JP4813333B2 - 膜形成方法、膜形成装置、パターン形成方法およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 - Google Patents
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Description
図1は本発明に係る膜形成方法およびパターン形成方法を実施可能なパターン形成装置の概略平面図であり、図2はその概略斜視図である。
図4はパターン形成装置1による処理工程を説明するためのウエハWの断面図である。
図5(a)はパターン形成装置1に設けられたエッジ硬化ユニット(ECU)の正面方向の概略断面図であり、図5(b)はその平面方向の概略断面図である。
図6(a)はパターン形成装置1に設けられたエッジキャップ形成ユニット(ECC)の正面方向の概略断面図であり、図6(b)はその平面方向の概略断面図である。
12:処理ステーション(膜形成装置)
25:プロセスコントローラ
26:ユーザーインターフェイス
27:記憶部
101:反射防止膜
102:レジスト膜(フォトレジスト膜)
103:保護膜
104:エッジキャップ膜(周縁膜)
BARC:ボトムコーティングユニット
COT:レジスト塗布ユニット
DEV:現像ユニット
ECC:エッジキャップ形成ユニット(周縁膜形成部)
ECR:エッジキャップ除去ユニット
ECU:エッジ硬化ユニット
ITC:トップコーティングユニット
W:ウエハ(基板)
Claims (12)
- 液体を介して露光処理を施す液浸露光処理のための膜を基板に形成する膜形成方法であって、
基板の表面に反射防止膜とフォトレジスト膜またはフォトレジスト膜および他の1種または2種以上の膜からなる表面膜を形成する工程と、
少なくとも基板の周縁部と表面膜の周縁部との境界部分に周縁膜を形成する工程と
を含み、
前記周縁膜形成工程前に、前記反射防止膜の周縁部を硬化させる工程をさらに含むことを特徴とする膜形成方法。 - 前記反射防止膜の周縁部を硬化させる工程は、前記反射防止膜の周縁部に紫外線を照射することにより行われることを特徴とする請求項1に記載の膜形成方法。
- 周縁膜を硬化させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の膜形成方法。
- 前記周縁膜形成工程前に、表面膜を加熱する工程をさらに含み、
前記周縁膜硬化工程は、表面膜の加熱温度以下の温度で周縁膜を加熱することにより行うことを特徴とする請求項3に記載の膜形成方法。 - 前記表面膜は、前記フォトレジスト膜を覆う保護膜を有することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の膜形成方法。
- 液体を介して露光処理を施す液浸露光処理のための膜を基板に形成する膜形成装置であって、
基板の表面に反射防止膜とフォトレジスト膜またはフォトレジスト膜および他の1種または2種以上の膜からなる表面膜を形成する表面膜形成部と、
前記反射防止膜の周縁部を硬化させる周縁部硬化部と、
少なくとも基板の周縁部と表面膜の周縁部との境界部分に周縁膜を形成する周縁膜形成部と
を具備することを特徴とする膜形成装置。 - 前記周縁部硬化部は、前記基板を保持するスピンチャックと、
前記反射防止膜の周縁部を硬化させる反射防止膜硬化機構とを含み、
前記反射防止膜硬化機構は、前記スピンチャックに保持された前記基板の周縁部の一部が挿入可能なように断面コ字状に形成されていることを特徴とする請求項6に記載の膜形成装置。 - 前記反射防止膜硬化機構は紫外線照射手段を有し、前記紫外線照射手段は前記スピンチャックによって前記基板を回転させつつ、前記反射防止膜の周縁部に紫外線を照射することを特徴とする請求項7に記載の膜形成装置。
- 前記周縁膜形成部は、前記基板を保持するスピンチャックと、
前記境界部分に周縁膜形成材料を供給する材料供給機構と、
前記周縁膜を硬化させる周縁膜硬化機構とを含み、
前記周縁膜硬化機構は、前記スピンチャックに保持された前記基板の周縁部の一部が挿入可能なように断面コ字状に形成されていることを特徴とする請求項6から請求項8のいずれか1項に記載の膜形成装置。 - 前記周縁膜硬化機構は加熱手段を有し、前記加熱手段は前記スピンチャックによって前記基板を回転させつつ、前記周縁膜を加熱することを特徴とする請求項9に記載の膜形成装置。
- 基板の表面に所定のレジストパターンを形成するパターン形成方法であって、
基板の表面に反射防止膜とフォトレジスト膜またはフォトレジスト膜および他の1種または2種以上の膜からなる表面膜を形成する工程と、
前記基板の表面に形成された反射防止膜の周縁部を硬化させる工程と、
少なくとも基板の周縁部と表面膜の周縁部との境界部分に周縁膜を形成する工程と、
周縁膜の形成後に、液体を介してフォトレジスト膜を所定のパターンに露光する工程と、
フォトレジスト膜の露光後に周縁膜を除去する工程と、
露光後のフォトレジスト膜を現像する工程と
を含むことを特徴とするパターン形成方法。 - コンピュータ上で動作する制御プログラムが記憶されたコンピュータ読取可能な記憶媒体であって、
前記制御プログラムは、実行時に請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の膜形成方法が行われるように、コンピュータに処理装置を制御させることを特徴とするコンピュータ読取可能な記憶媒体。
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