JPH11162827A

JPH11162827A - 露光装置

Info

Publication number: JPH11162827A
Application number: JP9332047A
Authority: JP
Inventors: Akiko Sudou; 顕子須藤
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1997-12-02
Filing date: 1997-12-02
Publication date: 1999-06-18

Abstract

(57)【要約】【課題】露光のためのジョブ登録エラーが発生して
も、露光処理は継続させつつ、登録エラーが発生したジ
ョブの対処操作を可能とすること。【解決手段】上流のコータから送られてきたジョブ登
録データであるレシピがレシピファイルにないものであ
る場合に、ダミージョブを登録し、ダミージョブが登録
されたことをオペレータに通知して、イベント待ちに入
る。ダミージョブが登録されたことを通知されたオペレ
ータがそのダミージョブを正常なジョブに差し換えるこ
とで、そのジョブが実行される段階に至っても正常に露
光処理は継続され、結局、露光処理を中断することなく
継続させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体露光装置又
は液晶露光装置等の露光装置に関し、特に露光処理を登
録しておいて、その登録された露光処理を行う露光装置
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の露光装置においては、例
えば、露光基板であるプレートやウエハを基板ステージ
上に載置し、光源からの光束をレチクルを介して当該露
光基板上に照射することによりレチクルに形成された回
路パターンを露光基板上に投影露光するようになされて
いる。その際、この種の露光装置では、露光基板上の所
定領域に回路パターンを露光した後、露光基板を一定距
離だけステッピングさせて再びレチクルに形成された回
路パターンを露光し、これを順次繰り返していくことに
よって１つの露光基板上に回路パターンを複数ショット
露光する、いわゆるステップアンドリピート方式が採用
されている。

【０００３】図１に露光装置１の概略図を示す。露光装
置１はメインコンピュータ２とユニット３から成り、メ
インコンピュータ２からユニット３に露光処理のジョブ
（１つのカセットに入っている露光基板２０枚程度の同
じ露光条件の処理単位をロットと言い、露光条件種別デ
ータをレシピと言い、同一のレシピで行う１又は２以上
のロットの処理をジョブと言う）を指令し、ユニット３
がそのジョブを終了するとユニット３からメインコンピ
ュータ２にジョブ終了を連絡し、メインコンピュータ２
は次のジョブをユニット３にまた指令するということを
繰り返す。メインコンピュータ２は、ＣＰＵ（中央演算
処理装置）５によって制御され、露光基板とレチクルと
の位置合わせをするアライメント方式や露光時間等の色
々な露光条件をレシピとしていくつかの種類別に例えば
最大１２８種類記憶可能なレシピファイル６を有し、ホ
ストコンピュータ１０からライン７を経由して送られて
くる設定データを予めこのレシピファイル６に記憶させ
ておく。この場合、レシピファイル６には最大１２８の
レシピが記憶されるのであり、普通は空のレシピが存在
することになる。

【０００４】さらに、図２を参照してジョブ登録の動作
を説明する。露光装置１の前工程にある塗布装置（露光
の前に露光基板にレジストを塗布し、露光の後に現像す
るコータ・デベロッパ４のコータ）にロットがセットさ
れると、そのコータ４からそのロットに対応するレシピ
が現在露光中のジョブの後続のジョブ登録データとして
登録部９を介して露光装置１に入ってくる（Ｓ１０
１）。ＣＰＵ５は、そのデータが正常であるか否かを判
断、すなわち、そのジョブのレシピがレシピファイルに
登録されているものであるか否かを判断し（Ｓ１０
２）、ＹＥＳであって正常であれば、ジョブをジョブキ
ュー８に登録されているジョブの最後に登録する（Ｓ１
０４）。しかし、ＮＯであって異常であれば、エラー表
示部１１によってジョブ登録エラー処理要求、すなわ
ち、オペレータに対しエラー処理要求オペレータコール
をして（Ｓ１０３）、ジョブ登録エラー処理応答待ちに
入る（Ｓ１０５）。これに対しオペレータがエラー処理
をするとエラー処理応答によりジョブ登録エラー処理待
ちが解除されて、イベント待ちになる。ジョブキュー８
に登録されているジョブに対応する露光基板が基板搬送
装置１３によってコータ４から露光装置１のユニット３
に搬送されてきて、そのレシピの露光条件がレシピファ
イル６から読出され、そのレシピの露光条件に従って、
ステージ調整装置１４が露光基板を乗せたステージの位
置を調整し、露光処理装置１５が露光処理をする（Ｓ１
０６）。また、必要に応じてオペレータは、ジョブキュ
ー８に登録されているジョブ内容を変更部１２によって
変更することができる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の露光装
置では、ジョブ登録エラーが発生するとジョブ登録エラ
ー処理応答待ちとなってしまい、オペレータがエラー処
理を終了させるまでは、ＣＰＵ５がイベント待ちをする
ことができない。すなわち、ＣＰＵ５は他の処理をする
ことができず、露光処理は中断され、ジョブ登録データ
が送られてきた際のジョブ登録もすることができずに、
ジョブ登録データがバッファに溜まり続けてプログラム
がハングアップしてしまう可能性もあった。このため、
連続的に露光処理をするという自動露光の機能を十分に
果たすことができない。本発明は、ジョブ登録エラーが
発生しても、露光処理は継続させつつ、登録エラーが発
生したジョブの対処操作を可能とするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、一実施例を表す図３と図４とに対応付けて説明する
と請求項１記載の露光装置は、パターンが露光される基
板の露光条件種別データであるレシピを受けて露光処理
を登録する第１登録手段（３３、３４）と、前記登録さ
れた露光処理を行う露光処理手段（３３、５３、５４、
６０、６２）とを具備するものであって、前記レシピを
受けた際に該レシピの露光処理が前記第１登録手段（３
３、３４）に登録されていない場合にエラーと判断する
エラー検知手段（３３）と、該エラー検知手段（３３）
の検知に応じて前記エラーに起因したレシピに代えて特
定の露光処理を前記第１登録手段（３３、３４）に登録
する第２登録手段（３３）と、を具備するものである。
また、請求項２記載の露光装置は、前記エラー検知手段
（３３）でエラーが検知された際に、前記エラーに関す
る表示を行うエラー表示手段（８２）を具備している。
このため、請求項２記載の露光装置はオペレータにエラ
ー発生を通知することができるので、好ましい。

【０００７】さらに、請求項３記載の露光装置は、前記
第１登録手段（３３、３４）に登録されている前記露光
装置の処理内容を変更する変更手段（３３、３４）を具
備している。このため、請求項３記載の露光装置はエラ
ーを回復することができる。また、請求項４記載の露光
装置は、前記第１登録手段が前記基板に感光剤を塗布す
る塗布装置（３１）から前記レシピを受けている。この
ため、請求項４記載の露光装置は予めジョブ登録をする
ことができスループットを向上することができる。

【０００８】また、請求項５記載の露光装置は、前記特
定の露光処理がダミーの露光処理である。さらに、請求
項６記載の露光装置は、パターンが露光される基板の露
光条件種別データであるレシピを受けて露光処理を登録
する登録手段（３３、３４）と、前記登録された露光処
理を行う露光処理手段（３３、５３、５４、６０、６
２）とを具備するものであって、前記露光処理手段は、
前記レシピを受けた際に該レシピの露光処理が前記登録
手段に登録されていない場合に、前記登録手段に登録さ
れている露光処理を実行するものである。

【０００９】

【発明の実施の形態】図３は、本実施例の露光システム
を示す。この露光システムは、コータ・デベロッパ装置
３１と、ウエハ１００を露光する露光装置３２と、シス
テム全体の総括的な制御を行う主制御装置３３とを備え
ている。コータ・デベロッパ装置３１は、複数のウエハ
を収納するウエハカセット３５と、ウエハ１００の表面
にフォトレジストを塗布するコータ３６と、露光後のウ
エハ１００を現像する現像装置（デベロッパ）３７と、
現像後のウエハ１００のアライメント誤差を計測する検
査装置３８と、ウエハ１００の搬送を行う多関節ロボッ
トアーム３９及びガイドレール４０とを備えている。

【００１０】露光装置３２は、コータ・デベロッパ装置
３１からのジョブ登録情報を主制御装置３３に通信する
通信部８０と、ウエハ１００の露光条件を記憶している
レシピファイル及びジョブが登録されているジョブキュ
ーを有する記憶装置３４と、レシピファイルに記憶され
ている処理内容を変更するための変更手段としてのキー
ボード８１と、露光装置３２の一連の処理内容を表示可
能なＣＲＴ８２とを有している。

【００１１】また、露光装置３２は、コータ・デベロッ
パ装置３１との間でウエハ１００の受け渡しを行う多関
節ロボットアーム４３と、ウエハ１００上に形成された
バーコードを読み取るバーコードリーダ４４と、ウエハ
１００上にバーコードを形成するレーザ加工装置４５
と、プリアライメント装置４５と、露光部（３３、５
４、６０、６２：図４参照）とを備えている。プリアラ
イメント装置４７ヘのウエハ１００の搬送及び搬出は、
ガイド４６上を移動する多関節ロボットアーム４３によ
って行われる。また、プリアライメント装置４７と露光
装置３２間のウエハ１００の搬送は、ガイド５２上をス
ライダするスライダアーム５１によって行われる。

【００１２】図３において、ウエハカセット３５に収納
された複数のウエハ１００の内の一枚を多関節ロボット
アーム３９で抜き取り、そのウエハ１００をコータ３６
に搬送する。コータ３６で表面にフォトレジストが塗布
されたウエハ１００は、ロボットアーム３９によって待
機位置４１まで搬送される。待機位置４１のウエハ１０
０は、露光装置３２に設けられた多関節ロボットアーム
４３に保持され、ウエハ１００上の各層に形成された識
別コード（例えばバーコード）を読み取る読取装置（バ
ーコードリーダ）４４まで搬送される。読取装置４４
は、読み取った情報（例えばアライメントに関する条
件）を主制御装置３３に出力する。

【００１３】ロボットアーム４３はガイド４６に沿って
更に移動し、ウエハ１００をプリアライメント装置４７
のターンテーブル４８に受け渡す。プリアライメント装
置４７は、ターンテーブル４８でウエハ１００を回転さ
せつつ、センサ４９によってその外周部に非露光波長の
平行光束を照射し、ウエハ１００で遮られない光束を光
電検出する。そして、センサ４９の出力に応じてターン
テーブル４８の回転を停止させ、ウエハ１００のオリエ
ンテーションフラットを所定方向に合わせる。その後、
スライダアーム５１によってウエハ１００はウエハステ
ージ５０の上方まで搬送され、ウエハホルダ５３に真空
吸着される。

【００１４】ウエハ１００上の複数の層には、それぞれ
パターンが重ね合わせて形成されており、その複数層の
少なくとも１つのパターンに付設されたアライメントマ
ークをアライメントセンサ５６で検出する。そして、こ
のアライメントセンサ５６の出力と、所定の補正量（ア
ライメント条件）に基づいてウエハステージ５０を駆動
して、ウエハ１００上のパターンとレチクル上のパター
ンとを位置合わせする。その後、ウエハ１００上の最上
層（それを覆うフォトレジスト）を、投影光学系５４を
介してレチクル上のパターンの像で露光する。

【００１５】すべてのショット領域（パターン）がレチ
クルのパターン像で重ね合わせ露光されたウエハ１００
は、スライダアーム５１によってウエハステージ５０か
ら搬出され、ロボットアーム４３に受け渡される。更
に、ロボットアーム４３によってウエハ１００は、露光
及びアライメントに関する条件をウエハ（最上層）１０
０に記録するレーザ加工装置４５まで搬送される。レー
ザ加工装置４５は、フォトレジストを感光させる波長域
のレーザビームをウエハ１００上に照射し、露光及びア
ライメントに関する条件をバーコード（又は数字やアル
ファベット）の形でウエハ（フォトレジスト）１００に
書き込む。

【００１６】さて、各種条件で記録されたウエハ１００
は、ロボットアーム４３で待機位置４１まで搬送され、
更にロボットアーム３９によって現像装置３７に搬入さ
れる。現像装置３７で現像処理が施されたウエハ１００
は、ロボットーアーム３９によって検査装置３８に搬入
され、ここでアライメント誤差が計測される。検査装置
３８は、ウエハ１００上のいくつかのショット領域をそ
れぞれ照明し、ウエハ１００から発生する光を撮像素子
（例えばＣＣＤ）で光電検出する。更に、撮像素子から
の画像信号を複数の走査線で走査して、ウエハ１００上
の少なくとも１つの層に形成されたパターンと露光装置
３２で露光された、最上層に形成されるべきパターン
（レジストパターン）とのアライメント誤差を計測し、
この計測結果を主制御装置３３に出力する。

【００１７】図４は、露光装置３２の露光部（３３、５
４、６０、６２）の構成を示す。図において、露光光源
６０から出力された露光光は、レチクルステージ６４に
保持されたレチクル６２を照明する。レチクル６２に
は、所定の回路パターン（例えば半導体回路パターン）
が形成されており、そのパターンが投影光学系５４を介
してウエハ１００上に投影される。ウエハステージ５０
は、ステージ駆動装置６８によって、ＸＹ二次元方向に
ステップ移動可能になっている。アライメント装置５６
は、投影光学系５４の光軸から所定量ずれた位置に配設
されたいわゆるオフアクシスのアライメント顕微鏡であ
り、ウエハ１００のショット領域に付設されたアライメ
ントマーク（図示せず）を光電検出する。ウエハステー
ジ５０上には、反射ミラー７０が固定され、干渉計７２
から出力される光を反射する。反射ミラー７０で反射し
た光を干渉計７２によって受光し、ウエハステージ５０
の位置を検出するようなっている。以上の様に構成され
た本露光システムの動作につき以下図５から図７を参照
して以下説明を続ける。

【００１８】図５は、主制御装置３３のフローチャート
を示す図である。主制御装置３３は、通信部８０を介し
てコータ・デベロッパ装置３１から次のロット（同一の
露光処理が行われる複数のウエハ（例えば２５枚）から
構成される。）の露光条件であるレシピを受けてジョブ
登録データを入力する。（Ｓ２０１）。主制御装置３３
は、Ｓ２０２において入力したジョブ登録データが正常
かどうか、すなわち記憶装置３４のレシピファイルに登
録されているかどうかを判断する。

【００１９】主制御装置３３は、入力したジョブ登録デ
ータが記憶装置３４のレシピファイルに登録されている
場合に、記憶装置３４のジョブキューにジョブを登録す
る（Ｓ２０４）。また、主制御装置３３は、入力したジ
ョブ登録データが記憶装置３４のレシピファイルに登録
されていない場合に、記憶装置３４のジョブキューにダ
ミーのジョブを登録し（Ｓ２０３）、エラー表示として
ＣＲＴ８２にダミーのジョブを登録した旨の表示をする
（Ｓ２０５）。

【００２０】主制御装置３３は、実行すべきジョブがダ
ミーのジョブかどうか判定し（Ｓ２０６）、通常のジョ
ブの場合は記憶装置３４のレシピファイルの内容に従っ
てレチクル６２のパターンをウエハ１００に露光する
（Ｓ２０８）。また、主制御装置３３は、実行すべきジ
ョブがダミーのジョブの場合にオペレータに対してエラ
ー処理要求をする。

【００２１】以上のように本実施の形態においては、露
光装置１が露光処理を継続したまま、オペレータにはダ
ミージョブが登録されたことが通知され、そのジョブの
削除又は差し換え等を促す。このダミージョブが実行さ
れる段階に至るまでの間は露光処理が普通に継続され、
そのダミージョブが実行される段階に至って、オペレー
タにエラーアシストコールがされる。しかし、その前
に、ダミージョブが登録されたことを通知されたオペレ
ータがそのダミージョブを正常なジョブに差し換えれ
ば、そのジョブが実行される段階に至っても当然正常に
露光処理は継続され、結局、露光処理は全く中断される
ことなく継続されることになる。したがって、登録エラ
ーが発生した時に、露光処理が中断されたり、他の処理
が行えないといった不都合は解消される。

【００２２】図６は、ダミージョブの露光を始めようと
する場合の処理を説明する図である。２つのジョブ「Ｊ
ＯＢＡ」、「ＪＯＢＢ」が登録されていて、「ＪＯ
ＢＡ」は露光処理中である。ここでコータ・デベロッパ
装置３１から「ＪＯＢＣ」のジョブ登録データが送ら
れてくる。主制御装置３３は、そのデータに対応するジ
ョブのレシピファイル６をサーチしたところ、見つから
ない。そこで主制御装置３３は、ダミージョブ「ＮＯＴ
ＣＯＲＲＥＣＴＥＤ」を入れておきオペレータにその
旨通知しておく。その後コータ・デベロッパ装置３１か
ら「ＪＯＢＤ」のジョブ登録データが送られてくる。主
制御装置３３は、このデータに対するレシピファイルの
存在を確認しジョブを登録する。その後、「ＪＯＢ
Ａ」の露光は正常に終了し記憶装置３４内のジョブキュ
ーから削除され、「ＪＯＢＢ」の露光が始まる。主制
御装置は「ＪＯＢＢ」の露光が正常終了し、「ＮＯＴ
ＣＯＲＲＥＣＴＥＤ」の露光が始まろうとしたとき、始
めて「レシピなしジョブ露光エラー」をオペレータに通
知し、アシストを求める。この時オペレータは、ジョブ
を継続せずに停止するか、又はこのジョブ「ＮＯＴＣ
ＯＲＲＥＣＴＥＤ」を削除するかを選択する。この場合
でも、エラーのジョブの実行に至る前のジョブまでは、
正常にジョブを実行することができる。

【００２３】この図６では、ダミージョブが実行される
段階に至ると、オペレータにエラーアシストコールがさ
れ、オペレータがエラー対処するようにしているが、ダ
ミージョブに対するプレートについては露光処理をせず
に露光装置１を素通りさせて、次の正常なジョブを実行
するようにしても良い。このようにすれば、全くオペレ
ータの介入を必要とせず、かつ、露光処理を中断させる
こともない。

【００２４】図７は、ダミージョブをオペレータが差し
換える場合の処理を説明する図である。２つのジョブ
「ＪＯＢＡ」、「ＪＯＢＢ」が登録されていて、
「ＪＯＢＡ」は露光処理中である。ここでコータ・デベ
ロッパ装置３１から「ＪＯＢＣ」のジョブ登録データが
送られてくる。主制御装置３３は、そのデータに対応す
るジョブのレシピファイル６をサーチしたところ、見つ
からない。そこで主制御装置３３は、ダミージョブ「Ｎ
ＯＴＣＯＲＲＥＣＴＥＤ」を入れておきオペレータに
その旨通知しておく。その後コータ・デベロッパ装置３
１から「ＪＯＢＤ」のジョブ登録データが送られてく
る。主制御装置３３は、このデータに対するレシピファ
イルの存在を確認しジョブを登録する。主制御装置３３
は、この段階でもダミージョブ「ＮＯＴＣＯＲＲＥＣ
ＴＥＤ」を登録させたまま、まだ露光が始まっていない
ジョブ「ＪＯＢＢ」のパラメータ変更をオペレータが
キーボード８１を介して行うことができる。この後、
「ＪＯＢＡ」の露光は正常に終了しジョブキュー８か
ら削除され、パラメータの変更された「ＪＯＢＢ」の
露光が始まり、さらに、ダミージョブ「ＮＯＴＣＯＲ
ＲＥＣＴＥＤ」をオペレータが「ＪＯＢＥ」に差し換
えることができる。「ＪＯＢＥ」はレシピファイル６
の存在する正常なジョブである。続いて、「ＪＯＢ
Ｅ」、「ＪＯＢＤ」と正常に露光することができる。こ
の場合には、ジョブを妨げることなく、エラー状態を回
復することができる。

【００２５】

【発明の効果】以上のように、本発明によればジョブ登
録エラーが発生した場合でも、他の処理を行うことが可
能となり、様々な装置の状態を確認したり、設定し直し
たりしてからエラー回復をすることができるので、的確
なエラー回復ができるという効果がある。また、ジョブ
の継続を妨げることなくエラーを回復することが可能で
あるので、装置のスループットが向上する効果もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の露光装置の概略図である。

【図２】従来の露光動作を示すフローチャートである。

【図３】本発明の一実施例を表す露光システムを示す図
である。

【図４】図３の露光装置３２を示す図である。

【図５】主制御装置３３のフローチャートを示す図であ
る。

【図６】ダミージョブの露光を始めようとする場合の処
理の概念図である。

【図７】ダミージョブをオペレータが差し換える場合の
処理の概念図である。

【符号の説明】

３１コータ・デベロッパ装置３２露光装置３３主制御装置３４記憶装置３６コータ５４投影光学系６０光源６２レチクル１００ウエハ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】パターンが露光される基板の露光条件種
別データであるレシピを受けて露光処理を登録する第１
登録手段と、前記登録された露光処理を行う露光処理手
段とを具備する露光装置において、前記レシピを受けた際に該レシピの露光処理が前記第１
登録手段に登録されていない場合にエラーと判断するエ
ラー検知手段と、該エラー検知手段の検知に応じて前記エラーに起因した
レシピに代えて特定の露光処理を前記第１登録手段に登
録する第２登録手段と、を具備することを特徴とする露
光装置。
【請求項２】請求項１記載の露光装置において、前記エラー検知手段でエラーが検知された際に、前記エ
ラーに関する表示を行うエラー表示手段を具備すること
を特徴とする露光装置。
【請求項３】請求項１又は請求項２記載の露光装置に
おいて、前記第１登録手段に登録されている前記露光装置の処理
内容を変更する変更手段を具備することを特徴とする露
光装置。
【請求項４】請求項１乃至請求項３いずれかに記載の
露光装置において、前記第１登録手段は、前記基板に感光剤を塗布する塗布
装置から前記レシピを受けることを特徴とする露光装
置。
【請求項５】請求項１記載の露光装置において、前記特定の露光処理はダミーの露光処理であることを特
徴とする露光装置。
【請求項６】パターンが露光される基板の露光条件種
別データであるレシピを受けて露光処理を登録する登録
手段と、前記登録された露光処理を行う露光処理手段と
を具備する露光装置において、前記露光処理手段は、前記レシピを受けた際に該レシピ
の露光処理が前記登録手段に登録されていない場合に、
前記登録手段に登録されている露光処理を実行すること
を特徴とする露光装置。