエハ周辺部クリーニング装置
KR100659451B1 (ko) 웨이퍼 밀봉 메카니즘을 가지는 개선된 이머전 리소그래피시스템
KR100439573B1 (ko) 노광 장비용 웨이퍼 홀더
KR101254796B1 (ko) 노광장치 및 그 제어방법
KR20240040648A (ko) 기판 세정 장치 및 기판 세정 방법
KR100376626B1 (ko) 반도체제조장치및그방법
KR100198646B1 (ko) 반도체소자 제조를 위한 노광 공정용 스텝퍼 장비의 씨타 스테이지 록킹장치
KR20230001068A (ko) 포토 마스크 반송 장치

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination