JP2001022053A

JP2001022053A - 基板収納ケースおよび露光装置

Info

Publication number: JP2001022053A
Application number: JP19679299A
Authority: JP
Inventors: Atsuyuki Aoki; 淳行青木
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1999-07-09
Filing date: 1999-07-09
Publication date: 2001-01-26

Abstract

(57)【要約】【課題】内部に収納された基板を取り出すことなく確
認する。【解決手段】マークＭを有する基板Ｒを収納する基板
収納ケース８において、外部からの光を入射する入射部
１６と、入射部１６に入射した光を外部へ出射可能な出
射部１６と、入射部１６に入射した光をマークＭを介し
て出射部１６へ向けて反射する反射部１７、１８とを備
える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、マスク、レチクル
等の基板を収納する基板収納ケースおよびこの基板収納
ケースに収納された基板を用いて露光処理を行う露光装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】周知のように、半導体デバイス、液晶表
示デバイス等の多くは、レチクル（マスク）上に形成さ
れた所望のパターンを感光部材上のフォトレジスト層に
フォトリソグラフィの手法で所望の形状にパターニング
する露光装置を用いて製造されている。

【０００３】この種のレチクルとしては、石英板上にク
ロムなどでパターンを描画したものが使用されている。
一般に、このレチクルは、塵埃による汚染防止のためレ
チクルケース（基板収納ケース）と呼ばれるケースで保
管される場合が多い。そして、レチクルを露光装置で使
用する場合は、レチクルケースごと装置に装着され、露
光装置に備えられたレチクル搬送装置によりレチクルケ
ースの一部にある開口部を開けてレチクルを取り出して
いる。

【０００４】一般に、実際に露光装置で生産される製品
の種類は複数種類あり、また、一種類の製品に対し、複
数回の露光処理が必要であることから使用されるレチク
ルの種類は相当数に達することになる。このため、露光
装置には、通常、レチクルケースを相当枚数装填可能
な、いわゆるレチクルライブラリ（ケース保持装置）と
呼ばれる装置が備えられている。

【０００５】そのため、製品および処理の種類に応じて
定められたレチクルを使用することは、露光処理を行う
上で必須であることは言うまでもない。したがって、露
光処理を実施するにあたって、使用するレチクルが定め
られたものかどうかを確認することは極めて重要であ
る。そのため、一般には、レチクル上にバーコードを書
き込み、レチクルを使用する際にはレチクルケースから
レチクルを取り出し、光学式の読み取り手段を用いてバ
ーコードを確認する方法が採られている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来の基板収納ケースおよび露光装置には、以
下のような問題が存在する。合理的に露光処理を実施す
るためには、いわゆる前段取り、すなわち次に露光処理
を施すロットで使用するレチクルを、前のロットの処理
中に確認しておくことが望ましい。この場合の確認と
は、レチクルそのものが定められたものであること、そ
のレチクルがレチクルライブラリの所定位置に装着され
ていることである。

【０００７】ところが、レチクルケースを予め装置に装
着する場合、このレチクルケースに定められたレチクル
が収納されているかを確認することが好ましいが、ＩＤ
確認等、レチクルを確認するには、レチクルケースを開
けてバーコードやレチクル上の文字を読み取らなければ
ならない。この場合、レチクルケースを開けることによ
り、レチクルが塵埃で汚染されてしまう虞がある。

【０００８】一方、例えばレチクルケースの一部が透明
であればレチクルケースを開けることなく、レチクルの
確認が可能であるが、レチクルの確認としてはレチクル
ケースの装着時以外にもレチクル搬送時に、搬送装置等
で読み取り手段によるバーコード読み取りや、画像処理
による文字認識によってＩＤ認識が実施されている。も
し、レチクルもしくはレチクルケースを誤ってレチクル
ライブラリに装填した場合は、搬送、ＩＤ認識、誤装填
による警告、レチクルをケースへ戻す、再度搬送してＩ
Ｄ確認という手順を踏むことになり、時間的なロスが多
大になってしまう。そして、前段取りに時間が係ること
により、生産開始が遅れ、生産性を落としてしまう懸念
もあった。

【０００９】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、内部に収納されたレチクル等の基板を取り
出すことなく確認できる基板収納ケース、およびこの基
板収納ケースに収納された基板を用いて露光処理を効率
よく実施できる露光装置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、実施の形態を示す図１ないし図１１に対
応付けした以下の構成を採用している。本発明の基板収
納ケースは、マーク（Ｍ）を有する基板（Ｒ）を収納す
る基板収納ケース（８）において、外部からの光（Ｂ）
を入射する入射部（１６、３２）と、入射部（１６、３
２）に入射した光（Ｂ）を外部へ出射可能な出射部（１
６、３２）と、入射部（１６、３２）に入射した光
（Ｂ）をマーク（Ｍ）を介して出射部（１６、３２）へ
向けて反射する反射部（１７、１８）とを備えることを
特徴とするものである。

【００１１】従って、本発明の基板収納ケースでは、検
出光等の光（Ｂ）を外部から入射部（１６、３２）を介
して入射し、入射した光（Ｂ）はマーク（Ｍ）を透過し
た際に基板（Ｒ）に関する情報を得た後に、反射部（１
７、１８）で反射して出射部（１６、３２）を介して外
部へ出射する。そして、外部へ出射したこの検知光
（Ｂ）を受光することで基板（Ｒ）の確認をすることが
できる。

【００１２】また、本発明の露光装置は、マスク（Ｒ）
のパターンを感光部材（Ｗ）に露光する露光装置（１）
において、マスク（Ｒ）を収納するマスク収納ケース
（８）と、感光部材（Ｗ）を収納する感光部材収納ケー
スとを有し、マスク収納ケース（８）と感光部材収納ケ
ースとの少なくともどちらか一方として、請求項１また
は２に記載された基板収納ケース（８）が用いられ、マ
ーク（Ｍ）を検出するための検出光（Ｂ）を入射部（１
６、３２）へ向けて投光する投光系（２５）と、出射部
（１６、３２）を介して出射した検出光（Ｂ）を受光す
る受光系（２６）と、受光系（２６）が受光した検出光
（Ｂ）を処理する処理部（１０）とを備えることを特徴
とするものである。

【００１３】従って、本発明の露光装置では、マスク収
納ケース（８）と感光部材収納ケースとの少なくともど
ちらか一方の入射部（１６、３２）に、投光系（２５）
から検出光（Ｂ）を入射することができる。入射部（１
６、３２）から入射した検出光（Ｂ）は、マーク（Ｍ）
を透過した際に基板（Ｒ）に関する情報を得た後に、反
射部（１７、１８）で反射して出射部（１６、３２）を
介して外部へ出射する。そして、外部へ出射した検知光
（Ｂ）を受光系（２６）で受光し、処理部（１０）で処
理することにより、基板（Ｒ）に関する情報を確認する
ことができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の基板収納ケースお
よび露光装置の第１の実施の形態を、図１ないし図５を
参照して説明する。ここでは、例えば、基板収納ケース
として、基板であるレチクルを収納するレチクルケース
を用いる場合の例を用いて説明する。

【００１５】図２は、露光装置１の内部構成の一例を示
す概略構成図である。この図においては、露光系とレチ
クル搬送系のみを図示し、ウエハ搬送系、チャンバおよ
びチャンバ内を所定の環境に維持するための空調系等の
図示を省略している。なお、この図において鉛直方向
（露光系の投影光学系の光軸方向）をＺ方向とし、Ｚ方
向と直交する方向をＸ方向およびＹ方向とする。

【００１６】露光装置１は、レチクル（マスク）Ｒを用
いて、該レチクルＲのパターンをウエハ（感光部材）Ｗ
に露光するものであって、露光装置本体２とレチクル搬
送系３とレチクルライブラリ（ケース保持装置）４と制
御装置（処理部、制御部）１０およびこれら露光装置本
体２、レチクル搬送系３、制御装置１０を統括的に制御
する主制御装置（管理部）１１とを備えている。

【００１７】露光装置本体２は、レチクルステージ５上
に保持されたレチクルＲを露光光で照明する不図示の照
明光学系と、ウエハＷを保持してＸＹ方向に移動可能な
ウエハステージ６と、レチクルステージ５上に保持され
たレチクルＲのパターン像をウエハＷ上に投影する投影
光学系７等とから概略構成されている。

【００１８】図１に示すように、レチクルＲの下面（処
理面）には、電子ビームを用いた露光処理等の描画処理
が施されて回路パターン（不図示）およびマークＭが形
成されている。ここでは、マークＭとして、回路パター
ンの種類を識別するためのレチクルＩＤを示すバーコー
ドが設定されている。

【００１９】レチクルライブラリ４は、レチクルＲを収
納するレチクルケース（マスク収納ケース）８を上下方
向（Ｚ方向）に沿って複数（図２では６つ）挿抜自在に
保持するスロットを有しており、各スロットは露光装置
本体２に臨む側（＋Ｙ方向側）および操作者側（−Ｙ方
向側）が開口する構成になっている。レチクルライブラ
リ４の各スロットには、ケース検出部９（図２では最上
段のみ図示）および指示部（不図示）が配設されてい
る。

【００２０】ケース検出部９は、近接センサ等によりレ
チクルケース８の有無を検出するものであって、検出結
果を制御装置１０に出力する構成になっている。指示部
は、後述するマーク検出装置２４の作動、具体的にはマ
ーク検出装置２４によるマーク検出開始の停止を指示す
るものであって、この指示信号は制御装置１０に出力さ
れる。

【００２１】また、レチクルライブラリ４には、図３に
示すように、装填されたレチクルケース８の抜き出しを
阻止する係合機構１２が設けられている。係合機構１２
は、電磁石１３が接合された長板状の係合部材１４と制
御部１５とから構成されている。係合部材１４は、レチ
クルケース８より操作者側（−Ｙ方向側）に配置され、
一端１４ａ側がレチクルライブラリ４に蝶番構造で固定
され、他端１４ｂ側が電磁石１３の作動によりレチクル
ケース８に係合する係合位置と電磁石１３の作動停止に
より上記係合を解除する解除位置との間を移動する構成
になっている。制御部１５は、主制御装置１１の指示に
より電磁石１３の作動を制御するものである。

【００２２】レチクルケース８は、一面を開閉自在、且
つ光を透過する透明な材料で形成された開閉扉（入射
部、出射部）１６を有しており、開閉扉１６が露光装置
本体２側（＋Ｙ方向側）を向くようにレチクルライブラ
リ４に装填される。レチクルケース８内の奥側には、レ
チクルＲ面に対して−４５°に傾斜して配置され、開閉
扉１６から入射したＹ軸方向に沿った光をレチクルＲへ
向けて＋Ｚ方向に反射する反射板１７と、レチクルＲ面
に対して＋４５°に傾斜して配置され、反射板１７で反
射してレチクルＲを透過した光を開閉扉１６へ向けてＹ
軸方向に沿って反射する反射板１８とが配設されてい
る。これら反射板１７、１８により反射部が構成されて
いる。

【００２３】また、図１に示すように、レチクルケース
８の上面には、内部に収納されたレチクルＲのマークＭ
と同じバーコードが描画されたケースマーク１９が貼設
されている。なお、ケースマーク１９としては必ずしも
貼設する必要はなく、レチクルケース８に直接描画され
ていてもよい。

【００２４】図２に示すように、レチクル搬送系３は、
レチクルライブラリ４と露光装置本体２との間でレチク
ルＲを搬送するものであって、搬送アーム２０、キャリ
ア２１、ロードアーム２２およびアンロードアーム２３
から構成されている。搬送アーム２０は、レチクルライ
ブラリ４に装填されたレチクルケース８内にＸＹ平面に
沿って収納されたレチクルＲをレチクルケース８から取
り出すとともに、該レチクルケース８に収納するもので
あって、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向の各方向へそれぞれ移
動自在になっている。搬送アーム２０には、真空吸着孔
（不図示）が設けられており、不図示の真空ポンプによ
りレチクルＲに対する吸着保持および保持解除が切り替
えられるようになっている。

【００２５】また、この搬送アーム２０には、レチクル
ＲのマークＭを検出するためのマーク検出装置２４が付
設されている。図１に示すように、マーク検出装置２４
は、Ｙ方向に沿って検出光を投光する投光系２５と、検
出光を受光する受光系２６と、受光系２６が受光した検
出光を処理してレチクルＲを認識する制御装置１０とか
ら構成されており、これらの内、投光系２５および受光
系２６が搬送アーム２０に搭載されている。投光系２５
は、ＬＥＤ等の発光部材で構成されており、投光系２５
の−Ｙ側にはコンデンサレンズ２７が配設されている。
受光系２６の−Ｙ側には、光学系の対物レンズ２８が配
置されている。これらコンデンサレンズ２７、対物レン
ズ２８の位置関係は、投光系２５から投光された検出光
がマークＭを介して受光系２６に到る際に、マークＭと
受光系２６とが光学的共役になるように設定されてい
る。制御装置１０は、受光系２６が受光した信号を電気
回路部分で処理してＡＳＣＩＩコードに変換し、変換結
果を主制御装置１１へ出力するものである。

【００２６】キャリア２１は、下部に真空吸着孔（不図
示）を有して、レチクルＲの吸着保持および保持解除を
行うとともにＸ方向に移動自在とされ、レチクルＲを搬
送アーム２０との受け渡し位置ＣＡ１から位置ＣＡ２ま
で搬送する構成になっている。また、キャリア２３に
は、レチクルＲを四辺を基準に二方向から挟み込んでプ
リアライメントする機構（不図示）が設けられている。

【００２７】ロードアーム２２とアンロードアーム２３
とは、Ｚ方向に関しては一体的に移動し、Ｙ方向に関し
ては位置ＣＡ２とレチクルステージ５との間をそれぞれ
独立して移動する構成になっている。これらロードアー
ム２２およびアンロードアーム２３には、搬送アーム２
０と同様にレチクルＲを保持するための真空吸着孔（不
図示）が設けられており、真空吸着の作動および作動解
除によりレチクルＲへの吸着保持および保持解除が切り
替えられるようになっている。

【００２８】一方、主制御装置１１には、バーコードリ
ーダ（読み取り部）２９と表示部３０とが接続されてい
る。バーコードリーダ２９は、レチクルケース８に貼設
されたケースマーク１９を読み取り、読み取った結果を
主制御装置１１に出力するものである。主制御装置１１
は、バーコードリーダ２９、マーク検出装置２４が検出
した結果から、レチクルライブラリ４のスロット毎にレ
チクルケース８の有無、レチクルＲのＩＤに関する管理
テーブルを作成し、表示部３０に表示する構成になって
いる。図４は、制御装置１０および主制御装置１１の制
御関係を示すブロック図である。この図に示すように、
制御装置１０および主制御装置１１は、各種装置に接続
されてこれらの装置を制御、管理している。

【００２９】上記の構成のレチクルケースおよび露光装
置の作用について以下に説明する。まず、図１に示すよ
うに、レチクルＲを、マークＭが奥側で且つ反射板１
７、１８の長さ方向（Ｘ方向）に沿うようにレチクルケ
ース８に収納しておく。そして、バーコードリーダ２９
でレチクルケース８のケースマーク１９を読み取るとと
もに、不図示の入力装置によりレチクルケース８を装填
するレチクルライブラリ４の位置（スロット番号等）を
入力する。主制御装置１１は、ケースマーク１９に基づ
きレチクルＲのＩＤおよびこのレチクルＲが収納される
位置を記憶する。そして、オペレータは入力したレチク
ルライブラリ４の所定位置にレチクルケース８を装填す
る。

【００３０】このとき、係合機構１２においては、電磁
石１３が作動を停止しているため、係合部材１４は図３
中、二点鎖線で示す解除位置にあり、レチクルケース８
の装填を支障なく行うことができる。そして、上記の手
順を順次繰り返して、露光処理に用いられるレチクルＲ
を所定枚数レチクルライブラリ４に装着する。レチクル
ライブラリ４にレチクルケース８が装填されると、ケー
ス検出部９が各段毎にレチクルケース８を検出し、検出
結果を制御装置１０に出力する。

【００３１】レチクルケース８がレチクルライブラリ４
に装填されると、搬送アーム２０がＺ方向に移動して、
所定のレチクルＲが収納されたレチクルケース８に対向
する。そして、搬送アーム２０がＸ方向に所定量移動す
るのに同期して、投光系２５からレチクルケース８の開
閉扉１６へ向けて−Ｙ方向に検出光（光）Ｂを投光す
る。検出光Ｂは、コンデンサレンズ２７を通って開閉扉
１６からレチクルケース８内に入射する。入射した検出
光Ｂは、反射板１７で＋Ｚ方向に反射し、マークＭを透
過した後、反射板１８で＋Ｙ方向に反射して開閉扉１６
から出射し、対物レンズ２８を介して受光系２６で受光
される。このとき、投光系２５、受光系２６は搬送アー
ム２０に伴ってＸ方向に移動するので、検出光Ｂでマー
クＭを長さ方向に亙って走査することができる。受光系
２６が受光した検出光Ｂは、制御装置１０がＡＳＣＩＩ
コードに変換し、変換結果を主制御装置１１へ出力す
る。

【００３２】なお、受光系２６の視野がマークＭの長さ
に対して十分広く、停止した状態でもマークＭを検出で
きる場合、例えば受光系２６としてラインセンサを配設
した場合には、搬送アーム２０によるＸ方向への走査移
動は不要である。

【００３３】レチクルＲのマークＭが検出され、マーク
Ｍの照合が完了すると、搬送アーム２０が−Ｙ方向へ移
動し、不図示の扉開閉機構でレチクルケース８の開閉扉
１６を開けた後に、レチクルケース８内に進入し、レチ
クルＲを吸着保持する。搬送アーム２０は、この状態で
＋Ｙ方向へ移動してレチクルＲをレチクルケース８から
取り出した後、Ｚ方向の最上位置まで移動して、キャリ
ア２１への受け渡し位置ＣＡ１までレチクルＲを搬送す
る。

【００３４】レチクルＲが所定のものと確認されレチク
ルケース８から取り出された際に、主制御装置１１は制
御部１５を介して電磁石１３を作動させる。これによ
り、係合部材１４の他端１４ｂ側が係合位置に移動して
レチクルケース８の操作者側に係合するため、オペレー
タがこのレチクルケース８をレチクルライブラリ４から
取り出すことを阻止できる。

【００３５】図２に戻って、受け渡し位置ＣＡ１におい
て、搬送アーム２０がレチクルＲに対する吸着保持を解
除するとともにキャリア２１がレチクルＲを吸着保持す
ることにより、レチクルＲの受け渡しが行われる。そし
て、キャリア２１は、レチクルＲを吸着保持した状態で
受け渡し位置ＣＡ１から位置ＣＡ２へ搬送する。この
際、レチクルＲはプリアライメントされる。

【００３６】位置ＣＡ２においてレチクルＲは、キャリ
ア２１による吸着保持が解除されるとともに、ロードア
ーム２２に吸着保持されることで受け渡しが行われる。
ロードアーム２２は、レチクルＲを吸着保持した状態で
＋Ｙ方向に移動した後に吸着保持を解除して、レチクル
Ｒをレチクルステージ５上に載置する。レチクルＲがレ
チクルステージ５にセットされると、露光装置本体２に
おいては、照明光学系の露光光でレチクルＲを照明する
ことにより、レチクルＲのパターン像が投影光学系７を
介してウエハステージ６上に載置されたウエハＷ上に投
影転写される。

【００３７】レチクルステージ５から不要になったレチ
クルＲを取り出す場合には、まずアンロードアーム２３
がレチクルステージ５上に載置されたレチクルＲを吸着
保持して位置ＣＡ２へ移動する。この後、上記と逆の手
順を行うことによって、キャリア２１、搬送アーム２０
を介してレチクルＲを元々収納されていたレチクルケー
ス８へ収納することができる。

【００３８】上記露光処理が実施されている間に、搬送
アーム２０は前段取りとして、次の工程で使用されるレ
チクルＲが収納されているレチクルケース８に対向する
ように移動し、マーク検出装置２４により上記と同様の
手順でレチクルケース８の外部から検出光Ｂを投光およ
び受光することでレチクルＲのＩＤを読み取る。図５に
示すように、表示部３０には、主制御装置１１が作成し
た管理テーブルに基づいて、スロット毎に、レチクルケ
ース８およびレチクルＲの有無、レチクルＩＤおよびこ
れらに付随する備考情報が表示される。

【００３９】一方、露光処理中（またはレチクルＲの搬
送中）にレチクルライブラリ４からレチクルケース８が
除去されると、ケース検出部９の検出結果に基づいて主
制御装置１１は管理テーブルから該当するレチクルケー
ス８の情報を削除するとともに、表示部３０における表
示内容もこれに合わせて更新する。逆に、露光処理中、
レチクルライブラリ４に新規にレチクルＲが装填される
と、ケース検出部９の検出結果に基づき、搬送アーム２
０が搬送処理を行っていない（または当面行わない）場
合、制御装置１０はマーク検出装置２４を制御して、新
規に装填されたレチクルケース８内のレチクルＲに対し
てマークＭの検出を実行させる。これにより、主制御装
置１１は、管理テーブルの内容を刷新し、表示部３０に
新たな情報を表示する。

【００４０】ここで、簡単なレチクル確認のために僅か
な時間だけレチクルケース８をレチクルライブラリ４か
ら離脱させ、再度装填するような作業を行っただけで、
マーク検出装置２４によるマークＭの検出が実行される
と煩わしい場合には、該当するスロットの指示部を操
作、例えばスイッチを押すことにより、スイッチが押さ
れている間はケース検出部９がレチクルケース８の装填
を検出しても、マーク検出が開始されることを停止させ
ることができる。この場合、レチクルケース８を再装填
した後にスイッチを戻すことで、ケース検出部９の検出
結果に応じてマーク検出が開始される状態に復帰するこ
とができる。このような指示部の操作状態も表示部３０
に表示させることが好ましい。

【００４１】なお、上記の場合、指示部の操作に依ら
ず、レチクルケース８がレチクルライブラリ４から除去
されてから一定時間内に再装填された場合には、マーク
検出を実行しないようなシーケンスを設定してもよい。
また、指示部として、制御装置１０にソフトウェア的な
スイッチを設けるような構成であってもよい。

【００４２】本実施の形態の基板収納ケースでは、開閉
扉１６を透過して入射した検出光Ｂを反射板１７、１８
がマークＭを介して反射して、再度開閉扉１６から出射
させるので、開閉扉１６を開けてレチクルＲを取り出す
ことなく、レチクルケース８内にレチクルＲを収納した
まま外部からマークＭを検出して、レチクルＲの種類を
確認することができる。そのため、レチクルＲが塵埃で
汚染されてしまうことを防止できる。

【００４３】また、本実施の形態の露光装置では、上記
レチクルケース８に対して検出光Ｂを投光、受光すると
ともに制御装置１０が検出光Ｂを処理することにより、
レチクルＲをレチクルケース８から取り出すことなくレ
チクルＲの種類を確認できるため、レチクルＲまたはレ
チクルケース８を誤ってレチクルライブラリ４に装填し
てもレチクルＲを搬送する前に事前に知ることができ、
時間のロスが発生することを防止できる。また、露光処
理中の裏時間に、前段取りとして次に用いるレチクルＲ
を確認しておくことが可能になり、従来遊休状態にあっ
た搬送アーム２０を有効に活用して、生産効率も向上さ
せることが可能になる。加えて、レチクルライブラリ４
にレチクルケース８が新規に装填された場合には、ケー
ス検出部９の検出結果により、自動的にマークＭの検出
を行っているので、マーク検出開始指示を別途行う必要
がなくなり作業性が向上する。

【００４４】さらに、本実施の形態の露光装置では、投
光系２５および受光系２６を搬送アーム２０に搭載して
いるので、マークＭの検出のために投光系２５および受
光系２６を複数のスロットに対向させるための昇降機構
や走査移動させるための移動機構を別途設ける必要がな
く、装置の小型化およびコストダウンを実現することも
できる。

【００４５】また、本実施の形態の露光装置では、マー
ク検出装置２４で検出したレチクルＲと、バーコードリ
ーダ２９で検出したレチクルケース８とを主制御装置１
１で管理し、表示部３０に表示しているので、レチクル
ライブラリ４におけるレチクルＲの状況を容易に把握す
ることができるとともに、万一、レチクルＲもしくはレ
チクルケース８の誤装着があった場合でも、早期に発見
することが可能になる。さらに、実際にレチクルＲを必
要とする時点では、既に所定のレチクルＲが装填されて
いるかどうかを判断できることになり、ある投入ロット
に対して即座に生産可能か否かが判断できる。また、こ
のように管理テーブルを作成し、主制御装置１１の上位
オンライン装置へこの情報を通知することで、ライン全
体のレチクル管理も可能になる。

【００４６】また、本実施の形態では、露光処理に用い
るためにレチクルＲが取り出されたレチクルケース８に
対しては、係合機構１２によりレチクルライブラリ４か
らの取り出しを阻止することができる。そのため、生産
を終了したレチクルＲを返却するためのレチクルケース
８がなくなって装置が停止したり、別のレチクルが収納
されたレチクルケースを装填してしまい、返却されたレ
チクルＲと新たに装填されたレチクルケース内のレチク
ルとが干渉してレチクルＲや搬送アーム２０が破損した
りすることを未然に防ぐことができる。

【００４７】なお、上記実施の形態において、レチクル
ＲのマークＭをバーコードとする構成としたが、これに
限られることなく、例えばレチクルＲに形成された回路
パターンに対応する文字を描画する構成としてもよい。
この場合、検出装置２４の投光系２５はハロゲン光を投
光し、受光系２６としてＣＣＤを配置する構成とする。
ＣＣＤで撮像した画像は、制御装置１０で画像処理を行
ってＡＳＣＩＩコードへ変換し、主制御装置１１へ出力
すればよい。

【００４８】また、上記実施の形態においては、マーク
としてレチクルＲ上に位置の定義された位置マークを別
途形成するような構成であってもよい。この場合、レチ
クルケース８内のレチクルＲが正規の位置にあるかを検
出することができるため、レチクルＲの位置がずれてい
たときに取り出しを行ってレチクルＲを破損させてしま
うことを未然に防ぐことができる。すなわち、レチクル
Ｒに位置確認用のマークを設け、マーク検出装置２４で
このマークを検出することでレチクルＲの破損防止の効
果も得ることができる。

【００４９】また、上記実施の形態では、レチクルＲを
取り出したレチクルケース８の抜き取り防止に係合機構
１２を設ける構成としたが、これに限られるものではな
く、例えばケース検出部９の検出結果に応じてブザーを
鳴らし、オペレータに警告を発するような構成であって
もよい。

【００５０】図６および図７は、本発明の基板収納ケー
スおよび露光装置の第２の実施の形態を示す図である。
これらの図において、図１ないし図５に示す第１の実施
の形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付
し、その説明を省略する。第２の実施の形態と上記の第
１の実施の形態とが異なる点は、レチクルケース、マー
ク検出装置およびレチクルケースの抜き取り阻止の構成
である。

【００５１】図６に示すように、本実施の形態の露光装
置では、レチクルＲのマークＭがレチクルＲの挿抜方向
（Ｙ方向）に沿って設けられている。そして、レチクル
ケース８の−Ｘ方向側に位置する側壁（入射部、出射
部）３２が光を透過する透明な材料で形成されている。
また、反射板１７、１８は、マークＭの長さ方向に沿っ
て、且つ側壁３２に対向する位置に配置されている。

【００５２】搬送アーム２０には、レチクルケース８の
外部で側壁３２に対して４５°傾斜するように反射板
（第２反射部）３１が搭載されている。そして、マーク
検出装置２４の投光系２５、受光系２６は、レチクルケ
ース８に対して−Ｘ側で、且つ＋Ｙ側に離間するように
固定配置されている。

【００５３】一方、上記第１の実施の形態では、主制御
装置１１がマーク検出装置２４およびバーコードリーダ
２９の検出結果により係合機構１２を用いてレチクルケ
ース８の抜き取りを阻止したが、本実施の形態では制御
系を用いずに機械的にレチクルケース８の抜き取りを阻
止するロック機構を設けてある。図７に示すように、ロ
ック機構３３は、Ｚ方向に沿って懸架されたコイルバネ
３４と、Ｙ方向に沿って延在する回転部材３５と、レチ
クルライブラリ４に設けられレチクルケース８の下面側
に向けて突出するストッパ（係止部）３６とから構成さ
れている。

【００５４】コイルバネ３４は、上端がレチクルケース
８の上壁３７に固定され、下端が回転部材３５の−Ｙ側
の端部４０に固定され、該端部４０を上方へ向けて付勢
する構成になっている。このコイルバネ３４の付勢力
は、図７（ｃ）に示すように、回転部材３５の端部４０
を上方側へ回転可能、且つレチクルＲに係る重力よりも
小さく設定されている。回転部材３５は、Ｘ方向に延在
する回転軸３８周りに回転自在とされており、＋Ｙ側の
端部（出没部）３９はストッパ３６よりも＋Ｙ側で−Ｚ
方向へ突出するように屈曲している。この端部３９は、
図７（ｂ）、（ｃ）に示すように、回転部材３５が回転
軸３８周りに回転したときにレチクルケース８から下方
側へ出没する構成になっている。他の構成は、上記第１
の実施の形態と同様である。

【００５５】上記の構成のレチクルケース８にレチクル
８を収納すると、レチクルＲの自重により、図７（ｂ）
に示すように、回転部材３５の端部４０がコイルバネ３
４の付勢力に抗して下方側へ回転する。これにより、回
転部材３５の端部３９は、レチクルケース８内に没入す
る。

【００５６】次に、レチクルライブラリ４に装填された
レチクルケース８に対して、内部に収納されたレチクル
ＲのマークＭを検出するには、まず、図６に示すよう
に、反射板３１が側壁３２の正面で、且つマーク検出装
置２４の投光系２５、受光系２６とＹ軸に沿って直線状
に並ぶように搬送アーム２０を移動する。そして、搬送
アーム２０がＹ方向に所定量移動するのに同期して、投
光系２５から反射板３１へ向けて−Ｙ方向へ検出光Ｂを
投光する。検出光Ｂは、コンデンサレンズ２７を通った
後反射板３１で＋Ｘ方向に反射して側壁３２からレチク
ルケース８内に入射する。

【００５７】入射した検出光Ｂは、反射板１７で＋Ｚ方
向に反射し、マークＭを透過した後、反射板１８で−Ｘ
方向に反射して側壁３２から出射する。出射した検出光
Ｂは反射板３１で＋Ｙ方向に反射し、対物レンズ２８を
介して受光系２６で受光される。このとき、反射板３１
は搬送アーム２０に伴ってＹ方向に移動するので、検出
光ＢでマークＭを長さ方向に亙って走査することができ
る。受光系２６が受光した検出光Ｂは、制御装置１０が
ＡＳＣＩＩコードに変換し、変換結果を主制御装置１１
へ出力する。

【００５８】マークＭの検出が完了すると、第１の実施
の形態と同様に、搬送アーム２０がレチクルケース８の
開閉扉１６を開けた後に、レチクルケース８内に進入し
てレチクルＲを取り出す。レチクルＲが取り出される
と、図７（ｃ）に示すように、回転部材３５はコイルバ
ネ３４の付勢力によって、図中、時計周り方向に回転軸
３８周りに回転する。これにより、端部３９がレチクル
ケース８から突出し、ストッパ３６に＋Ｙ方向から、す
なわち、反操作者側から係止する。したがって、この状
態では、操作者側からレチクルケース８を抜き出すこと
ができなくなる。

【００５９】生産が終了して、レチクルＲがレチクルケ
ース８内に収納されると、レチクルＲの自重により回転
部材３５が反時計周りに回転することで、回転部材３５
の端部３９が再度レチクルケース８内に没入する。これ
により、端部３９とストッパ３６との係止状態が解除さ
れ、レチクルケース８の抜き出しが可能になる。

【００６０】本実施の形態のレチクルケースおよび露光
装置では、上記第１の実施の形態と同様の効果が得られ
ることに加えて、レチクルＲのマークＭが挿抜方向に設
けられていても、レチクルケース８の開閉扉１６を開け
ることなく外部からマークＭの検出を行うことができ
る。また、搬送アーム２０に反射板３１を搭載すること
により、投光系２５および受光系２６を搬送アーム２０
に搭載する必要がなくなり、マーク検出装置２４および
搬送アーム２０の構造を簡単にすることができるととも
に、スペース的に制約が大きい搬送アーム２０にも対応
することができる。

【００６１】また、本実施の形態のレチクルケースおよ
び露光装置では、レチクルケース８の抜き出し阻止を、
制御系を用いずにロック機構３３により機械的に実行し
ているので、簡単な構造で確実にレチクルケース８の抜
き出し阻止が行え、装置の低価格化を実現することがで
きる。

【００６２】図８ないし図１０は、本発明の基板収納ケ
ースおよび露光装置の第３の実施の形態を示す図であ
る。これらの図において、図６および図７に示す第２の
実施の形態の構成要素と同一の要素については同一符号
を付し、その説明を省略する。第３の実施の形態と上記
の第２の実施の形態とが異なる点は、ロック機構３３の
構成である。図８に示すように、ロック機構３３は、レ
チクルケース８に設けられたロック部材４１、揺動アー
ム４２、引張りバネ４３と、搬送アーム２０の側方に該
搬送アーム２０と並行して突出するアーム部材４４と、
レチクルライブラリ４に設けられレチクルケース８の上
面側に向けて突出するストッパ（係止部）４５とから構
成されている。

【００６３】図９に示すように、ロック部材４１は、レ
チクルケース８の側部にストッパ４５よりも＋Ｙ側に位
置し、Ｚ方向に沿って形成された溝４６に移動自在に嵌
合する断面矩形のロックピン（出没部）４７と、ロック
ピン４７の下端側から＋Ｘ方向に突出する断面円形の駆
動受けピン４８とが一体的に結合された構成になってい
る。ロックピン４７の上端は、図９（ａ）に示すよう
に、ロック部材４１が上昇したときにレチクルケース８
から上方へ突出し、図９（ｂ）に示すように、ロック部
材４１が下降したときにレチクルケース８の溝４６内に
没入するようになっている。

【００６４】揺動アーム４２は、基端部４２ａを揺動中
心にしてレチクルケース８に揺動自在に取り付けられて
おり、その揺動先端側はロックピン４７の下端側に該ロ
ックピン４７に対して回転自在に取り付けられている。
引張りバネ４３は、レチクルケース８に固着するネジ４
９に一端が固定され、駆動受けピン４８に他端が掛止さ
れ、駆動受けピン４８をネジ４９に接近させる方向に付
勢している。そして、この引張りバネ４３の付勢力によ
り、ロック部材４１は図９（ａ）に示す突出位置と図９
（ｂ）に示す没入位置においてのみ安定する構成になっ
ている。

【００６５】一方、図１０に示すように、通常、レチク
ルＲを吸着保持する搬送アーム２０がレチクルケース８
内に進入して突起部５０、５０上にレチクルＲを受け渡
す際に、搬送アーム２０はレチクルＲと突起部５０とが
干渉しない高さＨＧで進入する。そして、搬送アーム２
０は、高さＬＷまで下降してレチクルＲを突起部５０、
５０に受け渡し、高さＬＷを維持したまま後退する。逆
にレチクルＲを取り出す際に、搬送アーム２０は、突起
部５０、５０上に載置されたレチクルＲに干渉しないよ
うに、レチクルケース８内に高さＬＷで進入し、高さＨ
Ｇまで上昇することでレチクルＲを吸着保持し、高さＨ
Ｇを維持したまま後退する。

【００６６】したがって、アーム部材４４の長さは、搬
送アーム２０がレチクルケース８内に進入して昇降した
際に駆動受けピン４８に当接するように設定され、且つ
駆動受けピン４８の高さはロック部材４１が突出位置に
あるときに高さＨＧに設定され、ロック部材４１が没入
位置にあるときに高さＬＷに設定される。

【００６７】上記の構成のレチクルケース８にレチクル
Ｒを収納し、レチクルライブラリ４にレチクルケース８
を装填する際には、ロック部材４１を没入位置に設定し
ておく。マークＭの検出が完了すると、搬送アーム２０
がレチクルケース８の開閉扉１６を開けた後に、レチク
ルケース８内に進入する。このとき、搬送アーム２０
は、アーム部材４４が高さＬＷよりも駆動受けピン４８
の直径程度低い高さで進入する。これにより、アーム部
材４４の先端は、駆動受けピン４８の下方に位置するこ
とになる。

【００６８】そして、搬送アーム２０が＋Ｚ方向に上昇
して、レチクルＲを吸着保持するのに伴って、アーム部
材４４が駆動受けピン４８を没入位置から突出位置まで
揺動させることにより、ロックピン４７がレチクルケー
ス８から上方へ突出する。このとき、搬送アーム２０
は、アーム部材４４の高さが高さＨＧよりも若干低い位
置になるまで上昇する。そして、搬送アーム２０は、こ
の高さを維持した状態でレチクルＲを保持したまま＋Ｙ
方向へ後退する。このとき、図９（ａ）に示すように、
ロックピン４７は、ストッパ４５に＋Ｙ方向から、すな
わち、反操作者側から係止するため、この状態では、操
作者側からレチクルケース８を抜き出すことができなく
なる。

【００６９】一方、生産が終了して、レチクルＲをレチ
クルケース８内に収納する際に、搬送アーム２０はアー
ム部材４４の高さが高さＨＧよりも若干高くなる位置で
レチクルケース８内に進入する。これにより、アーム部
材４４の先端は、駆動受けピン４８の上方に位置するこ
とになる。そして、搬送アーム２０が−Ｚ方向に下降し
て、レチクルＲを突起部５０、５０上に受け渡すのに伴
って、アーム部材４４が駆動受けピン４８を突出位置か
ら没入位置まで揺動させることにより、ロックピン４７
がレチクルケース８の溝４６内に没入する。このとき、
搬送アーム２０は、アーム部材４４の高さが高さＬＷよ
りも若干高い位置になるまで下降する。そして、搬送ア
ーム２０は、この高さを維持した状態でレチクルＲを保
持したまま＋Ｙ方向へ後退する。

【００７０】ロックピン４７の没入により、ロックピン
４７とストッパ４５との係止状態が解除され、レチクル
８の抜き出しが可能になる。本実施の形態のレチクルケ
ースおよび露光装置でも、レチクルライブラリ４からの
レチクルケース８の抜き取りを、レチクルＲの有無によ
って機械的に阻止することができ、上記第２の実施の形
態と同様の効果が得られる。

【００７１】なお、上記実施の形態において、反射部と
して反射板１７、１８をそれぞれ別個に配置する構成と
したが、これに限られるものではなく、一体部品で構成
するようにしてもよい。また、上記第１の実施の形態で
は、レチクルＲもマークＭを検出するために投光系２
５、受光系２６をＸ方向に走査移動させる構成とした
が、搬送アーム２０側でＸ方向への移動が機構上困難で
あれば、図１１（ａ）に示すように、反射板１７、１８
として曲面鏡を配設し、投光系２５および受光系２６を
Ｚ軸周りに回転させる構成としてもよい。さらに、上記
第１の実施の形態においては、図１１（ｂ）に示すよう
に、第２の実施の形態と同様に搬送アーム２０に反射板
３１を搭載し、搬送アーム２０をＸ方向に移動させるこ
とで投光系２５および受光系２６を搬送アーム２０に搭
載せずに固設可能になる。

【００７２】また、上記実施の形態においては、ケース
検出部９がレチクルケース８の装填を検出したときに自
動的にレチクルＲもマークＭを検出する構成としたが、
これに限定されず、例えば、レチクルライブラリ４のス
ロット毎にスイッチ等の指示部を配設し、オペレータが
スイッチを押すと制御装置１０の指示によりマーク検出
装置２４がレチクルＲのマークＭを検出するような構成
であってもよい。この場合、必要なときだけマーク検出
を実行することができる。

【００７３】一方、描画処理により回路パターンが形成
された下面にマークＭを形成する構成としたが、これに
限られず、描画処理面と並行する上面に設けるような構
成であってもよい。また、上記実施の形態では、レチク
ルケース８の開閉扉１６または側壁３２が光を透過する
透明材料で形成される構成としたが、レチクルケース８
全体が透明であってもよい。

【００７４】また、上記実施の形態では、レチクルＲを
収納するレチクルケース８に対してマーク検出装置２４
によりマークＭの検出を行うものとして説明したが、例
えばウエハＷを収納するウエハケースに対してマーク検
出を行ったり、レチクルケース８およびウエハケース双
方でマーク検出を実施してもよい。

【００７５】なお、基板としては、上記レチクルＲの原
版（合成石英、シリコンウエハ）や半導体デバイス用の
半導体ウエハＷの他に、液晶ディスプレイパネル用のガ
ラスプレート、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ等
が適用される。

【００７６】露光装置１としては、レチクルＲとウエハ
Ｗとを静止した状態でレチクルＲのパターンを露光し、
ウエハＷを順次ステップ移動させるステップ・アンド・
リピート方式の投影露光装置（ステッパー）の他に、レ
チクルＲとウエハＷとを同期移動してレチクルＲのパタ
ーンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の
走査型露光装置（スキャニング・ステッパー；USP5,47
3,410）にも適用することができる。

【００７７】露光装置１の種類としては、半導体製造用
の露光装置に限られず、ガラスプレートに液晶表示素子
パターンを露光する液晶用の露光装置や、薄膜磁気ヘッ
ド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクルなどを製造す
るための露光装置などにも広く適用できる。

【００７８】また、不図示の照明光学系の光源として、
超高圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎ
ｍ）、ｈ線（４０４．ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、
ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマ
レーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ₂レーザ（１５７ｎｍ）のみ
ならず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることが
できる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃とし
て、熱電子放射型のランタンヘキサボライト（Ｌａ
Ｂ₆）、タンタル（Ｔａ）を用いることができる。ま
た、ＹＡＧレーザや半導体レーザ等の高周波などを用い
てもよい。

【００７９】投影光学系７の倍率は、縮小系のみならず
等倍系および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学
系７としては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる
場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する
材料を用い、Ｆ₂レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折
系または屈折系の光学系にし（レチクルＲも反射型タイ
プのものを用いる）、また電子線を用いる場合には光学
系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を
用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状
態にすることはいうまでもない。また、投影光学系７を
用いることなく、レチクルＲとウエハＷとを密接させて
レチクルＲのパターンを露光するプリキシミティ露光装
置にも適用可能である。

【００８０】ウエハステージ６やレチクルステージ５に
リニアモータ（USP5,623,853またはUSP5,528,118参照）
を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型お
よびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮
上型のどちらを用いてもよい。また、各ステージ５、６
は、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを
設けないガイドレスタイプであってもよい。

【００８１】ステージ５、６の駆動機構としては、二次
元に磁石を配置した磁石ユニットと、二次元にコイルを
配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力によりステ
ージ５、６を駆動する平面モータを用いてもよい。この
場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方
をステージ５、６に接続し、磁石ユニットと電機子ユニ
ットとの他方をステージ５、６の移動面側に設ければよ
い。

【００８２】ウエハステージ６の移動により発生する反
力は、特開平８−１６６４７５号公報（USP5,528,118）
に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的
に床（大地）に逃がしてもよい。レチクルステージ５の
移動により発生する反力は、特開平８−３３０２２４号
公報（US S/N 08/416,558）に記載されているように、
フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしても
よい。

【００８３】複数の光学素子から構成される照明光学系
および投影光学系７をそれぞれ露光装置本体２に組み込
んでその光学調整をするとともに、多数の機械部品から
なるレチクルステージ５やウエハステージ６を露光装置
本体２に取り付けて配線や配管を接続し、さらに総合調
整（電気調整、動作確認等）をすることにより本実施の
形態の露光装置１を製造することができる。なお、露光
装置１の製造は、温度およびクリーン度等が管理された
クリーンルームで行うことが望ましい。

【００８４】半導体デバイスや液晶表示素子等のデバイ
スは、各デバイスの機能・性能設計を行うステップ、こ
の設計ステップに基づいたレチクルＲを製作するステッ
プ、ウエハＷ、ガラスプレート等を製作するステップ、
前述した実施の形態の露光装置１によりレチクルＲのパ
ターンをウエハＷ、ガラスプレートに露光するステッ
プ、各デバイスを組み立てるステップ（ウエハＷの場
合、ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工
程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。

【００８５】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１に係る基
板収納ケースは、入射部において外部からの光を入射
し、出射部において入射部で入射した光を出射し、反射
部において入射部で入射した光をマークを介して出射部
へ向けて反射する構成となっている。これにより、この
基板収納ケースでは、基板を取り出すことなく、内部に
基板を収納したまま外部からマークを検出して基板の種
類を確認することができるため、基板が塵埃で汚染され
てしまうことを防止できるという効果が得られる。

【００８６】請求項２に係る基板収納ケースは、マーク
が基板の処理面またはこの処理面と並行する面に設けら
れる構成となっている。これにより、この基板収納ケー
スでは、基板の挿抜方向からマークが視認できない場合
でも、基板を取り出すことなく、内部に基板を収納した
ままマークを検出して基板の種類を確認することがで
き、基板が塵埃で汚染されてしまうことを防止できると
いう効果が得られる。

【００８７】請求項３に係る露光装置は、マスク収納ケ
ースと感光部材収納ケースとの少なくともどちらか一方
に対して、投光系が入射部へ向けて検出光を投光し、受
光系が出射部を介して出射した検出光を受光し、処理部
が検出光を処理する構成となっている。これにより、こ
の露光装置では、マスクと感光部材との少なくとも一方
を、ケースから取り出すことなく確認することができる
ため、マスクと感光部材との少なくとも一方が塵埃で汚
染されてしまうことを防止できるという効果が得られ
る。また、この露光装置では、マスクまたは感光部材を
誤ってライブラリに装填しても搬送する前に事前に知る
ことができ、時間のロスが発生することを防止できると
ともに露光処理中の裏時間に、前段取りとして次に用い
るマスクを確認しておくことが可能になり、従来遊休状
態にあった搬送部を有効に活用して、生産効率も向上さ
せることが可能になる。

【００８８】請求項４に係る露光装置は、投光系および
受光系が搬送部に設けられた第２反射部を介して検出光
をそれぞれ投光および受光する構成となっている。これ
により、この露光装置では、基板のマークが挿抜方向に
設けられていても、外部からマークの検出を行うことが
できるという効果が得られる。また、この露光装置で
は、投光系および受光系を搬送部に搭載する必要がなく
なり、搬送部の構造を簡単にすることができるととも
に、スペース的に制約が大きい搬送部にも対応できると
いう効果が得られる。

【００８９】請求項５に係る露光装置は、投光系および
受光系が基板の搬送を行う搬送部に設けられる構成とな
っている。これにより、この露光装置では、マークの検
出のために投光系および受光系を複数のスロットに対向
させるための昇降機構や走査移動させるための移動機構
を別途設ける必要がなく、装置の小型化およびコストダ
ウンを実現できるという効果が得られる。

【００９０】請求項６に係る露光装置は、投光系が入射
部へ向く方向と直交する軸線周りに回転する構成となっ
ている。これにより、この露光装置では、搬送部におい
てマーク検出のための移動が機構上困難であっても基板
のマークを検出できるという効果が得られる。

【００９１】請求項７に係る露光装置は、ケースマーク
を読み取る読み取り部と、処理部で処理された結果およ
び読み取り部で読み取った結果に基づいて基板および基
板収納ケースを管理する管理部とを備える構成となって
いる。これにより、この露光装置では、万一、基板もし
くは基板収納ケースの誤装着があった場合でも、早期に
発見することが可能になる。さらに、実際に基板を必要
とする時点では、既に所定の基板が装填されているかど
うかを判断できることになり、ある投入ロットに対して
即座に生産可能か否かが判断できる。また、上位オンラ
イン装置へ管理した情報を通知することで、ライン全体
のレチクル管理も可能になる。

【００９２】請求項８に係る露光装置は、ケース保持装
置に、読み取り部の読み取り結果に基づいて基板収納ケ
ースに係合する係合機構が設けられる構成となってい
る。これにより、この露光装置では、生産を終了した基
板を返却するための基板収納ケースがなくなって装置が
停止したり、別の基板が収納された基板収納ケースを装
填してしまい、返却された基板と新たに装填された基板
収納ケース内の基板とが干渉して基板や搬送部が破損し
たりすることを未然に防ぐことができるという効果が得
られる。

【００９３】請求項９に係る露光装置は、管理部が基板
および基板収納ケースに関する情報を表示する表示部を
備える構成となっている。これにより、この露光装置で
は、ライブラリにおける基板収納ケースおよび基板の状
況を容易に把握することができるとともに、万一、基板
もしくは基板収納ケースの誤装着があった場合でも、早
期に発見できるという効果が得られる。

【００９４】請求項１０に係る露光装置は、ケース検出
部が基板収納ケースの有無を検出し、制御部がケース検
出部の検出結果に基づいて投光系および受光系の作動を
制御する構成となっている。これにより、この露光装置
では、自動的にマークの検出を行うので、マーク検出開
始指示を別途行う必要がなくなり作業性が向上するとい
う効果が得られる。

【００９５】請求項１１に係る露光装置は、指示部が投
光系および受光系の作動を指示し、制御部が指示部の指
示に基づき投光系および受光系の作動を制御する構成と
なっている。これにより、この露光装置では、オペレー
タの指示により、必要なときだけマーク検出を実行でき
るという効果が得られる。

【００９６】請求項１２に係る露光装置は、ロック機構
が基板収納ケースにおける基板の有無に応じてケース保
持装置からの基板収納ケースの抜き出しを阻止する構成
となっている。これにより、この露光装置では、基板収
納ケースの抜き出し阻止を、制御系を用いずに機械的に
実行できるので、簡単な構造で確実に基板収納ケースの
抜き出し阻止が行え、装置の低価格化を実現できるとい
う効果が得られる。

【００９７】請求項１３に係る露光装置は、ロック機構
が基板の有無に応じて基板収納ケースから外部に出没す
る出没部と、出没部が基板収納ケースから突出したとき
に出没部に係止される係止部とを備える構成となってい
る。これにより、この露光装置では、基板が取り出され
ると出没部が係止部に機械的に係止して確実に基板収納
ケースの抜き出しを阻止でき、また装置の低価格化を実
現できるという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態を示す図であっ
て、反射部を備えたレチクルケースと、投光系および受
光系を備えたマーク検出装置の外観斜視図である。

【図２】本発明の露光装置の内部構成を示す概略構成
図である。

【図３】本発明の露光装置を構成する係合機構がレチ
クルケースに係合する外観斜視図である。

【図４】同露光装置を構成する制御装置および主制御
装置の制御に関するブロック図である。

【図５】同露光装置を構成する表示部の表示内容を説
明する説明図である。

【図６】本発明の第２の実施の形態を示す図であっ
て、反射部を備えたレチクルケースと、投光系および受
光系を備えたマーク検出装置の外観斜視図である。

【図７】同露光装置を構成するロック機構の、（ａ）
は概略構成図、（ｂ）は係止解除状態を示す断面図、
（ｃ）は係止状態を示す断面図である。

【図８】本発明の第３の実施の形態を示す図であっ
て、別の形態のロック機構の外観斜視図である。

【図９】同ロック機構の、（ａ）は係止状態を示す断
面図、（ｂ）は係止解除状態を示す断面図である。

【図１０】搬送アームとレチクルケースとの高さ関係
を示す正面図である。

【図１１】マーク検出装置の別の実施の形態を示す図
であって、（ａ）は反射板が曲面鏡であり、投光系およ
び受光系がＺ軸周りに回転する平面図であり、（ｂ）は
搬送アームに反射板を搭載した平面図である。

【符号の説明】

Ｂ検出光（光）ＭマークＲレチクル（基板、マスク）Ｗウエハ（感光部材）１露光装置４レチクルライブラリ（ケース保持装置）８レチクルケース（マスク収納ケース、基板収納ケー
ス）１０制御装置（処理部、制御部）１１主制御装置（管理部）１２係合機構１６開閉扉（入射部、出射部）１７、１８反射板（反射部）１９ケースマーク２０搬送アーム（搬送部）２５投光系２６受光系２９バーコードリーダ（読み取り部）３０表示部３１反射板（第２反射部）３２側壁（入射部、出射部）３３ロック機構３６、４５ストッパ（係止部）３９端部（出没部）４７ロックピン（出没部）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】マークを有する基板を収納する基板収納
ケースにおいて、外部からの光を入射する入射部と、該入射部に入射した前記光を外部へ出射可能な出射部
と、前記入射部に入射した前記光を前記マークを介して前記
出射部へ向けて反射する反射部とを備えることを特徴と
する基板収納ケース。
【請求項２】請求項１記載の基板収納ケースにおい
て、前記マークは、前記基板に所定の処理が行われる処理面
または該処理面と並行する面に設けられていることを特
徴とする基板収納ケース。
【請求項３】マスクのパターンを感光部材に露光する
露光装置において、前記マスクを収納するマスク収納ケ
ースと、前記感光部材を収納する感光部材収納ケースと
を有し、前記マスク収納ケースと前記感光部材収納ケースとの少
なくともどちらか一方として、請求項１または２に記載
された基板収納ケースが用いられ、前記マークを検出するための検出光を前記入射部へ向け
て投光する投光系と、前記出射部を介して出射した前記検出光を受光する受光
系と、該受光系が受光した前記検出光を処理する処理部とを備
えることを特徴とする露光装置。
【請求項４】請求項３記載の露光装置において、前記投光系および前記受光系は、前記基板の搬送を行う
搬送部に設けられた第２反射部を介して前記検出光をそ
れぞれ投光および受光することを特徴とする露光装置。
【請求項５】請求項３記載の露光装置において、前記投光系および前記受光系は、前記基板の搬送を行う
搬送部に設けられていることを特徴とする露光装置。
【請求項６】請求項５記載の露光装置において、前記投光系は、前記入射部へ向く方向と直交する軸線周
りに回転することを特徴とする露光装置。
【請求項７】請求項３から６のいずれかに記載の露光
装置において、前記基板収納ケースには、前記基板に対応するケースマ
ークが設けられ、該ケースマークを読み取る読み取り部と、前記処理部で処理された結果および前記読み取り部で読
み取った結果に基づいて前記基板および前記基板収納ケ
ースを管理する管理部とを備えることを特徴とする露光
装置。
【請求項８】請求項７記載の露光装置において、前記基板収納ケースを挿抜自在に保持するケース保持装
置を備え、該ケース保持装置には、前記読み取り部の読み取り結果
に基づいて前記基板収納ケースに係合する係合機構が設
けられていることを特徴とする露光装置。
【請求項９】請求項７または８記載の露光装置におい
て、前記管理部は、前記基板および前記基板収納ケースに関
する情報を表示する表示部を備えることを特徴とする露
光装置。
【請求項１０】請求項３から９のいずれかに記載され
た露光装置において、前記基板収納ケースの有無を検出するケース検出部と、該ケース検出部の検出結果に基づいて前記投光系および
前記受光系の作動を制御する制御部とを備えることを特
徴とする露光装置。
【請求項１１】請求項３から１０のいずれかに記載さ
れた露光装置において、前記投光系および前記受光系の作動を指示する指示部
と、該指示部の指示に基づいて前記投光系および前記受光系
の作動を制御する制御部とを備えることを特徴とする露
光装置。
【請求項１２】請求項３から１１のいずれかに記載さ
れた露光装置において、前記基板収納ケースを挿抜自在に保持するケース保持装
置と、前記基板収納ケースにおける前記基板の有無に応じて前
記ケース保持装置からの前記基板収納ケースの抜き出し
を阻止するロック機構とを備えることを特徴とする露光
装置。
【請求項１３】請求項１２記載の露光装置において、前記ロック機構は、前記基板収納ケースに設けられて前
記基板の有無に応じて前記基板収納ケースから外部に出
没する出没部と、前記ケース保持装置に設けられて前記出没部が前記基板
収納ケースから突出したときに該出没部に係止される係
止部とを備えることを特徴とする露光装置。