JP3205537B2 - 基板の検知装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，基板を検出し，例
えばその枚数などを検知する検知装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えばＬＳＩ等の半導体デバイスの製造
工程における洗浄処理を例にとって説明すると，従来か
ら半導体ウエハ（以下，「ウエハ」という）表面のパー
ティクル，有機汚染物，金属不純物等のコンタミネーシ
ョンを除去するために洗浄装置が使用されており，その
中でもとりわけ，ウェット型の洗浄装置は，パーティク
ルを効果的に除去できしかもバッチ処理が可能なため，
広く普及している。

【０００３】かかる洗浄装置においては，所定枚数例え
ば２５枚のウエハを収納したキャリア単位で納入するロ
ード機構と，このロード機構によってロードされたキャ
リア２個分のウエハ，例えば５０枚ずつ搬送する搬送装
置と，この搬送装置によって搬送されたウエハを一括し
て洗浄するように配列された複数の処理槽と，各処理槽
によって洗浄されたウエハをアンロードするアンロード
機構とを備えて構成されている。

【０００４】そして装置内に搬入されたキャリアは，適
宜の移動装置によって搬入位置から第１の所定位置に移
動させられ，この第１の所定位置から他の第２の所定位
置，例えば前記のロード機構のある位置へと移送装置に
よって移送され，その後例えば突き上げ装置によって，
ウエハのみが取り出され，これを前記搬送装置における
ウエハチャックなどの保持装置によって保持されて処理
槽へと搬送されるのである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで，かかる洗浄
装置にあっては，前記のロード機構によってキャリアか
ら取り出されたウエハを検出すると共に，その枚数を検
知する検知装置が必要である。そのような検知装置を備
えることにより，洗浄の対象となるウエハの存在を確認
することができ，所定の枚数のウエハに対して洗浄を行
うことが可能となる。

【０００６】従って本発明の目的は，基板の存在を検出
し，例えばその枚数などを検知することができる検知装
置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め，本発明によれば，複数枚の基板を整列させて垂直に
保持可能な保持部材と，この保持部材によって保持され
た複数枚の基板の整列方向に沿って移動するセンサ部材
と，このセンサ部材に設けられ，基板の周縁部を挟んで
対向配置された発光部及び受光部とを備え，更に，前記
保持部材に保持された基板の周縁部上方近傍に光軸が位
置し，基板の整列方向沿って光軸が配置された発光部及
び受光部を備えた，基板の検知装置が提供される。

【０００８】本発明の検知装置にあっては，保持部材に
よって垂直に保持された複数枚の基板の整列方向に沿っ
てセンサ部材を移動させる。この移動の際，センサ部材
に設けられた発光部と受光部の間を基板の周縁部が通過
すると，発光部から発せられた光が基板の周縁部で遮ら
れて受光部に受光されなくなり，基板の存在が検出され
る。そして，光が遮られた回数によって，基板の枚数を
検知することができる。また，例えば基板の周縁部が保
持溝に受容されずに上方に飛び出したいわゆるジャンプ
スロットなども検知できるようになる。

【０００９】本発明の検知装置において，前記保持部材
は，基板を収納する収納容器と相対的に移動可能であ
り，収納容器から基板を突き上げて支持するように構成
されていても良い。また，前記保持部材によって収納容
器から基板を突き上げる際に収納容器を固定する固定機
構を備えていても良い。このような固定機構によって収
納容器を固定しておけば，収納容器から基板を突き上げ
る際に収納容器が一緒に持ち上がってしまうことがな
い。また，前記保持部材の上面に，基板の周縁部を受容
するための保持溝が複数形成されていても良い。また，
前記保持部材を基板の整列方向に一対備え，一方の保持
部材と他方の保持部材が相対的に近づく方向に移動自在
に構成されていても良い。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下，本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明すると，本実施の形態は半導体ウエ
ハ（以下，「ウエハ」という）の洗浄装置に対して適用
された例であって，まずその洗浄装置全体について説明
すると，この洗浄装置１は，図１に示したように，洗浄
処理前のウエハをキャリア単位で投入するための搬入部
２と，ウエハの洗浄処理が行われる洗浄処理部３と，洗
浄処理後のウエハをキャリア単位で取り出すための搬出
部４の，計３つのゾーンによって構成されている。

【００１１】前記搬入部２には，未洗浄処理のウエハが
所定枚数，例えば２５枚収納されたキャリアＣを搬入，
載置させる載置部５と，載置されたキャリアＣを整列部
６へ移送するための移送装置７が設けられている。また
前記洗浄処理部３には，その前面側（図１における手前
側）に３つの搬送装置１１，１２，１３が配列されてお
り，これら各搬送装置１１，１２，１３には夫々対応す
るウエハチャック１４，１５，１６が設けられている。
そして前記搬送装置１１のウエハチャック１４は，整列
部６からキャリア２つ分のウエハ（例えば５０枚）を保
持し，その後これらウエハを後述の洗浄処理槽へ搬送し
ていくように構成されている。

【００１２】さらに前記搬出部４においても，前記載置
部５とほぼ同様な構成を有す載置部８，前記整列部６と
同一構成の整列部（図示せず），前記移送装置７と同一
構成の移送装置（図示せず）が夫々設けられている。

【００１３】前記洗浄処理部３には，載置部５側から順
に，前記搬送装置１１のウエハチャック１４を洗浄，乾
燥するチャック洗浄・乾燥処理槽２１，ウエハ表面の有
機汚染物，金属不純物，パーティクル等の不純物質を薬
液によって洗浄処理する薬液洗浄処理槽２２，前記薬液
洗浄処理槽２２で洗浄されたウエハを例えば純水によっ
て洗浄する２つの水洗洗浄処理槽２３，２４，前記薬液
洗浄処理槽２２における薬液とは異なった薬液で洗浄処
理する薬液洗浄処理槽２５，前記薬液洗浄処理槽２５で
洗浄されたウエハを例えば純水によって洗浄する２つの
水洗洗浄処理槽２６，２７，前記搬送装置１３のウエハ
チャック１６を洗浄，乾燥するチャック洗浄・乾燥処理
槽２８，及び前記不純物質が除去されたウエハを，例え
ばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等で蒸気乾燥させ
るための乾燥処理槽２９が，夫々配設されている。

【００１４】次に各ゾーンの詳細について説明すると，
まず載置部５は，図２，図３に示したように，その上面
にキャリアＣが直接載置されるステージ３１を有してい
る。そしてこのステージ３１には，開口によって形成さ
れるステーション３２，３３，３４，３５が手前方向か
ら順にＹ方向に沿って設定されている。またこれら各ス
テーション３２，３３，３４，３５は後述の移動部材の
支柱が通過自在な幅を有する細幅の開口によって形成さ
れた通過部３６，３７，３８によって連通している。そ
してキャリアＣは，各ステーション３２，３３，３４，
３５における開口周縁部に，その下面周縁を載置するよ
うにして，各ステーション３２，３３，３４，３５の所
定の位置に載置自在である。

【００１５】載置部５の内部には，載置されたキャリア
Ｃを移動するための移動部材４１が設けられている。こ
の移動部材４１は，図２，図３，図４に示したように，
その上部にキャリアＣを直接支持する移動テーブル４２
と，この移動テーブル４２を水平方向に１８０゜回転自
在とするための回転機構４３と，さらに移動テーブル４
２を回転機構４３ごと上下動作せるための昇降機構４４
を備えており，さらにこの移動部材４１全体も，適宜の
駆動機構（図示せず）によって，載置部５内をＹ方向，
即ちステーション３２，３３，３４，３５の配列方向に
沿って移動自在に構成されている。

【００１６】前記移動テーブル４２は例えば平面略Ｈ形
状をなし，その各突出角部には，前記キャリアＣの下面
周縁を受容する溝４５が，計４カ所に形成されている。
従って，この移動部材４１が，前記昇降機構４４によっ
てキャリアＣを上下動させたり，前記回転機構４３によ
って１８０゜回転させたり，あるいは移動部材４１ごと
他のステーションへと移動させる場合には，キャリアＣ
の下面周縁を移動テーブル４２の前記溝４５で受容した
状態で移動させるようになっている。また前記ステージ
３１には，光学系のウエハセンサ（図示せず）が設けら
れており，移動テーブル４２上に載置されたキャリアＣ
内のウエハＷの有無を検出できるように構成されてい
る。

【００１７】前記ステーション３４，３５の開口周縁部
には，図５に示したようなキャリア固定装置５１，５１
が設けられている。このキャリア固定装置５１は，ステ
ージ３１上に固定されたガイド部材５２と，このガイド
部材５２へと押圧自在な押圧機構５３とによって構成さ
れている。

【００１８】前記ガイド部材５２は，キャリアＣの下部
の一側両端部（角部）を受容するガイドコーナ５４，５
５を有しており，またこれら各ガイドコーナ５４，５５
は，その平面形態が，前記押圧機構５３側に向けてテー
パ状に開口した形態を有している。従って，キャリアＣ
か多少位置ズレして載置された場合，そのまま押圧機構
５３によってキャリアＣを押圧しても，ガイドコーナ５
４，５５によって所定位置まで案内することが可能であ
る。

【００１９】前記押圧機構５３は，押圧部５６とこの押
圧部５６を水平方向に回動自在に支持する支持部５７と
によって構成されている。そして押圧部５６の前面（ガ
イド部材５２側）には，キャリアＣの下部をガイド部材
５２へと押圧する際に，直接キャリアと接触する接触部
材５８が２カ所に固着されている。この接触部材５８の
材質には，摩擦係数が大きく，かつパーティクル発生の
少ない材質，例えばシリコンが適している。かかる材質
を採用することによって，位置ズレのない確実な押圧を
実現することができるものである。

【００２０】また前記押圧機構５３における押圧部５６
と支持部５７との間の空隙には，適宜の弾性部材，例え
ばコイルスプリング５９が介在しており，その回動支持
と相俟って，キャリアＣの下部を前記接触部材５８によ
って均等に押圧する構成となっている。そして前記支持
部５７は，載置部５内に設置されているリンク機構６０
を介してアクチュエータ６１の駆動により，図４，図５
における往復矢印Ａに示した通り，前記ガイド部材５２
への押圧が自在となっている。

【００２１】また前記ステーション３４，３５の下部に
は，前記キャリア固定装置５１によって固定されたキャ
リアＣ内のウエハＷのオリフラを揃えるための，オリフ
ラ合わせ装置７１，７１が夫々設置されている。このオ
リフラ合わせ装置７１は，図４における往復矢印Ｂに示
されたように上下動自在に構成された回転駆動ローラ７
２を有しており，前記キャリアＣの下面に形成されてい
る開口内に向けてこの回転駆動ローラ７２が上昇してウ
エハＷの下面と接触した後，この回転駆動ローラ７２を
回転させることにより，キャリアＣ内のウエハＷのオリ
フラが一方向に揃えられるようになっている。

【００２２】次に整列部６の詳細について図６，図７に
基づいて説明すると，この整列部６の上面には，整列部
６本体の上面に対して下降自在（図７における破線矢
印）な可動ステージ８１が備えられている。またこの可
動ステージ８１には，さらにウエハ保持装置８２，８３
が通過自在な開口８４，８５が形成されており，これら
各開口８４，８５の周縁部には，前出キャリア固定装置
５１とは多少構成が異なったキャリア固定装置が夫々設
置されており，各開口８４，８５を挟んで，ガイド部材
５２と押圧機構５３が対向している。従って，前出移送
装置７によって移送された２つのキャリアは，このキャ
リア固定装置５１によって，可動ステージ８１上の所定
の位置，即ちこれら各キャリアの各下面開口部と，前記
各開口８４，８５とが対応する位置で固定されるように
なっている。

【００２３】前記ウエハ保持装置８２は，その上面にウ
エハＷの下端周縁部を受容して保持する保持溝８６が，
所定数例えば２５本，所定間隔の下で形成されており，
可動支持柱８７によって支持されている。またこの可動
支持柱８７は，ウエハ保持装置８３側へと移動自在であ
る。前記ウエハ保持装置８３もその上面に保持溝８８
が，所定数例えば２５本所定間隔の下で形成され，ウエ
ハ保持装置８３自体は固定型の支持柱（図示せず）によ
って支持されている。

【００２４】整列部６本体の上面には，ウエハカウンタ
９１が設置されている。このウエハカウンタ９１は，Ｙ
方向に沿って設定されたガイド材９２と，このガイド材
９２に沿って移動自在なセンサ部材９３とによって構成
され，さらにこのセンサ部材９３には，対向して配置さ
れた発光部９４と受光部９５が設けられている。そして
発光部９４から発光される光，例えばレーザ光を受光部
９５で受光するように構成され，受光の有無によってカ
ウントするようになっている。

【００２５】そして通常は，端の位置に待避しており，
前記ウエハ保持装置８２，８３によってウエハＷがキャ
リアＣから相対的に突き上げられ，かつ可動支持柱８７
が移動し，いわゆる片寄せが完了してウエハＷが整列し
た状態になったときに，センサ部材９３は，ガイド材９
２に沿って移動する。かかる移動の際には，図７に示し
たように，各ウエハＷの周縁部を挟んで発光部９４と受
光部９５とが対向し，各ウエハＷの周縁部通過の際には
発光部９４の光が当該ウエハＷの周縁部によって遮断さ
れるので，受光部９５は受光できず，そのことによって
ウエハＷの存在を検知して，ウエハＷの枚数をカウント
する構成である。

【００２６】また前記整列部６本体の上面には，前記可
動ステージ８１を挟んで，Ｙ方向に発光センサ９７，受
光センサ９８とが対向配置されている。発光センサ９７
からの光，例えばレーザ光を受光センサ９８で受光する
構成となっている。そしてその時の光軸は，図７中のＰ
で示す位置に設定されている。従って，ウエハ保持装置
８２，８３によってキャリアＣから相対的に突き上げら
れたウエハＷが，整列状態にはなく，例えばある１枚の
ウエハが，ウエハ保持装置８２，８３各保持溝８６，８
８に受容されず飛び出している場合（いわゆるジャンプ
スロット状態）は，前記発光センサ９７からの光が，当
該飛び出しているウエハによって遮断されて，受光セン
サ９８で受光できないので，そのことによりウエハの整
列状態の適否が検出できるようになっていると共に，オ
リフラの角度のズレも検出できるようになっている。

【００２７】さらに前記洗浄装置１においては，図３に
示したように，整列部６とチャック洗浄・乾燥処理槽２
１との間に，上昇してこれら整列部６とチャック洗浄・
乾燥処理槽２１の各上部空間の雰囲気を遮断自在なシャ
ッタ１０１が設置され，また整列部６と，前出搬送装置
１１が移動するエリアとの間の雰囲気を，上下動して遮
断自在なシャッタ１０２も設置されている。さらに本実
施の形態では，前出各処理槽相互間，例えばチャック洗
浄・乾燥処理槽２１と薬液洗浄処理槽２２との間におい
ても，前記シャッタ１０１と同様，上昇して，各上部空
間の雰囲気を遮断自在なシャッタ１０３が夫々設けられ
ている。

【００２８】本実施の形態にかかる洗浄装置１の主要部
は以上のように構成されており，次にこの洗浄装置１を
使用したウエハの洗浄処理について説明すると，まず図
８（ａ）に示したように，搬送ロボット（図示せず）に
よって，キャリアＣ₁が載置部５のステーション３２に
載置されると，移動部材４１の移動テーブル４２が上昇
し，このキャリアＣ₁は移動部材４１によってそのまま
の状態，即ち把手Ｚが手前方向を向いたまま，いちばん
奥のステーション３５へと移動し，そこで移動テーブル
４２が下降し，このキャリアＣ₁は，ステーション３５
のキャリア固定装置５１の所定位置にセットされる。そ
してそのようにセットされた後，移動部材４１は再びス
テーション３２へと戻る。なお既述の如く，ステージ３
１には，キャリアＣ内のウエハＷの有無を検出するウエ
ハセンサが設けられているので，載置された時点でウエ
ハＷが存在しないと確認されれば，この時点で，適宜の
警告等が出される。

【００２９】次いで２番目のキャリアＣ₂が，図８
（ｂ）に示したように，ステーション３２に載置される
と，今度は移動途中で，図８（ｃ）に示したように，移
動装置４１の回転機構４３によって，１８０゜移動テー
ブル４２が回転し，搬入時の状態とは１８０゜回転させ
た状態，即ち，キャリアＣ₂の把手Ｚが奥の方向，つま
りステーション３５の方向へと向けた状態でステーショ
ン３４へと移動し，このステーション３４のキャリア固
定装置５１の所定位置にセットされる（図８（ｅ））。

【００３０】その後各ステーション３４，３５の各キャ
リア固定装置５１，５１で各キャリアＣ₁，Ｃ₂が固定さ
れた後，オリフラ合わせ装置７１の回転駆動ローラ７２
が上昇して回転し，各キャリアＣ₁，Ｃ₂内の各ウエハＷ
のオリフラが一旦下に揃えられた後，さらに回転駆動ロ
ーラ７２が上昇して略１８０゜回転し，各ウエハＷのオ
リフラは全て上側に揃えられる。そのようにしてオリフ
ラ合わせが終了した後，各キャリア固定装置５１，５１
の固定が解除される。

【００３１】次いで前出移送装置７によって各キャリア
Ｃ₁，Ｃ₂が，整列部６へと移送され，可動ステージ８１
の所定位置に載置される。その後各開口８４，８５周縁
の各キャリア固定装置５１，５１によって各キャリアＣ
₁，Ｃ₂が固定された後，可動ステージ８１が下降し，ウ
エハ保持装置８２，８３によって各キャリアＣ₁，Ｃ₂内
のウエハＷが，各キャリアＣ₁，Ｃ₂から突き出されてそ
のまま各保持溝８６，８８で保持される。このようにキ
ャリア固定装置５１，５１によって各キャリアＣ₁，Ｃ₂
は，可動ステージ８１の所定位置でロックされているの
で，前記突き出しによるウエハの取り出しは安全，かつ
確実になされるものである。この時発光センサ９７と受
光センサ９８とによって，ウエハＷのジャンプスロット
及びオリフラの位置ズレも検出される。

【００３２】次いで今度はウエハカウンタ９１のセンサ
部９３が各ウエハＷの周縁部をスキャンしていき，その
枚数を計測する。また発光センサ９７と受光センサ９８
とによって，各ウエハＷが全て整列状態で保持されてい
るかの確認もなされる。その後ウエハ保持装置８２がウ
エハ保持装置８３側へと移動し，ウエハＷの間隔が全て
同一の所定間隔に揃えられる。

【００３３】そしてかかるプロセスが終了すると，今度
は搬送装置１１のウエハチャック１４によって整列状態
にある５０枚のウエハＷが各処理槽へと搬送され，そこ
で浸漬されて順次所定の洗浄処理がなされていくのであ
るが，通常ウエハＷはその処理面（一般的に鏡面となっ
ている）を把手Ｚ側に向けてキャリアＣ内に収納されて
いる。従って，図３，図８（ｅ）に示したように，各キ
ャリアＣ₁，Ｃ₂の各把手Ｚが対向している状態では，キ
ャリアＣ₁内のウエハ群Ｗ₁と，キャリアＣ₂内のウエハ
群Ｗ₂とは，処理面同士を向け合って対向している状態
となっている。

【００３４】それゆえ，ウエハチャック１４によって搬
送されるウエハＷも，端から２５枚目と２６枚目との間
を境にして，各ウエハ群Ｗ₁とウエハＷ群₂はその処理面
を対向させている。従って図９に示したように，当然の
ことながら処理槽例えば薬液洗浄処理槽２５内に浸漬さ
れて，洗浄処理に付される場合もそのようにして，各ウ
エハＷは中央で二分されて，当該中央を境にしてウエハ
群Ｗ₁のウエハＷと，ウエハＷ群₂とは，処理面を対向さ
せた状態で洗浄に付されている。

【００３５】通常この種の洗浄は，図９に示したよう
に，処理槽内底部に設けた薬液等の供給口１１１，１１
２から供給される薬液流が，拡散板１１３の流通孔１１
４を通過して，ウエハ間を流れることによって行われ
る。ところが，端に位置するウエハＷについては，処理
槽内壁と対向している関係上，当該処理槽内壁に向けた
面にパーティクルが付着して汚染するおそれがあった。

【００３６】しかしながら，本実施の形態においては，
前記したように，処理槽内のウエハＷは，その中央で二
分されて，当該中央を境にしたウエハ群Ｗ₁のウエハＷ
と，ウエハＷ群₂とは，処理面を対向させており，端に
位置するウエハＷは，いずれも非処理面を処理槽内壁に
向けている。したがって，そのように処理槽内壁に向け
た面にパーティクル等が付着しても，処理面ではないの
で，歩留まりの低下をもたらさず，また従来のように端
の１枚にダミーウエハを用いる必要もない。それゆえ従
来よりも効率よく洗浄を実施できる。

【００３７】なお各処理槽での洗浄が終了した後，ウエ
ハＷをキャリアＣ内に収納して，洗浄装置１から搬出す
る場合には，前記載置部５と同様，移動させるキャリア
Ｃを１８０゜回転させる機構を有する載置部８が，搬出
部４に設置されているので，搬出されるキャリアＣは，
すべてその把手Ｚが手前方向に向けられており，当然の
ことながら，キャリアＣ内に収納されているウエハＷも
すべてその処理面を同方向に向けているから，以後の搬
送，処理に支障をきたすことはない。

【００３８】また前記した洗浄装置１においては，載置
部５におけるウエハセンサ４６によるキャリアＣ内のウ
エハＷの有無の確認，発光センサ９７，受光センサ９８
によるジャンプスロットの検出によって，事故や不測の
事態等を未然に防止することができる。さらにウエハカ
ウンタ９１によって，処理に付される直前のウエハＷの
枚数が確認できるので，搬出部４においても同様なウエ
ハカウンタを設置し，洗浄後のウエハＷの枚数を検出し
て，両者を照合することにより，処理中のウエハＷの脱
落も検出することができる。従って，極めて安全な洗浄
処理を実施することが可能である。

【００３９】さらに前記洗浄装置１においては，処理槽
相互間はもちろんのこと整列部６と処理槽との間，整列
部６と搬送装置１１の搬送エリアとの間にも夫々シャッ
タが設置されているので，これら各場所の上部空間の雰
囲気は遮断され，薬液ミスとや，搬送中に生じたパーテ
ィクルなどが装置内に拡散して，装置内雰囲気を相互に
汚染したり，ウエハＷ自体を汚染したり，薬液ミストに
よって整列部６に存在する各種機器を汚染することを極
力防止することが可能である。

【００４０】以上で本発明の実施の形態に関する説明が
終わるが，本発明の趣旨に鑑みれば，一側面に処理面，
他側面に非処理面を有する複数の被処理体を，整列状態
にして処理槽内で洗浄する洗浄方法において，前記複数
の被処理体を中央で二分し，当該中央を境にして一側に
位置する被処理体の処理面と，他側に位置する被処理体
の処理面とを対向させた状態で洗浄することを特徴とす
る洗浄方法や，あるいは，一側面に処理面，他側面に非
処理面を有する複数の被処理体を，整列状態にして処理
槽内で洗浄する洗浄方法において，前記複数の被処理体
を中央で二分し，当該中央を境にして一側に位置する被
処理体の非処理面と，他側に位置する被処理体の非処理
面とを対向させた状態で洗浄することを特徴とする洗浄
方法も提案できる。

【００４１】前者の洗浄方法の場合，複数の被処理体を
整列状態にして処理槽内で洗浄するにあたり，これら複
数の被処理体を中央で２つのグループに分け，処理面同
士を対向させた状態で洗浄するので，両端外方に例えば
パーティクルの発生領域などの汚染要素が存在していて
も，処理面はその影響を直接受けない。また後者の洗浄
方法の場合，その逆に非処理面同士を対向させて洗浄を
実施するので，汚染要素が中央に存在している場合に，
各被処理体の処理面が直接影響を受けない。

【００４２】さらに例えば以上のような洗浄処理に限ら
ず，他の処理に関しても，本発明を適用することができ
る。即ち，本発明の趣旨に鑑みると，表面に処理面を裏
面に非処理面を有する複数の被処理基板を整列状態で搭
載した搭載治具を，処理容器内に納入し，前記搭載治具
に搭載された被処理基板に対して所定の処理を行うにあ
たり，前記複数の被処理基板を中央で二分し，当該中央
を境にして一側に位置する被処理基板の処理面と，他側
に位置する被処理基板の処理面とを，対向させた状態で
前記搭載治具に搭載して処理したり，あるいは逆に，前
記複数の被処理基板を中央で二分し，当該中央を境にし
て一側に位置する被処理基板の非処理面と，他側に位置
する被処理基板の非処理面とを対向させた状態で前記搭
載治具に搭載して処理する処理方法も提案できる。

【００４３】前者の処理方法によれば，整列状態で処理
される複数の被処理基板において，その両端外方に被処
理基板の処理面を汚染させる汚染要素が存在していて
も，各被処理基板の処理面はその影響を直接受けないの
で，歩留まりの低下を防止することが可能である。また
後者の処理方法によれば，整列状態にある複数の被処理
基板の中央に汚染要素が存在している場合に，各被処理
基板の処理面が直接その影響を受けずに処理を実施する
ことができ，歩留まりの低下を防止することが可能であ
る。

【００４４】本発明の検知装置によれば，光の遮断によ
って基板の存在を確実に検出でき，光が遮られた回数に
よって基板の枚数を検知することができる。また，基板
のジャンプスロットやオリフラの角度ずれなども検知で
きるようになる。また，固定機構を備えれば，保持部材
によって収納容器から基板を突き上げる際に収納容器が
一緒に持ち上がってしまうことがない。また，一対の保
持部材同士を相対的に近づく方向に移動させれば，複数
枚の基板を所定の間隔で並列に整列させて保持できるよ
うになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態にかかる洗浄装置の概観を
示す斜視図である。

【図２】図１の洗浄装置における載置部の斜視図であ
る。

【図３】図１の洗浄装置における搬入部の平面説明図で
ある。

【図４】図２の載置部の断面説明図である。

【図５】図２の載置部に設置されたキャリア固定装置の
平面説明図である。

【図６】図１の洗浄装置における整列部の斜視図であ
る。

【図７】図６の整列部の断面説明図である。

【図８】図２の載置部におけるキャリアの流れを示す説
明図である。

【図９】図１の洗浄装置における薬液洗浄処理槽におけ
るウエハの洗浄の様子を示す断面説明図である。

【符号の説明】

１ 洗浄装置 ２ 搬入部 ５ 載置部 ６ 整列部 １１，１２，１３ 搬送装置 １４，１５，１６ ウエハチャック ２５ 薬液洗浄処理槽 ３１ ステージ ４１ 移動部材 ４２ 移動テーブル ４３ 回転機構 ５１ キャリア固定装置 ５２ ガイド部材 ５３ 押圧機構 ８２，８３ 保持装置 ９１ ウエハカウンタ ９２ ガイド材 ９３ センサ部材 ９４ 発光部 ９５ 受光部 ９７ 発光センサ ９８ 受光センサ １０１，１０２，１０３ シャッタ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304 648 H01L 21/68

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数枚の基板を整列させて垂直に保持可
   能な保持部材と，この保持部材によって保持された複数
   枚の基板の整列方向に沿って移動するセンサ部材と，こ
   のセンサ部材に設けられ，基板の周縁部を挟んで対向配
   置された発光部及び受光部とを備え， 更に，前記保持部材に保持された基板の周縁部上方近傍
   に光軸が位置し，基板の整列方向沿って光軸が配置され
   た発光部及び受光部を備えた， 基板の検知装置。
2. 【請求項２】 前記保持部材は，基板を収納する収納容
   器と相対的に移動可能であり，収納容器から基板を突き
   上げて支持するように構成されている，請求項１に記載
   の基板の検知装置。
3. 【請求項３】 前記保持部材によって収納容器から基板
   を突き上げる際に収納容器を固定する固定機構を備えて
   いる，請求項２に記載の基板の検知装置。
4. 【請求項４】 前記保持部材の上面に，基板の周縁部を
   受容するための保持溝が複数形成されている，請求項
   １，２又は３のいずれかに記載の基板の検知装置。
5. 【請求項５】 前記保持部材を基板の整列方向に一対備
   え，一方の保持部材と他方の保持部材が相対的に近づく
   方向に移動自在に構成されている，請求項１，２，３又
   は４のいずれかに記載の基板の検知装置。