KR20230001068A - 포토 마스크 반송 장치 - Google Patents

포토 마스크 반송 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 포토 마스크 반송 장치를 제공한다. 일 예에서, 포토 마스크 반송 장치는, 베이스 ; 포토 마스크가 올려지는 포켓부를 갖는 그리고 상기 베이스 상부에 위치되는 홈 위치로부터 포토 마스크 픽업을 위한 픽업 위치로 이동하는 적어도 하나의 핸드를 포함하되; 상기 핸드는 포토 마스크의 에지를 지지하는 복수의 가이드 부재를 포함하되; 상기 가이드 부재는 포토 마스크의 중심을 향해 하향 경사지게 제공될 수 있다.

Description

포토 마스크 반송 장치{PHOTO MASK TRANSFER APPARATUS}
본 발명은 약액을 공급하여 포토 마스크를 세정하는 장치에서 포토 마스크를 반송하는 포토 마스크 반송 장치에 관한 것이다.
포토마스크(photo mask)는 석영이나 유리 기판 위에 반도체의 미세 회로를 형상화한 것으로서, 예를 들면 투명한 석영 기판의 상층에 도포된 크롬 박막을 이용하여 반도체 집적회로와 LCD 패턴을 실제 크기의 1~5배로 식각한 것이다. 포토마스크의 미세 패턴은 포토리소그래피 공정을 통해 기판 위에 형성된다. 포토리소그래피 공정은, 포토레지스트를 기판 위에 균일하게 도포하고, 스테퍼와 같은 노광장비를 이용하여 포토마스크 상의 패턴을 축소 투영 노광시킨 후, 현상 과정을 거쳐 2차원의 포토레지스트 패턴을 형성하기까지의 전 과정을 말한다.
포토마스크는 여러 가지 요건으로부터 기인된 오염을 제거하기 위하여 세정공정을 진행하고 있다. 포토 마스크 세정 공정은 마스크의 중심이나 중심에 가까운 부분에서 약액(SPM;Sulfuric Peroxide Mixture)을 분사하면서 마스크를 회전시켜 마스크 전면에 약액을 도포하고 도포된 약액이 기반상의 오염물을 제거하게 된다.
이러한 포토마스크 세정 공정에서 포토마스크는 웨팅(Wetting) 상태로 반송 장치에 의해 반송되는데, 이 과정에서 반송 장치의 핸드와 가이드의 잔존 수분이 포토마스크의 저면을 오염시키고, 저면이 오염된 포토마스크가 노광기에서 공정을 진행하면서 오염 성분이 기화하여 노광기의 2차 오염을 유발하게 된다.
또한, 기존 포토마스크 반송 장치에서 포토마스크를 진공으로 흡착하는 방식은 마스크 저면에 직접 접촉하는 형태로 저면 오염에 취약하며, 포토마스크를 그립하는 방식의 경우에도 마스크와의 접촉 면적이 커서 저면 오염 범위가 큰 단점이 있다.
본 발명의 목적은 포토마스크를 지지하는 가이드 상의 잔존하는 처리액에 의한 포토마스크 오염을 최소화할 수 있는 포토마스크 반송 장치를 제공한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급된 과제로 제한되지 않는다. 언급되지 않은 다른 기술적 과제들은 이하의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 베이스 ; 포토 마스크가 올려지는 포켓부를 갖는 그리고 상기 베이스 상부에 위치되는 홈 위치로부터 포토 마스크 픽업을 위한 픽업 위치로 이동하는 적어도 하나의 핸드를 포함하되; 상기 핸드는 포토 마스크의 에지를 지지하는 복수의 가이드 부재를 포함하되; 상기 가이드 부재는 포토 마스크의 중심을 향해 하향 경사지게 제공되는 포토 마스크 반송 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 가이드 부재는 포토 마스크의 저면 모서리와 점 접촉되는 접촉점을 갖는다.
또한, 상기 가이드 부재는 상기 접촉점을 기점으로 양측면이 위에서 아래로 경사지게 제공된다.
또한, 상기 가이드 부재는 상기 접촉점을 기점으로 포토마스크 단부와 마주하는 상단 몸체는 위로 갈수록 포토 마스크의 중심으로부터 멀어지도록 경사지게 제공된다.
또한, 상기 핸드는 상면이 상기 가이드 부재에서 흘러내린 물방울이 누적되지 않도록 좌우 각각 아래로 향하는 경사 구조를 갖는다.
또한, 상기 핸드는 발수성 코팅처리될 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 포토 마스크를 처리액으로 웨팅 처리하는 전처리 공정이 이루어지는 제1공정 하우징; 상기 제1공정 하우징에서 웨팅 상태의 포토 마스크에 대한 후처리 공정이 이루어지는 제2공정 하우징; 및 상기 제1공정 하우징에서 상기 제2공정 하우징으로 웨팅 상태의 포토 마스크를 반송하는 포토 마스크 반송 장치를 포함하되; 상기 포토 마스크 반송 장치는 베이스; 포토 마스크가 올려지는 포켓부를 갖는 그리고 상기 베이스 상부에 위치되는 홈 위치로부터 포토 마스크 픽업을 위한 픽업 위치로 이동하는 적어도 하나의 핸드를 포함하며; 상기 핸드는 포토 마스크의 에지를 지지하는 복수의 가이드 부재를 포함하되; 상기 가이드 부재는 포토 마스크의 중심을 향해 하향 경사지게 제공되는 포토 마스크 세정 설비가 제공될 수 있다.
또한, 상기 가이드 부재는 포토 마스크의 저면 모서리와 점 접촉되는 접촉점을 갖는다.
또한, 상기 가이드 부재는 상기 접촉점을 기점으로 양측면이 위에서 아래로 경사지게 제공될 수 있다.
또한, 상기 가이드 부재는 상기 접촉점을 기점으로 포토마스크 단부와 마주하는 상단 몸체는 위로 갈수록 포토 마스크의 중심으로부터 멀어지도록 경사지게 제공될 수 있다.
또한, 상기 핸드는 상면이 상기 가이드 부재에서 흘러내린 물방울이 누적되지 않도록 좌우 각각 아래로 향하는 경사 구조를 갖는다.
또한, 상기 핸드는 발수성 코팅처리될 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 따르면 포토마스크를 지지하는 가이드 상의 잔존하는 처리액에 의한 포토마스크 오염을 최소화할 수 있다.
본 발명의 효과는 상술한 효과들로 제한되지 않는다. 언급되지 않은 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 마스크(500)의 일 예를 보여주는 평면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 마스크 세정 설비를 보여주는 구성도이다.
도 3 및 도 4는 도 2에 도시된 포토 마스크 세정 설비의 1층과 2층의 레이아웃을 보여주는 도면들이다.
도 5는 도 4에 도시된 마스크 세정 장치(1000)를 보여주는 평면도이다.
도 6은 도 5의 마스크 세정 장치(1000)를 보여주는 측면도이다.
도 7은 도 3에 도시된 메인 반송 로봇의 사시도이다.
도 8은 메인 반송 로봇의 평면도이다.
도 9는 가이드 부재를 설명하기 위한 사시도이다.
도 10은 가이드 부재를 측면에서 바라본 도면이다.
도 11은 가이드 부재를 정면에서 바라본 도면이다.
본 발명의 다른 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술 되는 실시 예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
만일 정의되지 않더라도, 여기서 사용되는 모든 용어들(기술 혹은 과학 용어들을 포함)은 이 발명이 속한 종래 기술에서 보편적 기술에 의해 일반적으로 수용되는 것과 동일한 의미가 있다. 일반적인 사전들에 의해 정의된 용어들은 관련된 기술 그리고/혹은 본 출원의 본문에 의미하는 것과 동일한 의미를 갖는 것으로 해석될 수 있고, 그리고 여기서 명확하게 정의된 표현이 아니더라도 개념화되거나 혹은 과도하게 형식적으로 해석되지 않을 것이다. 본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.
본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다' 및/또는 이 동사의 다양한 활용형들 예를 들어, '포함', '포함하는', '포함하고', '포함하며' 등은 언급된 조성, 성분, 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 조성, 성분, 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 또한 '구비한다', '갖는다' 등도 이와 동일하게 해석되어야 한다.
본 실시예의 설비는 반도체 웨이퍼 또는 평판 표시 패널과 같은 기판에 대해 포토리소그래피 공정을 수행하는 데 사용되는 것으로 설명하나, 이는 설명의 편의를 위한 것이고 본 발명은 기판을 처리하기 위해 기판을 이송하는 로봇을 포함하는 다른 장치에도 사용될 수 있다.
이하에서는, 도 1 내지 도 10을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대하여 설명한다.
도 1은 마스크(500)의 일 예를 보여주는 평면도이다.
도 1을 참조하면, 마스크(500)의 중앙에는 패턴 영역(520)이 존재한다. 비패턴 영역(540)은 패턴 영역(520)을 감싸도록 마스크(500)의 가장자리에 존재한다. 도시하지 않았지만, 패턴 영역(520)과 비패턴 영역(540) 사이에는 글루가 위치될 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 마스크 세정 설비를 보여주는 구성도이다. 도 3 및 도 4는 도 2에 도시된 포토 마스크 세정 설비의 1층과 2층의 레이아웃을 보여주는 도면들이다.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 마스크 세정 설비(1)는 인덱스 모듈(10)과 공정 처리 모듈(20)을 가진다.
인덱스 모듈(10)은 로드 포트(120) 및 이송 프레임(140)을 가진다. 로드 포트(120), 이송 프레임(140), 그리고 공정 처리 모듈(20)은 순차적으로 일렬로 배치된다.
이하, 로드 포트(120), 이송 프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)이 배열된 방향을 X방향(12) 이라 한다. 그리고 상부에서 바라볼 때 X방향(12)과 수직한 방향으로 Y방향(14)이라 하고, X방향(12)과 Y방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 Z방향(16)이라 한다.
로드 포트(120)에는 마스크(500)가 수납된 캐리어(18)가 안착된다. 로드 포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 Y방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 로드 포트(120)의 개수는 공정 처리 모듈(20)의 공정 효율 및 풋 프린트 조건 등에 따라 증가하거나 감소할 수 있다. 캐리어(18)에는 마스크(500)의 가장자리를 지지하도록 슬롯(도시되지 않음)이 형성된다. 슬롯은 Z방향(16)으로 복수 개가 제공되고, 마스크(500)는 Z방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 캐리어 내에 위치된다.
공정 처리 모듈(20)은 상부 처리 모듈(40)과 하부 처리 모듈(30)을 갖는다. 상부 처리 모듈(40)과 하부 처리 모듈(30)은 각각, 이송 하우징(240), 버퍼 유닛(220), 그리고 공정 하우징(260)를 가진다. 이송 하우징(240)는 그 길이 방향이 X방향(12)과 평행하게 배치된다. Y방향(14)을 따라 이송 하우징(240)의 일측 및 타측에는 각각 공정 하우징(260)들이 배치된다. 이송 하우징 (240)의 일측 및 타측에서 공정 하우징(260)들은 이송 하우징(240)를 기준으로 서로 간에 대칭이 되도록 제공된다. 이송 하우징(240)의 일측에는 복수 개의 공정 하우징(260)들이 제공된다. 공정 하우징(260)들 중 일부는 이송 하우징(240)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정 하우징(260)들 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송 하우징(240)의 일측에는 공정 하우징(260)들이 A X B의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 X방향 (12)을 따라 일렬로 제공된 공정 하우징(260)의 수이고, B는 Y방향(14)을 따라 일렬로 제공된 공정 하우징(260)의 수이다. 이송 하우징 (240)의 일측에 공정 하우징(260)가 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정 하우징(260)들은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정 하우징(260)의 개수는 증가하거나 감소할 수 있다. 상술한 바와 달리, 공정 하우징(260)는 이송 하우징(240)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한, 상술한 바와 달리, 공정 하우징(260)는 이송 하우징(240)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.
버퍼 유닛(220)은 이송 프레임(140)과 이송 하우징(240) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(220)은 공정 하우징(260)와 캐리어(18) 간에 마스크가 반송되기 전에 마스크(500)가 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼 유닛(220)은 상부 버퍼(70)와 하부 버퍼(60)를 가진다. 상부 버퍼(70)는 하부 버퍼(60)의 상부에 위치된다. 상부 버퍼(70)는 상부 처리 모듈(40)과 대응되는 높이에 배치된다. 하부 버퍼(60)는 하부 처리 모듈(30)과 대응되는 높이에 배치된다. 상부 버퍼(70)와 하부 버퍼(60) 각각은 그 내부에 마스크(500)가 놓이는 슬롯이 제공되며, 슬롯들은 서로 간에 Z방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개 제공된다. 버퍼 유닛(220)은 이송 프레임(140)과 마주보는 면 및 이송 하우징(240)와 마주보는 면이 개방된다.
이송 프레임(140)은 로드 포트(120)에 안착된 캐리어(18)와 버퍼 유닛(220) 간에 마스크(500)를 반송한다. 이송 프레임(140)에는 인덱스 레일(142)과 인덱스 로봇(144)이 제공된다. 인덱스 레일(142)은 그 길이 방향이 Y방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스 로봇(144)은 인덱스 레일(142) 상에 설치되며, 인덱스 레일(142)을 따라 Y방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스 로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스 암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스 레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 Z방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스 암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 이는 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스 암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스 암(144c)들은 Z방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스 암(144c)들 중 일부는 공정 처리 모듈(20)에서 캐리어(18)로 마스크(500)를 반송할 때 사용되고, 이의 다른 일부는 캐리어(18)에서 공정 처리 모듈(20)로 마스크(500)를 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스 로봇(144)이 마스크(500)를 반입 및 반출하는 과정에서 공정 처리 전의 마스크(500)로부터 발생된 파티클이 공정 처리 후의 마스크(500)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
이송 하우징(240)는 버퍼 유닛(220)과 공정 하우징(260) 간에, 그리고 공정 하우징(260)들 간에 마스크(500)를 반송한다. 이송 하우징(240)에는 가이드 레일(242)과 메인 반송 로봇(2200)이 제공된다. 가이드 레일(242)은 그 길이 방향이 제 X방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인 반송 로봇(2200)은 가이드 레일(242) 상에 설치되고, 이는 가이드 레일(242)상에서 X방향(12)을 따라 직선 이동된다.
공정 하우징(260) 내에는 마스크(500)에 대해 세정 공정을 수행하는 마스크 세정 장치가 제공된다. 마스크 세정 장치는 수행하는 세정 공정의 종류에 따라 상이한 구조를 가질 수 있다. 이와 달리 각각의 공정 하우징(260) 내의 마스크 세정 장치는 동일한 구조를 가질 수 있다. 일 예에 의하면, 하부 처리 모듈(40)은 습식 세정 공정을 수행하는 챔버와 냉각 공정을 수행하는 챔버를 포함할 수 있다. 상부 처리 모듈(30)은 건식 및 기능수 세정 공정을 수행하는 챔버와 가열 공정을 수행하는 챔버를 포함할 수 있다.
이하, 마스크 세정 장치는 상술한 습식 세정 공정을 수행하는 챔버일 수 있다. 케미컬을 이용하여 마스크(500)를 세정하는 마스크 세정 장치의 일 예를 설명한다.
도 5는 도 4에 도시된 마스크 세정 장치(1000)를 보여주는 평면도이다. 도 6은 도 5의 마스크 세정 장치(1000)를 보여주는 측면도이다.
마스크 세정 장치(1000)는 아킹에 의한 금속 패턴의 손상 업서이 마스크를 세정한다.
도 5를 참조하면, 마스크 세정 장치(1000)는 하우징(1100), 용기(1200), 지지부재(1300), 패턴 세정 유닛(1400), 그리고 제어기(1600)를 포함한다.
하우징(1100)은 밀폐된 내부 공간을 제공한다. 하우징(1100)의 상벽에는 팬필터유닛(미도시됨)이 설치된다. 팬필터유닛은 하우징(1100) 내부 공간에서, 아래로 향하는 수직기류를 발생시킨다.
용기(1200)는 하우징(1100) 내에 배치된다. 용기(1200)는 공정에 사용된 케미컬 및 공정시 발생된 흄(fume)이 외부로 튀거나 유출되는 것을 방지한다. 용기(1200)는 내부에 상부가 개방되고 마스크(500)가 처리되는 공간을 가진다.
지지부재(1300)는 용기(1200) 내에 위치된다. 지지부재(1300)는 공정 처리시 마스크(500)를 지지한다. 지지부재(1300)는 지지판(1320), 척킹 핀(1340), 지지축(1360), 그리고 지지판 구동기(1380)를 포함한다.
지지판(1320)은 대체로 원형으로 제공된다. 지지판(1320)은 마스크(500)보다 큰 직경을 가진다. 지지판(1320)은 마스크(500)를 지지한다. 케미컬이 공급되는 동안, 마스크(500)는 상부를 향하도록 지지판(1320)에 지지된다. 지지판(1320)의 상면에는 척킹 핀(1340)들이 제공된다. 척킹 핀(1340)들은 지지판(1320) 상면으로부터 상부로 돌출된다. 척킹 핀(1340)들은 지지판(1320)이 회전될 때, 원심력에 의해 마스크(500)가 지지판(1320)으로부터 측방향으로 이탈되는 것을 방지한다. 마스크(500)가 지지판(1320) 상의 정위치에 놓일 때, 마스크(500)의 각각의 모서리에는 2개의 척킹 핀(1340)들이 제공된다. 따라서 척킹 핀(1340)은 전체적으로 8개가 제공된다. 공정 진행시 척킹 핀(1340)들은 마스크(500)의 4 모서리를 지지하여 마스크(500)가 정위치로부터 이탈되는 것을 방지한다. 지지판(1320)의 하부 중앙에는 지지축(1360)이 연결된다. 지지축(1360)은 지지판(1320)을 지지한다. 지지축(1360)은 지지판(1320)의 중심축과 대응되게 제공된다. 지지축(1360)의 하단에는 지지판 구동기(1380)가 연결된다. 지지판 구동기(1380)는 지지판(1320)을 회전시킨다. 지지축(1360)은 지지판 구동기(1380)의 회전력을 지지판(1320)에 전달한다. 지지판 구동기(1380)는 제어기(1600)에 의해 제어된다. 지지판 구동기(1380)는 모터를 포함할 수 있다.
승강 유닛(미도시)은 용기(1200)에 대한 지지판(1320)의 상대 높이가 조절되도록 용기(1200)를 상하 방향으로 이동시킨다. 승강 유닛은 마스크(500)가 지지판(1320)에 로딩되거나, 지지판(1320)으로부터 언로딩될 때 지지판(1320)이 용기(1200)의 상부로 돌출되도록 용기(1200)를 하강시킨다.
패턴 세정 유닛(1400)은 용기(1200)의 일측에 배치된다. 패턴 세정 유닛(1400)은 마스크(500)의 상면으로 케미컬을 공급하여 마스크(500) 표면의 오염을 제거한다. 패턴 세정 유닛(1400)은 노즐 어셈블리(1410), 노즐 암(1420), 암 지지축(1360), 노즐 구동기(1440) 그리고 케미컬 공급부(1450)를 포함한다.
노즐 구동기(1440)는 제어기(1600)에 의해 제어될 수 있다.
일 예로, 케미컬 공급부에서 공급되는 케미컬은 황산과 과산화물의 혼합액(SPM;Surfuric Peroxide Mixture)을 포함할 수 있다.
도 7은 도 3에 도시된 메인 반송 로봇의 사시도이고, 도 8은 메인 반송 로봇의 평면도이다.
도 7 내지 도 8을 참조하면, 메인 반송 로봇(2200)은 본체(2210), 본체(2210) 상부에 설치되는 베이스(2220), 베이스(2220)에 전후 방향으로 이동되는 제1핸드(2230a)와 제2핸드(2230b), 베이스(2220)에 설치되는 갠트리(2250) 그리고 갠트리(2250)에 설치되어 포토 마스크의 틀어짐을 감지하는 틀어짐 감지부(2280)를 포함할 수 있다.
예컨대, 베이스(2220)는 본체(2210) 상에서 회전과 높이 조절이 가능하다. 본 발명의 메인 반송 로봇(2200)은 포토 마스크(P)의 교체 작업을 위해 2개의 핸드를 구비한다. 예컨대, 2개의 핸드 중 어느 하나는 공정처리가 완료된 포토 마스크를 처리모듈로부터 가져오는 작업을 수행하며, 나머지 하나는 공정처리가 안 된 포토 마스크를 처리 모듈에 갖다 놓는 작업을 수행하게 된다.
제1핸드(2230a)와 제2핸드(2230b)는 서로 다른 높이에서 독립적으로 전후 이동될 수 있다. 본 실시예에서 제1핸드(2230a)는 제2핸드(2230b) 상부에 위치된다. 제1,2핸드(2230a,2230b) 각각의 엔드 이펙트(2232)에는 포토 마스크(P)가 올려지는 가이드 부재(2290)들을 포함한다. 가이드 부재(2290)들은 포토 마스크(P)의 에지를 지지한다. 제1,2핸드(2230a,2230b)는 베이스(2220)의 내부에 설치되는 구동부(2224)와 연결되는 연결암(2236)을 갖는다.
메인 반송 로봇(2200)는 제1핸드(2230a) 또는 제2핸드(2230b)가 전방으로 이동된 상태(픽업 위치)에서 포토 마스크(P) 픽업이 이루어지고, 제1핸드(2230a) 또는 제2핸드(2230b)가 후방으로 이동된 상태(홈 위치)에서 포토 마스크(P) 반송이 이루어진다. 도 8을 참조하면, 제1핸드(2230a)는 픽업 위치로 이동되어 있고, 제2핸드(2230b)는 홈 위치에 이동되어 있음을 알 수 있다.
갠트리(2250)는 베이스(2220)의 상면으로부터 이격되어 위치되는 수평빔(2252)과, 수평빔(2252) 양단을 지지하고, 베이스(2252) 양측에 고정 설치되는 지지대(2254)를 포함한다. 한 쌍의 정렬 가이드(2260)는 갠트리(2250)의 수평빔(2252)에 설치된다.
그립부(2270)는 수평빔(2252)의 정면에 설치된다. 그립부(2270)는 상단에 방지턱(2272)을 갖는다. 방지턱(2272)은 제1핸드(2230a) 또는 제2핸드(2230b)가 픽업 위치에서 홈 위치로 복귀하였을 때, 포켓부(2232)에 올려진 포토 마스크의 상방향 이탈을 차단한다. 또한, 그립부(2270)는 포토 마스크를 감지하는 유무센서(2274)를 갖는다. 유무 센서(2274)는 포토 마스크(P)가 정상적으로 제1핸드(2230a)(또는 제2핸드)에 놓여진 후 홈 위치로 이동되면, 포토 마스크에 의해 눌려져 포토 마스크의 유무를 감지한다.
위치 틀어짐 감지부(2280)는 갠트리(2250)에 설치된다. 위치 틀어짐 감지부(2280)는 홈 위치에서 포토 마스크(P)의 틀어짐을 감지하기 위한 것이다. 위치 틀어짐 감지부(2280)는 수직 방향으로 포토 마스크(P)를 센싱한다. 위치 틀어짐 감지부(2280)는 발광부(2282)와 수광부(2284)가 위 아래에 배치되며, 그 위치는 포토 마스크(P)의 선단 양측에 형성된 센싱홀(P1)을 통과할 수 있도록 위치된다. 만약, 포토 마스크(P)가 포켓부(2232) 위로 올라타거나 한쪽으로 치우쳐서 놓여지는 경우, 위치 틀어짐 감지부(2280)의 수광부(2284)가 발광부(2282)의 신호를 받지 못하게 된다. 이 경우 포토 마스크(P)의 위치가 틀어진 상태로 판단하여 알람을 울리고 진행을 중단하게 된다.
도 9는 가이드 부재를 설명하기 위한 사시도이고, 도 10은 가이드 부재를 측면에서 바라본 도면이며, 도 11은 가이드 부재를 정면에서 바라본 도면이다.
도 9 내지 도 11을 참조하면, 가이드 부재(2290)는 포토 마스크(P)의 에지를 지지한다. 가이드 부재(2290)는 포토 마스크의 중심을 향해 하향 경사지게 제공되는 릿지(2292)를 포함할 수 있다. 릿지(2292) 상에는 포토 마스크의 저면 모서리와 점 접촉되는 접촉점(2291)이 제공된다. 가이드 부재(2292)는 릿지(2292) 및 접촉점(2291)을 기점으로 하단 양측면(2293A,2293B)이 위에서 아래로 경사지게 제공될 수 있다. 가이드 부재는 접촉점(2291)을 기점으로 포토마스크 단부(P1)와 마주하는 상단 몸체(2290a)는 위로 갈수록 포토 마스크(P)의 중심으로부터 멀어지도록 경사지게 제공된다. 즉, 상단 몸체는 릿지(2292)를 기준으로 하단 양측면(2294a,2294b)이 외측으로 경사지게 제공될 수 있다.
한편, 핸드(2230a)의 엔드 이펙트(2232) 상면(2232a,2232b)은 가이드 부재(2290)에서 흘러내린 물방울이 누적되지 않도록 좌우 각각 아래로 향하는 경사 구조를 갖는다. 또한, 핸드의 엔드 이펙트(2232)는 그 표면이 발수성 코팅(테프론 코팅, 세라믹 코팅 등)처리될 수 있다.
일 예로, 가이드 부재(2290)의 경사진 양측면은 30° 경사 구조로 형성될 수 있고, 접촉점(2291)을 기준으로 마스크 안쪽 방향에 위치되는 릿지(2292)는 25.5° 경사 구조로 형성될 수 있다(여기서 릿지의 경사는 45°를 넘지 않는것이 바람직하다). 또한, 엔드 이펙트(2232)의 상면은 좌/우 각 29.2°와 15.6°로 위에서 아래로 향하는 경사 구조로 형성될 수 있다.
상술한 바와 같이, 포토 마스크 반송 로봇(2200)은 가이드 부재(2290)가 포토마스크(P)와 접촉되는 점(2291)을 기점으로 좌/우 양쪽 모두 위에서 아래로 향하는 경사 구조를 갖고, 포토 마스크(P)를 지지하는 접촉점을 기점으로 포토 마스크의 안쪽 방향으로 위에서 아래로 경사지는 구조로 구성함으로써, 포토마스크에서 흘러내린 물방울이 가이드부재(2290)의 릿지(2292) 및 경사면들을 타고 자연스럽게 아래로 흘러내려 포토마스크의 저면으로 스며들지 않도록 한다. 특히, 핸드의 형상도 좌/우 양쪽 모두 위에서 아래로 향하는 경사 구조로 구성됨으로써 핸드 표면에 물방울이 맺히지 않고 자연스럽게 흘러내리게 된다.
이상의 실시 예들은 본 발명의 이해를 돕기 위하여 제시된 것으로, 본 발명의 범위를 제한하지 않으며, 이로부터 다양한 변형 가능한 실시 예들도 본 발명의 범위에 속하는 것임을 이해하여야 한다. 본 발명의 기술적 보호범위는 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이며, 본 발명의 기술적 보호범위는 특허청구범위의 문언적 기재 그 자체로 한정되는 것이 아니라 실질적으로는 기술적 가치가 균등한 범주의 발명에 대하여까지 미치는 것임을 이해하여야 한다.
10 : 인덱스 모듈 120 : 로드 포트
140 : 이송 프레임 2200 : 포토마스크 반송 로봇
2210 : 본체 2220 : 베이스
2290 : 가이드 부재

Claims (12)

  1. 포토 마스크 반송 장치에 있어서:
    베이스 ;
    포토 마스크가 올려지는 포켓부를 갖는 그리고 상기 베이스 상부에 위치되는 홈 위치로부터 포토 마스크 픽업을 위한 픽업 위치로 이동하는 적어도 하나의 핸드를 포함하되;
    상기 핸드는
    포토 마스크의 에지를 지지하는 복수의 가이드 부재를 포함하되;
    상기 가이드 부재는 포토 마스크의 중심을 향해 하향 경사지게 제공되는 릿지를 포함하는 포토 마스크 반송 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 가이드 부재는
    포토 마스크의 저면 모서리와 점 접촉되는 접촉점을 갖는 포토 마스크 반송 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 가이드 부재는
    상기 접촉점을 기점으로 양측면이 위에서 아래로 경사지게 제공되는 포토 마스크 반송 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 가이드 부재는
    상기 접촉점을 기점으로 포토마스크 단부와 마주하는 상단 몸체는 위로 갈수록 포토 마스크의 중심으로부터 멀어지도록 경사지게 제공되는 포토 마스크 반송 장치.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 핸드는
    상면이 상기 가이드 부재에서 흘러내린 물방울이 누적되지 않도록 좌우 각각 아래로 향하는 경사 구조를 갖는 포토 마스크 반송 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 핸드는 발수성 코팅처리되는 포토 마스크 반송 장치.
  7. 포토 마스크 세정 설비에 있어서:
    포토 마스크를 처리액으로 웨팅 처리하는 전처리 공정이 이루어지는 제1공정 하우징;
    상기 제1공정 하우징에서 웨팅 상태의 포토 마스크에 대한 후처리 공정이 이루어지는 제2공정 하우징; 및
    상기 제1공정 하우징에서 상기 제2공정 하우징으로 웨팅 상태의 포토 마스크를 반송하는 포토 마스크 반송 장치를 포함하되;
    상기 포토 마스크 반송 장치는
    베이스;
    포토 마스크가 올려지는 포켓부를 갖는 그리고 상기 베이스 상부에 위치되는 홈 위치로부터 포토 마스크 픽업을 위한 픽업 위치로 이동하는 적어도 하나의 핸드를 포함하며;
    상기 핸드는
    포토 마스크의 에지를 지지하는 복수의 가이드 부재를 포함하되;
    상기 가이드 부재는 포토 마스크의 중심을 향해 하향 경사지게 제공되는 포토 마스크 세정 설비.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 가이드 부재는
    포토 마스크의 저면 모서리와 점 접촉되는 접촉점을 갖는 포토 마스크 세정 설비.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 가이드 부재는
    상기 접촉점을 기점으로 양측면이 위에서 아래로 경사지게 제공되는 포토 마스크 세정 설비.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 가이드 부재는
    상기 접촉점을 기점으로 포토마스크 단부와 마주하는 상단 몸체는 위로 갈수록 포토 마스크의 중심으로부터 멀어지도록 경사지게 제공되는 포토 마스크 세정 설비.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 핸드는
    상면이 상기 가이드 부재에서 흘러내린 물방울이 누적되지 않도록 좌우 각각 아래로 향하는 경사 구조를 갖는 포토 마스크 세정 설비.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 핸드는 발수성 코팅처리되는 포토 마스크 세정 설비.
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