JPH11204610A - 基板搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、基板を複数枚収容可能な収納部と、
基板を用いて所定の処理を行う処理部を有し、それらの
間で基板を搬送する基板搬送装置に関し、装置全体のス
ループットを向上させた基板搬送装置を提供することを
目的とする。 【解決手段】レチクルＲを複数枚収容可能なライブラリ
部４と、レチクルＲを用いて露光処理を行う露光部１
と、レチクルを用いて異物検出処理を行う異物検出部３
と、ライブラリ部４と、露光部１と、異物検出部３との
間でレチクルＲを搬送する３つのキャリア６、７、８と
を備えるように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を複数枚収容
可能な収納部と、基板を用いて所定の処理を行う処理部
を有し、それらの間で基板を搬送する基板搬送装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置あるいは液晶表示装置を製造
する際のフォトリソグラフィ工程では、フォトレジスト
が塗布されたウェハやガラスプレート（以下、ウェハと
いう）上に、レチクルあるいはマスク（以下、レチクル
という）に形成されたパターンの像を転写する露光処理
が行われる。通常、ウェハ上に複数のパターンを積層し
て素子を形成するので、複数種類のレチクルを順次交換
しながら露光処理が行われる。また、特に特定用途向け
ＩＣ（Application-specific IC:ASIC)を製造するよう
な場合には、ウェハ上の異なるショット領域に複数種類
のパターンを露光するので複数種類のレチクルが用いら
れ、これらレチクルを頻繁に交換しながら露光処理が行
われる。

【０００３】このような露光処理においては、ウェハ上
にレチクルのパターンを転写する露光部と、露光部にレ
チクルを搬送、搬出する搬送系とを備えた基板搬送装置
が用いられる。さらに基板搬送装置には、レチクルに付
着した異物（ゴミ）を検出する異物検査部を備えたもの
もある。図４は、従来の基板搬送装置の概略の平面構成
を示している。図４における基板搬送装置は、レチクル
Ｒのパターンをウェハに転写する露光部１と、レチクル
Ｒを保持して移動可能なキャリア６を有する搬送系２と
に大別される。

【０００４】キャリア６は、図示しないキャリア駆動系
の駆動により、図中横方向の矢印で示すように位置Ｂ、
Ｃ、Ｄ間でレチクルを保持して移動できるようになって
いる。キャリア６は、複数のレチクルが保管されたライ
ブラリ部４から所定のレチクルＲを受け渡すための受け
渡し位置Ｃに移動して、ライブラリ部４の所定のレチク
ルケース５から取り出されたレチクルＲを受け取る。レ
チクルＲを保持したキャリア６は、露光部１のレチクル
Ｒの受け渡し位置Ｄへ移動して露光部１側にレチクルＲ
を渡す（図中縦方向の矢印参照）。露光部１は、受け取
ったレチクルＲをレチクルステージ１０に載置した後、
レチクルＲのパターンをウェハに転写する露光処理を行
う。

【０００５】レチクルＲを用いた露光処理が終わると、
露光部１のレチクルステージ１０上のレチクルＲが位置
Ｄで待機していたキャリア６に渡される。キャリア６
は、レチクルＲを保持して位置Ｃへ移動し、ライブラリ
部４の所定のレチクルケース５内にレチクルＲが収納さ
れる。同様な動作で、次の露光処理に用いられるレチク
ルＲがライブラリ部４から露光部１に搬送される。

【０００６】また、この従来の基板搬送装置には異物検
査部３が備えられており、レチクルＲを保持したキャリ
ア６を異物検査部３とのレチクルＲの受け渡し位置Ｂへ
移動させることにより、異物検査部３にレチクルＲを搬
送することができるようになっている。異物検査部３で
は、レチクルＲのパターン形成面上、あるいはレチクル
Ｒのパターン形成面に異物が付着するのを防止するため
に張り渡されたペリクル膜面上での異物の有無が検査さ
れる。この異物検査は、通常、ライブラリ部４からレチ
クルＲが取り出されてキャリア６に保持された後、露光
部１に搬送する前に行われる。異物検査部３での異物検
査においてレチクルＲのパターン面上あるいはペリクル
膜上に異物が検出された場合には、レチクルＲを一旦基
板搬送装置から別の洗浄装置へ搬出して洗浄等を行う。

【０００７】上述の基板搬送装置では、露光部１での露
光処理の間、露光処理の終了と共に使用済みのレチクル
Ｒを搬出させることができるようにキャリア６は位置Ｄ
で待機している。そして、キャリア６は、位置Ｄで露光
部１から搬出されたレチクルＲを受け取ると、位置Ｃに
移動して使用済みのレチクルＲをライブラリ部４に受け
渡した後、次の露光処理に用いられるレチクルＲを受け
取り、異物検査部３での異物検査をする場合には位置Ｂ
に移動し、異物検査をしないのであれば位置Ｄに移動す
る。このように図４に示した従来の基板搬送装置では、
キャリア６の移動動作に依存してレチクル交換に要する
時間が規定されてしまい、スループットを低下させる原
因となっている。

【０００８】図４に示した基板搬送装置の問題を解決す
る従来技術として図５に示す基板搬送装置がある。図５
は基板搬送装置の概略の平面構成を示している。図４に
示した基板搬送装置と同一機能の構成要素には同一符号
を付して説明は省略することとする。この基板搬送装置
は、キャリア６の他にさらにキャリア７を備えている。
これらキャリア６、７は連接部材２０に一体的に固定さ
れ、図示しない駆動系により駆動されて一体的に図中横
方向の矢印で示す方向に移動できるようになっている。

【０００９】この基板搬送装置においては、露光部１の
レチクルステージ１０に所定のレチクルＲが載置されて
露光処理が行われている最中に、次の露光処理に用いら
れるレチクルＲがライブラリ部４から取り出されてキャ
リア６に保持される。次の露光処理で用いられるレチク
ルＲを保持して待機するキャリア６は位置Ｃに、キャリ
ア７は位置Ｄに停止している。露光処理が終了すると、
当該露光に使用されたレチクルＲが露光部１からキャリ
ア７に搬送され、次いで、キャリア６が位置Ｄに、キャ
リア７が位置Ｅに移動して、キャリア６に保持されたレ
チクルＲが露光部１に搬送される。こうすることによ
り、露光部１は次の露光処理に即座に移行できるように
なるのでスループットを向上させることができる。この
後、キャリア６は位置Ｂに、キャリア７は位置Ｃに移動
し、キャリア７に保持された使用済みのレチクルＲがラ
イブラリ部４の所定のレチクルケース５に収納される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】ところで、露光部１に
よる露光処理においてレチクルＲのパターンの像を高精
度でウェハ上に露光するには、レチクルＲに対する異物
検査は必須である。従って、レチクルＲを露光部１のレ
チクルステージ１０上に載置するまでに、当該レチクル
Ｒを異物検査部３に搬送して異物検査を行う必要があ
る。また、レチクルＲのパターン形成面やペリクル膜面
で異物が検出された場合には、当該異物を除去するため
の洗浄処理を行う時間が必要であるため、レチクルＲに
対する異物検査はできるだけ早期に行いたいという要求
がある。

【００１１】また、異物検査部３を備えていない基板搬
送装置においては、ライブラリ部４にレチクルＲを搬入
する前に、別個に設けられた異物検査装置を用いてレチ
クルＲの異物検査を行わせておく必要がある。このた
め、異物検査部３を備えた基板搬送装置で、これら異物
検査部を備えていない基板搬送装置で使用するレチクル
Ｒの異物検査までも行わせたいという要求がある。

【００１２】このような要求に対応するためには、露光
部１で所定のレチクルＲによる露光処理中に残りの複数
のレチクルＲの異物検査を行うことが考えられる。上述
の図５に示した基板搬送装置でこのような異物検査を行
わせるためには、露光部１での露光処理の最中に、位置
Ｃ、位置Ｂ間を移動できるキャリア６を用いて、ライブ
ラリ部４と異物検査部３との間で複数のレチクルＲを搬
送させる必要が生じる。

【００１３】そのためには、次の露光処理のためにキャ
リア６に保持させて待機状態のレチクルＲを、一旦ライ
ブラリ部４の所定のレチクルケース５に戻しておく必要
が生じる。しかしながら、このようにしてしまうと、露
光部１での露光処理が終了してレチクルＲの交換要求が
あっても、次の露光処理用のレチクルＲがライブラリ部
４に収納されてしまっており、迅速にレチクル交換を行
えずスループットが低下してしまうという問題が発生す
る。特に、特定用途向けＩＣを製造する場合には、レチ
クルの交換が頻繁に行われるのでスループットが大幅に
低下してしまうという問題を生じる。

【００１４】この問題はレチクルを搬送する搬送系２
と、ライブラリ部（収納部）あるいは露光部１及び異物
検査部３（以下、総称する際には処理部と呼ぶ）だけで
なく、図示は省略したがウェハをキャリッジ（収納部）
から露光部１のウェハステージに搬送する搬送系や、フ
ォトレジストをウェハに塗布する塗布部、感光したフォ
トレジストを現像する現像部等の処理部との間の搬送系
を備えた基板搬送装置においても同様に発生し得る。

【００１５】本発明の目的は、収納部あるいは処理部に
基板を搬送する搬送系を備え、装置全体のスループット
を向上させた基板搬送装置を提供することにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明の一実施の形態を
表す図１に対応付けて説明すると上記目的は、基板
（Ｒ）を複数枚収容可能な収納部（４）と、基板（Ｒ）
を用いて所定の処理を行う処理部（１，３）と、収納部
（４）と処理部（１，３）との間で基板（Ｒ）を搬送す
る３つの搬送キャリア（６，７，８）とを備えたことを
特徴とする基板搬送装置によって達成される。

【００１７】また、本発明の基板搬送装置において、処
理部（１，３）は、２つであることを特徴とする。ま
た、本発明の基板搬送装置において、基板（Ｒ）は、パ
ターンが形成されたレチクルであることを特徴とする。
また、本発明の基板搬送装置において、処理部（１，
３）は、基板（Ｒ）を用いてパターンを露光する露光部
（１）であることを特徴とする。また、本発明の基板搬
送装置において、２つの処理部（１，３）の一方は、基
板（Ｒ）を用いてパターンを露光する露光部（１）であ
ることを特徴とする。

【００１８】また、本発明の基板搬送装置において、２
つの処理部（１，３）の他方は基板（Ｒ）に付着した異
物を検出する異物検出部（３）であり、３つの搬送キャ
リア（６，７，８）は、露光部（１）から搬出される基
板（Ｒ）を保持する第１搬送キャリア（７）と、露光部
（１）に搬入する基板（Ｒ）を保持する第２搬送キャリ
ア（６）と、異物検出部３へ搬入する基板（Ｒ）を保持
する第３搬送キャリア（８）とであることを特徴とす
る。

【００１９】また、上記目的は、基板（Ｒ）を複数枚収
容可能な収納部（４）と基板（Ｒ）を用いて所定の処理
を行う複数の処理部（１，３）との間で基板（Ｒ）を搬
送する基板搬送装置において、基板（Ｒ）を保持して搬
送を行う搬送キャリア（６，７，８）の数を収納部
（４）の数と複数の処理部（１，３）の数との和に設定
したことを特徴とする基板搬送装置によって達成され
る。

【００２０】

【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態による基板
搬送装置を図１乃至図３を用いて説明する。本実施の形
態による基板搬送装置は、レチクル搬送系を備えたレチ
クル搬送装置である。まず、本実施の形態によるレチク
ル搬送装置の概略の構成を図１を用いて説明する。本レ
チクル搬送装置は、レチクルＲのパターンをウェハに転
写する露光部１と、レチクルＲを保持して移動可能な３
個のキャリア６、７、８を有する搬送系２とに大別され
る。

【００２１】また、搬送系２内には異物検査部３が設け
られている。キャリア６〜８は、図中左方から、キャリ
ア８、キャリア６、キャリア７の順に配置されて連接部
材２０に一体的に固定され、図示しないキャリア駆動系
により駆動されて一体的に図中横方向の矢印で示す方向
に移動できるようになっている。従って、図示しないキ
ャリア駆動系の駆動により、キャリア６は位置Ｂ〜位置
Ｄ間を移動し、キャリア７は位置Ｃ〜位置Ｅ間を移動
し、キャリア８は位置Ａ〜位置Ｃ間を移動するようにな
っている。

【００２２】図１において、図中破線で囲んだブロック
で示したキャリア６〜８の移動領域Ｔに沿って、左方か
ら異物検査部３、ライブラリ部４、および露光部１がこ
の順に並んで配置されている。露光部１は、図１中の位
置Ｄに停止可能なキャリア６またはキャリア７のいずれ
かとレチクルステージ１０との間でレチクルＲの搬送を
行う第２搬送部（図示せず）を備えており、第２搬送部
は位置Ｄに停止したキャリア６に保持されているレチク
ルＲを受け取ってレチクルステージ１０上に載置し、ま
た、レチクルステージ１０上に載置されているレチクル
Ｒを位置Ｄに停止したキャリア７に渡すことができるよ
うになっている。

【００２３】露光部１としては種々の方式のものがある
が、例えば半導体装置の製造の場合、レチクルの回路パ
ターン全体を内包し得るイメージフィールドを持つ投影
光学系を介してウェハをステップ・アンド・リピート方
式で露光する投影露光装置と、レチクルを１次元に走査
しつつ、ウェハをそれと同期した速度で１次元に走査さ
せる、いわゆるステップ・アンド・スキャン方式の投影
露光装置とがある。

【００２４】ライブラリ部４には、レチクルＲをそれぞ
れ収納した複数（例えば、１５枚）のレチクルケース５
が収納されている。また、ライブラリ部４は、図１中の
位置Ｃに停止したキャリア６〜８と所定のレチクルケー
ス５との間のレチクルＲの搬送を行う第１搬送部（図示
せず）を備えている。この第１搬送部を介して位置Ｃに
おいて各キャリア６〜８に所定のレチクルＲの受け渡し
が行われる。つまり、異物検査を行うレチクルＲは位置
Ｃに停止させたキャリア８に受け渡され、次の露光処理
に用いられるレチクルＲは位置Ｃに停止させたキャリア
６に受け渡され、露光処理が終了した使用済みのレチク
ルＲは位置Ｃに停止したキャリア７から第１搬送部に受
け渡される。

【００２５】異物検査部３はレチクルＲに付着した異物
を検出し、異物を検出した際には、レチクルＲを洗浄す
る機能も有している。異物検査部３は、図１中の位置Ｂ
に停止したキャリア８と異物検出系（図示せず）との間
のレチクルＲの搬送を行う第３搬送部（図示せず）を備
えている。

【００２６】ここで、キャリア６〜８の構造を図２を用
いて簡単に説明する。図２は、図１に示したキャリア８
をａ−ａ線で切断した断面を示している。キャリア６〜
８は全て同一の構造であるので、図２のキャリア８で代
表して説明する。キャリア８は、下方が開放された防塵
カバー２２を有している。この防塵カバー２２上面は連
接部材２０下面に固定されている。防塵カバー２２内に
は、レチクルＲ上面の側辺部を上方から真空吸着する真
空吸着部１８が設けられている。また、真空吸着部１８
の側面には開閉可能なツメ機構１９が設けられており、
レチクルＲを真空吸着した後このツメ機構１９を閉状態
にすることにより、レチクルＲの搬送途中で真空吸着部
１８の真空圧が低下するようなことがあってもレチクル
の落下を防止できるようになっている。

【００２７】また、本レチクル搬送装置には、図３に示
すような制御系が組まれており、装置各部の動作はメイ
ンコントローラ１２により統括的に制御されるようにな
っている。メインコントローラ１２には、例えば、異物
検査部３、ライブラリ部４、およびキャリア駆動系等を
制御するレチクル搬送系コントローラ１３、露光部１に
おける第２搬送部を直接制御するユニットコントローラ
１４、あるいはウェハを載置するウェハステージの駆動
制御を行うユニットコントローラ１５等、種々のユニッ
トコントローラが接続されている。

【００２８】また、レチクル搬送系コントローラ１３
は、レチクル搬送装置とは別個の外部コントローラ１６
にもインターフェース１７を介して接続されている。こ
の外部コントローラ１６からの指令に基づき、メインコ
ントローラ１２からの制御を一時切り離して、外部コン
トローラ１６によりレチクル搬送系コントローラ１３を
制御することができるようになっている。この外部コン
トローラ１６の制御に基づき、異物検査部を備えていな
い他のレチクル搬送装置で使用されるレチクルＲをライ
ブラリ部４に搬入して、当該レチクルの異物検査を異物
検査部３で行うことができるようになっている。

【００２９】次に、本実施の形態によるレチクル搬送装
置により複数のレチクルＲを用いて露光処理を行う場合
の基本的な動作を説明する。まず、図示しないキャリア
駆動系によりキャリア６を位置Ｃに移動させる。ライブ
ラリ部４の第１搬送部により、最初の露光処理に使用さ
れるレチクルＲが所定のレチクルケース５から取り出さ
れ、当該レチクルＲがキャリア６へ渡される。次いで、
キャリア駆動系によりキャリア６は位置Ｂへ移動し、異
物検査部３の第３搬送部により、キャリア６からレチク
ルＲが取り出されて異物検査部３内に搬送され、異物検
査部３により異物検査が行われる。

【００３０】この異物検査では、レチクルＲに異物があ
るか否かを検出し、異物が検出された場合には、洗浄処
理によってレチクルＲ上の異物が取り除かれる。この異
物検査が終了すると、異物検査部３の第３搬送部によ
り、異物検査部３内からキャリア６へレチクルＲが渡さ
れ、キャリア駆動系によりキャリア６は位置Ｄへ移動す
る。その後、露光部１の第２搬送部によって、キャリア
６に保持されているレチクルＲが取り出されて露光部１
のレチクルステージ１０へ搬送され、露光部１で当該レ
チクルＲを使用した露光処理が行われる。

【００３１】この露光処理が行われている間に、上述と
同様にして、次の露光処理に使用されるレチクルＲをラ
イブラリ部４から異物検査部３へキャリア６を介して搬
送し、異物検査部３により異物検査を行う。異物検査が
終了したら、レチクルＲを異物検査部３から取り出して
キャリア６に保持させ、キャリア６を位置Ｃに移動さ
せ、実行中の露光処理が終了してレチクル交換の時がく
るまで、その位置でキャリア６〜８を待機させる。この
とき、キャリア７は位置Ｄ、キャリア８は位置Ｂでそれ
ぞれ待機状態となっている。

【００３２】露光処理が終了したら、露光部１の第２搬
送部により、露光に使用していたレチクルＲがレチクル
ステージ１０からキャリア７へ渡され、キャリア駆動系
によりキャリア６が位置Ｄに移動する。次いで、この位
置で、露光部１の第２搬送部により、キャリア６に保持
されている次の露光処理に使用されるレチクルＲがレチ
クルステージ１０へ搬送され、露光部１により次の露光
処理が開始される。次に、キャリア駆動系によりキャリ
ア７が位置Ｃまで移動し、キャリア７に保持された露光
処理に使用されたレチクルＲがライブラリ部４の第１搬
送部により所定のレチクルケース５に収納される。その
後、さらに次の露光処理に用いるレチクルＲがある場合
には、上述と同様の動作によりキャリア６にレチクルＲ
を保持させて待機させることになる。

【００３３】次に、次の露光処理に使用するレチクルＲ
をキャリア６に待機させている状態において、ライブラ
リ部４に収納されている他のレチクルＲに対する異物検
査処理を行う場合の動作を説明する。この動作は、メイ
ンコントローラ１２または外部コントローラ１６による
指示によって開始される。まず、キャリア駆動系により
キャリア８が位置Ｃに移動し、ライブラリ部４の第１搬
送部により異物検査処理の対象のレチクルＲがキャリア
８に渡される。

【００３４】次いで、キャリア８は位置Ｂへ移動して、
異物検査部３の第３搬送部によりキャリア８に保持され
たレチクルＲが異物検査部３内に搬送され、当該レチク
ルＲに対して異物検査が行われる。異物検査処理が終了
したら、第３搬送部によりレチクルＲを異物検査部３内
からキャリア８へ搬送し、次いでキャリア８を位置Ｃに
移動して、キャリア８からライブラリ部４の所定のレチ
クルケース５内にレチクルＲを収納する。上述の動作を
露光部１での露光処理が継続している最中に繰り返し行
うことにより、ライブラリ部４内の複数のレチクルＲに
対して順次異物検査を実施することができるようにな
る。

【００３５】上述の異物検査中に露光部１での露光処理
が終了した場合には、メインコントローラ１２は即座に
レチクルＲの異物検査動作を中断させ、露光部１のレチ
クルＲの交換動作に移行する。すなわち、キャリア７を
位置Ｄに移動させ、露光処理が終了した使用済みのレチ
クルＲをキャリア７へ搬送し、次いでキャリア６を位置
Ｄに移動させて、キャリア６に保持されている待機中の
レチクルＲを露光部１のレチクルステージ１０に搬送さ
せる。このようにして、スループットを低下させること
なくレチクル交換が行われて次の露光処理が露光部１で
開始されたら、中断していた異物検査動作を続行させ
る。

【００３６】以上説明したように、本実施の形態によれ
ば、レチクル交換に要する時間を最小限にして装置全体
のスループットを規定内に維持しつつ、ライブラリ部４
に収納されている複数のレチクルＲに対する異物検査処
理を効率よく行うことができるようになる。

【００３７】また、異物検査部を備えていないレチクル
搬送装置で使用するレチクルＲを本実施の形態によるレ
チクル搬送装置のライブラリ部４に搬入して上述の動作
を行わせるようにすれば、本レチクル搬送装置のスルー
プットを低下させずに、他のレチクル搬送装置で使用す
るレチクルＲの異物検査を行うことができるので、製造
ライン全体としてのスループットを向上させることもで
きるようになる。また、こうすることにより異物検査部
の稼働率を向上させることができ、全体として製造コス
トを低減させることができるようになる。

【００３８】本発明は、上記実施の形態に限らず種々の
変形が可能である。例えば、上記した実施の形態では、
基板搬送装置としてレチクルを搬送するレチクル搬送装
置を例にとって説明したが、本発明はこれに限らず、ウ
ェハやガラス基板を搬送する基板搬送装置にも適用する
ことができる。また、処理部としては、上述の露光部、
異物検査部に限られず、基板を用いて所定の処理を行う
ものであればよい。

【００３９】また、上記実施の形態では、３個のキャリ
アを備えたレチクル搬送装置について説明したが、３個
以上のキャリアを備えたレチクル搬送装置においても本
発明の効果を得ることができ、例えば、キャリアの数
を、収納部と、処理部との数の和に設定してもよい。

【００４０】

【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、装置全体
のスループットを向上させた基板搬送装置を実現するこ
とができるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態による基板搬送装置の概
略の構成を示す図である。

【図２】本発明の一実施の形態による基板搬送装置にお
けるキャリアの断面図である。

【図３】本発明の一実施の形態による基板搬送装置の制
御系のブロック図である。

【図４】従来の基板搬送装置の概略の構成を示す図であ
る。

【図５】従来の他の基板搬送装置の概略の構成を示す図
である。

【符号の説明】

１ 露光部 ２ 搬送系 ３ 異物検査部 ４ ライブラリ部 ５ レチクルケース ６、７、８ キャリア １０ レチクルステージ １２ メインコントローラ １３ レチクル搬送系コントローラ １４、１５ ユニットコントローラ １６ 外部コントローラ １８ 吸着部 １９ ツメ機構 ２０ 連接部材 Ｒ レチクル

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板を複数枚収容可能な収納部と、 前記基板を用いて所定の処理を行う処理部と、 前記収納部と前記処理部との間で前記基板を搬送する３
   つの搬送キャリアとを備えたことを特徴とする基板搬送
   装置。
2. 【請求項２】請求項１記載の基板搬送装置において、 前記処理部は、２つであることを特徴とする基板搬送装
   置。
3. 【請求項３】請求項１記載の基板搬送装置において、 前記基板は、パターンが形成されたレチクルであること
   を特徴とする基板搬送装置。
4. 【請求項４】請求項１記載の基板搬送装置において、 前記処理部は、前記基板を用いてパターンを露光する露
   光部であることを特徴とする基板搬送装置。
5. 【請求項５】請求項２記載の基板搬送装置において、 前記２つの処理部の一方は、前記基板を用いてパターン
   を露光する露光部であることを特徴とする基板搬送装
   置。
6. 【請求項６】請求項５記載の基板搬送装置において、 前記２つの処理部の他方は前記基板に付着した異物を検
   出する異物検出部であり、 前記３つの搬送キャリアは、前記露光部から搬出される
   基板を保持する第１搬送キャリアと、前記露光部に搬入
   する基板を保持する第２搬送キャリアと、前記異物検出
   部へ搬入する基板を保持する第３搬送キャリアとである
   ことを特徴とする基板搬送装置。
7. 【請求項７】基板を複数枚収容可能な収納部と前記基板
   を用いて所定の処理を行う複数の処理部との間で前記基
   板を搬送する基板搬送装置において、 前記基板を保持して前記搬送を行う搬送キャリアの数を
   前記収納部の数と前記複数の処理部の数との和に設定し
   たことを特徴とする基板搬送装置。