JP2000252200A - 露光用基板およびその情報読み取り方法および装置、露光装置、およびこれを用いた半導体デバイス製造方法 - Google Patents

露光用基板およびその情報読み取り方法および装置、露光装置、およびこれを用いた半導体デバイス製造方法

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JP2000252200A
JP2000252200A JP11054816A JP5481699A JP2000252200A JP 2000252200 A JP2000252200 A JP 2000252200A JP 11054816 A JP11054816 A JP 11054816A JP 5481699 A JP5481699 A JP 5481699A JP 2000252200 A JP2000252200 A JP 2000252200A
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Akio Nishikata
昭雄 西方
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Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光用基板およびその情報読み取り方法およ
び装置、露光装置、およびこれを用いた半導体デバイス
製造方法において、任意の数のセグメントに分割された
基板上のバーコード等のマークを、セグメントの数の設
定を行うことなく自動で読み取ること。 【解決手段】 基板Rには、該基板に関する情報を表す
マークBC1,BC2が少なくとも一つ設けられ、基板
に関する情報を表すマークの少なくとも一つにマーク読
み取り動作に関する情報が含まれているので、この情報
として読み取るべき他のマークの数、位置および読み取
り順序、読み取るべき情報の終了等を含ませておくこと
で、他のマークの情報を一つのマークから得ることがで
き、任意の数のマークを自動で読み取ることが可能とな
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置や
液晶基板製造装置等に用いられるレチクルやマスク、ウ
エハ等の露光用基板およびその情報読み取り方法および
装置、露光装置、およびこれを用いた半導体デバイス製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造工程や液晶表示素子製造工程
の一部であるフォトリソグラフィー工程では、各工程毎
にレチクルやマスク、ウエハ等の露光用基板を使用し
て、レチクルに形成された回路パターンを焼き付けて、
次のプロセスに移行するが、通常、フォトリソグラフィ
ー工程で使用されるパターンは、それぞれ異なってい
る。
【0003】近年、レチクルやマスク等の露光用原板の
情報、すなわちレチクル名や形成されているパターンに
関する情報等をバーコード等の認識マークにして原板に
形成し、自動的に読み取って識別することが行われてい
る。この認識マークは、必要な情報量(文字数等)に応
じて複数のブロック(セグメント)に分割されて原板に
配置されている。このため、認識マークの読み取りを行
うには、読み取りを行う前にバーコードがいくつのセグ
メントから構成されているか、という情報を読み取り装
置に設定しておかなければならないが、従来は、読み取
り装置に切り替えスイッチを設けて、セグメントの数の
設定をおこなっていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】全ての原板で必要な最
大の情報量(文字数等)に合わせてセグメントの数を固
定すれば、前述のようなセグメントの数の設定操作を避
けることができるが、この場合は、原板の有効領域の活
用に支障をきたすばかりでなく、空白などの記号で埋め
られている不必要なセグメントの読み取りを行うため、
読み取り時間が増大する。さらに、最大情報量が増加し
た場合に対応ができない、という問題を抱えている。し
たがって、任意のセグメント数から構成されるバーコー
ドの読み取りができることは不可欠であるが、この手段
として、前記のように読み取り装置に切り替えスイッチ
を設けた場合には、原板によってセグメントの数が変わ
るために操作員が切り替えを行わなければならない。こ
の場合、操作員が誤った設定を行うと、例えば実際の数
より小さいセグメント数を設定してしまうと、読み取ら
れるべきセグメントが読み取られないため誤った情報が
上位コンピュータに通知されることになり、この結果、
IC等の生産に多大な損害を与えてしまうこととなる。
【0005】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
ので、任意の数のセグメントに分割された基板上のバー
コード等のマークを、セグメントの数の設定を行うこと
なく自動で読み取ることを可能にする露光用基板および
その情報読み取り方法および装置、露光装置、およびこ
れを用いた半導体デバイス製造方法を提供することを目
的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために以下の構成を採用した。すなわち、図1か
ら図5に対応づけて説明すると、請求項1記載の露光用
基板では、露光用の基板(R)であって、該基板には、
該基板に関する情報を表すマーク(BC1,BC2,B
C3)が少なくとも一つ設けられ、該マークの少なくと
も一つには、マーク読み取り動作に関する情報が含まれ
ている技術が採用される。
【0007】この露光用基板では、基板に関する情報を
表すマーク(BC1,BC2,BC3)の少なくとも一
つにマーク読み取り動作に関する情報が含まれているの
で、この情報として読み取るべき他のマークの数、位置
および読み取り順序、読み取るべき情報の終了等を含ま
せておくことで、他のマークの情報を一つのマークから
得ることができ、任意の数のマークを自動で読み取るこ
とが可能となる。
【0008】請求項6記載の露光用基板の情報読み取り
方法では、露光用の基板(R)に設けられた少なくとも
一つのマーク(BC1,BC2,BC3)を読み取るこ
とにより、前記基板に関する情報を読み取る方法であっ
て、前記マークの少なくとも一つに、マーク読み取り動
作に関する情報を含めておき、前記読み取り動作に関す
る情報を読み取り、この情報に基づいて次のマークの読
み取りを行うか否かを判断する技術が採用される。
【0009】また、請求項10記載の読み取り装置で
は、請求項6から9のいずれか一つに記載の露光用基板
の情報読み取り方法によって前記露光用基板の情報を読
み取る技術が採用される。さらに、請求項11記載の露
光装置では、請求項10に記載の読み取り装置(M)を
備えた技術が採用される。そして、請求項12記載の半
導体デバイス製造方法では、請求項11に記載の露光装
置を用いて前記パターンを転写する技術が採用される。
【0010】これらの露光用基板の情報読み取り方法、
装置および露光装置、およびこれを用いた半導体デバイ
ス製造方法では、読み取り動作に関する情報を読み取
り、この情報に基づいて次のマークの読み取りを行うか
否かを判断するので、読み取らなければならない他のマ
ークがあれば自動的に次の読み取りを行って、マークの
数が任意であっても必要なマークの読み取りだけを行っ
て読み取り動作を終了させることが可能となる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る露光用基板お
よびこの情報読み取り方法、装置およびこれを用いた露
光装置、およびこれを用いた半導体デバイス製造方法の
一実施形態を、図1から図5を参照しながら説明する。
【0012】図1は、本実施形態における読み取り装置
を組み込んだ半導体露光装置の概略構成図であって、露
光時に使用されるレチクル(露光用基板)Rを収納した
複数のレチクルケース2を保管するレチクルライブラリ
1と、所定のレチクルケース2からレチクルRを取り出
して搬送するレチクル搬送系7と、不図示の照明光学系
から露光光をレチクルステージRST上に搬送載置され
たレチクルRに照射しレチクルRに形成されたパターン
を投影光学系PLを介してウエハステージWST上の半
導体ウエハWに投影露光する露光装置本体8とから構成
されている。
【0013】前記レチクルライブラリ1に保管されてい
るレチクルケース2内のレチクルRは、図1中でX−Y
平面と平行に収納されている。このため、所望のレチク
ルRをレチクルケース2から取り出したり、レチクルケ
ース2へ戻す搬送アーム3がY,Z方向に移動可能に設
けられている。搬送アーム3は、レチクルライブラリ1
に装着されたレチクルケース2内に進入し、予め指定さ
れたレチクルRのみをY方向に取出、そのままZ方向の
最上位置まで移動し、キャリア4への受渡位置CA1ま
でレチクルRを搬送する。
【0014】搬送アーム3には、真空吸着穴(図示略)
が設けられており、不図示の真空ポンプによりレチクル
Rを保持、解除できるようになっている。キャリア4
は、X方向に移動可能であり、その下部に吸着穴(図示
略)を有し、また、キャリア4には、4辺を基準に2方
向から挟み込んでレチクルRをプリアライメントする機
構(図示略)が設けられている。このキャリア4によっ
て、レチクルRは、受渡位置CA1から位置CA2まで
搬送される。
【0015】ロードアーム5およびアンロードアーム6
は、Y方向、Z方向に移動可能であり、位置CA2とレ
チクルステージRSTとの間をY方向に個別に移動可能
とされるとともに、Z方向については、一体に移動する
構成となっている。ロードアーム5およびアンロードア
ーム6には、搬送アーム3と同様に、レチクルR保持の
ための真空吸着穴(図示略)が設けられており、これに
よりレチクルRの保持および解除が可能となっている。
なお、レチクルステージRSTおよびウエハステージW
STには、それぞれ載置されたレチクルRおよび半導体
ウエハWの位置を調整するアライメント機構(図示略)
が設けられている。
【0016】前記レチクル搬送系7には、ロードアーム
5によってレチクルステージRSTにレチクルRを搬送
する途中でレチクルR上のバーコード(マーク)BC
1,BC2を読み取る読み取り装置Mが設けられてい
る。この読み取り装置Mは、搬送途中のレチクルR上の
バーコードBC1,BC2に読み取り用の光を照射し
て、その反射光、透過光または散乱光を受光してバーコ
ードBC1,BC2を読み取るバーコードリーダ9と、
該バーコードリーダ9の内容を解析してバーコードリー
ダ9およびロードアーム5を制御する処理部13とが設
けられている。なお、このバーコードリーダ9は、レチ
クルライブラリ1とレチクルステージRSTとの間のレ
チクル搬送系路上であれば、どの位置に配しても構わ
ず、この場合の処理部13は、バーコードリーダ9およ
びバーコードリーダ9の位置にレチクルRを搬送する手
段を制御する。
【0017】特に、処理部13では、読み取ったバーコ
ード情報に、バーコードの規格として定められている文
字、記号等の符号で、特定の識別符号、例えば「%」を
読み取りの最初のセグメントおよび最後のセグメントを
表す符号として定めてあり、この符号は、他の目的以外
に使用されないものとして認識するように定められてい
る。例えば、セグメント内の文字列で「%」が先頭にあ
る場合は、そのセグメントは最初のセグメントであると
認識し、また「%」が最後にある場合は、そのセグメン
トは最後のセグメントであると認識するように規定して
おく。なお、本実施形態に用いるバーコードは、cod
e39規格を用いるものとする。
【0018】前記レチクルRには、例えば、図2に示す
ように、一辺近傍にレチクルRの情報を2つのセグメン
トに分割して表したバーコードBC1,BC2が直列に
並んで設けられており、ロードアーム5で搬送される際
に、図3に示すように、バーコードリーダ9によって最
初にバーコードBC1が読み取られようになっている。
【0019】この最初に読み取るバーコードBC1に
は、上述した特定の識別符号、例えば「%」がスタート
キャラクタである「*」の次、すなわち文字列の先頭に
含ませてあるとともに、バーコードBC2には、「%」
が文字列の最後に含ませてある。また、他の文字列とし
ては、例えば、「ABCD」「EFGH」をバーコード
として、それぞれバーコードBC1,BC2に配置して
おり、全体としてはバーコードBC1には「%ABC
D」、バーコードBC2には「EFGH%」が文字列と
して割り当てられている。
【0020】次に、読み取り装置MによるレチクルRの
バーコードBC1,BC2の読み取り方法について、図
2および図3を参照して説明する。
【0021】まず、ロードアーム5は、レチクルRをレ
チクルステージRSTに搬送する途中で、図3に示すよ
うに、バーコードリーダ9によりバーコードBC1が読
み取ることができる読み取り位置P1に搬送し、バーコ
ードBC1の情報を読み取る。この際、読み取ったバー
コードBC1には、文字列の最初に「%」が含まれてい
るとともに最後に「%」が含まれていないので、処理部
13において、バーコードBC1は最初のセグメントで
あるとともに最後のセグメントではないことを自動的に
認識し、次のセグメントを読み取るようにロードアーム
5を制御してバーコードリーダ9がバーコードBC2を
読み取ることができる読み取り位置P2に搬送し、バー
コードBC2の情報を読み取る。
【0022】さらに、読み取ったバーコードBC2に
は、文字列の最初に「%」が含まれていないとともに最
後に「%」が含まれているので、処理部13において、
バーコードBC2は最後のセグメントであることを自動
的に認識し、次の読み取るべきセグメントは無いと判断
して読み取りを終了し、そして、ロードアーム5を制御
してレチクルRをレチクルステージRSTまで搬送す
る。この後、レチクルステージRSTでレチクルRのア
ライメント調整が行われ、半導体ウエハWへの露光処理
が行われる。
【0023】次に、他のセグメント構成からなるバーコ
ードを有したレチクルRの読み取り方法について、図4
および図5を参照して説明する。
【0024】他のバーコードのセグメント構成として、
レチクルRが、例えば、図4に示すように、最初に読み
取られるバーコードBC1のみの一つのセグメントで情
報が表示されている場合、バーコードBC1には、文字
列の最初と最後の両方に「%」を入れておくことによ
り、バーコードBC1の読み取りを行った際に、処理部
13によって、このバーコードBC1が最初かつ最後の
セグメントであることを自動認識し、これ以降の読み取
り動作を行わずに、レチクルRをレチクルステージRS
Tまで搬送する。
【0025】また、バーコードBC2のみの一つのセグ
メントで情報が表示されている場合、バーコードBC2
には、文字列の最初と最後の両方に「%」を入れてお
く。この場合、まず、読み取り位置P1にてバーコード
リーダ9がバーコードの読み取りを行うが、バーコード
がマーキングされていないため、読み取りエラーとな
り、処理部13が読み取り位置P2で次のセグメントの
読み取り動作を行うようにバーコードリーダ9およびロ
ードアーム5を制御する。
【0026】そして、読み取り位置P2においてバーコ
ードBC2の読み取りが行われ、このバーコードBC2
には、文字列の最初と最後に「%」が入っているので、
最初かつ最後のセグメントであると認識できるととも
に、読み取り位置P1にはバーコードが存在しないこと
も認識でき、この時点で上記の読み取りエラーを無視し
て、処理を続行することができる。
【0027】また、図5の(a)〜(d)は、他の例と
して、レチクルR上に3つのセグメントからなるバーコ
ードで情報を表示した場合である。
【0028】図5の(a)に示すバーコードの場合で
は、3つのセグメント、すなわちバーコードBC1,B
C2,BC3が直列に並んで設けられ、最初に読み取り
が行われるバーコードBC1には、識別符号「%」が文
字列の最初に入れられ、中間のバーコードBC2には、
文字列の中に「%」が含まれず、さらに、最後のバーコ
ードBC3には、文字列の最後に「%」が入れられてい
る。
【0029】この場合、最初のバーコードBC1を読み
取った際に、文字列の最初に「%」があるので、バーコ
ードBC1が最初のセグメントであるとともに、最後の
セグメントではないことが認識され、次のセグメントを
読み取るように制御される。次に、バーコードBC2が
読み取られ、文字列に「%」が無いことから、このバー
コードBC2が読み取るべきセグメントの最初でも最後
でも無いことが認識され、次のセグメントを読み取るよ
うに制御される。
【0030】さらに、次のバーコードBC3が読み取ら
れ、文字列の最後に「%」があるので、バーコードBC
3が最後のセグメントであることが認識され、読み取り
動作を終了して、レチクルステージRSTにレチクルR
を搬送するように制御される。
【0031】図5の(b)に示すバーコードの場合で
は、バーコードBC1,BC2,BC3が直列に並んで
設けられ、最初に読み取りが行われるバーコードBC1
には、識別符号「$」が文字列の最初に入れられ、中間
のバーコードBC2には、識別符号「+」が文字列の最
初に入れられ、さらに、最後のバーコードBC3には、
文字列の最初に識別符号「%」が入れられている。
【0032】この場合、予め処理部13は、識別符号
「$」が文字列に含まれる場合は最初のセグメントであ
り、また識別符号「+」が文字列に含まれる場合はその
セグメントは最初でも最後でもなく、さらに識別符号
「%」が文字列に含まれる場合は最後のセグメントであ
ることを認識するように設定されている。すなわち、最
初にバーコードBC1を読み取った際に、「$」によっ
てこのセグメントは最初であると認識し、次のセグメン
トであるバーコードBC2を読み取り、「+」によって
このセグメントが最初でも最後でもないことを認識し、
さらに、次のセグメントであるバーコードBC3を読み
取り、「%」によってこのセグメントが最後であること
を認識して、読み取り動作を終了させ、次の搬送処理を
行うように制御される。
【0033】図5の(c)に示すバーコードの場合で
は、バーコードBC1,BC2が直列的に並んで設けら
れ、バーコードBC3は、バーコードBC2と並列に並
んで設けられ、最初に読み取りが行われるバーコードB
C1には、識別符号「$」が文字列の最初に入れられ、
バーコードBC2には、識別符号「+」が文字列の最初
に入れられ、さらに、バーコードBC3には、文字列の
最初に識別符号「%」が入れられている。
【0034】この場合、予め処理部13は、識別符号
「$」が文字列に含まれる場合は次に読み取るべきセグ
メントが図5中の現セグメントの右側に位置すること、
また識別符号「+」が文字列に含まれる場合は次に読み
取るべきセグメントが図5中の現セグメントの下側(現
セグメントに並列して外方側)に位置すること、さらに
識別符号「%」が文字列に含まれる場合は最後のセグメ
ントであることを認識するように設定されている。
【0035】すなわち、最初にバーコードBC1を読み
取った際に、「$」によって次のセグメントが右側にあ
ると認識し、これに基づいて読み取り位置を右側に移
し、次のセグメントとしてバーコードBC2を読み取っ
て、「+」によって次のセグメントが下側にあることを
認識する。さらに、これに基づいて読み取り位置を下側
に移し、次のセグメントであるバーコードBC3を読み
取り、「%」によってこのセグメントが最後であること
を認識して、読み取り動作を終了させ、次の搬送処理を
行うように制御される。
【0036】図5の(d)に示すバーコードの場合で
は、バーコードBC1,BC2,BC3が直列に並んで
設けられ、最後に読み取りが行われるバーコードBC3
のみに、最後のセグメントを意味する識別符号「%」が
文字列の最後に入れられている。また、この例の場合で
は、読み取りの始まりは必ずバーコードBC1の位置か
ら行われることが予め決められている。
【0037】すなわち、最初にバーコードBC1を読み
取った際に、識別符号がないことから、読み取り位置を
隣のセグメントに移し、バーコードBC2を読み取る。
そして、バーコードBC2にも識別信号がないことか
ら、さらに読み取り位置を隣のセグメントに移し、バー
コードBC3を読み取る。このとき、バーコードBC3
には、「%」が含まれているので、最終のセグメントで
あることを認識して、読み取り動作を終了させ、次の搬
送処理を行うように制御される。なお、図5の(a)〜
(d)に示すバーコード(BC1,BC2,BC3)
は、便宜上全く同じコード(バーとスペースとの組み合
わせ)で表しているが、実際は表す符号がそれぞれ異な
るため、コードの形も異なる。
【0038】なお、本発明は、次のような実施形態をも
含むものである。 (1)上記実施形態では、レチクルRに読み取り動作に
関する情報をバーコード形式のマークで表したが、他の
形式によるマークでも構わない。例えば、上記実施形態
では、バーとスペースが1列に配置されるコードからな
るバーコードを用いたが、平面で構成されるコード(二
次元コード)等を適用してもよい。
【0039】(2)識別符号として「%」「$」「+」
を用いたが、他の文字や記号等の符号を採用しても構わ
ず、読み取り可能な符号であって、この用途以外に使用
されないものであれば何を用いてもよい。また、識別符
号は、セグメントに関する情報を有し、文字列内の配置
や定義は任意に定めても構わない。例えば、「%」に続
く文字または文字列を各セグメントの文字列の最後に配
置し、この文字または文字列によって、最初のセグメン
トと最後のセグメントを識別してもよい。
【0040】(3)本実施形態の露光装置として、投影
光学系を用いることなくマスクと基板とを密接させてマ
スクのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも
適用することができる。 (4)露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置
に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレート
に液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置
や、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く
適用できる。
【0041】(5)本実施形態の露光装置の光源は、g
線(436nm)、i線(365nm)、KrFエキシ
マレーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ(19
3nm)、F2レーザ(157nm)のみならず、X線
や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例え
ば、電子線を用いる場合には、電子銃として、熱電子放
射型のランタンヘキサボライト(LaB6)、タンタル(T
a)を用いることができる。 (6)投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および
拡大系のいずれでもいい。
【0042】(7)投影光学系としては、エキシマレー
ザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石
などの遠紫外線を透過する材料を用い、F2レーザやX
線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし
(レチクルも反射型タイプのものを用いる)、また、電
子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏
向器からなる電子光学系を用いればいい。なお、電子線
が通過する光路は真空状態にすることはいうまでもな
い。
【0043】(8)ウエハステージやレチクルステージ
にリニアモータ(USP5,623,853またはUSP5,528,118参
照)を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上
型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁
気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージは、
ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイドを設
けないガイドレスタイプでもいい。
【0044】(9)ウエハステージの移動により発生す
る反力は、(USP5,528,118に記載されているように、)
フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしても
いい。 (10)レチクルステージの移動により発生する反力
は、(US S/N 416558に記載されているように、)フレ
ーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもい
い。
【0045】(11)複数のレンズから構成される照明
光学系、投影光学系を露光装置本体に組み込み光学調整
をするとともに、多数の機械部品からなるレチクルステ
ージやウエハステージを露光装置本体に取り付けて配線
や配管を接続し、更に総合調整(電気調整、動作確認
等)をすることにより本実施形態の露光装置を製造する
ことができる。なお、露光装置の製造は温度およびクリ
ーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ま
しい。
【0046】(12)半導体デバイスは、デバイスの機
能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づ
いたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウ
エハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置
によりレチクルのパターンをウエハに露光するステッ
プ、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボン
ディング工程、パッケージ工程を含む)、検査ステップ
等を経て製造される。
【0047】(13)本発明は、レチクルやマスクに限
らず、ウエハ等の感光基板上の例えばスクライブライン
上にバーコードを設けることによっても達成できる。つ
まり、ウエハ上に、そのウエハの個別情報を表すコード
を付加してもよい。このとき、ウエハの情報を読み取る
専用の読み取り装置が必要となる。
【0048】
【発明の効果】本発明によれば、以下の効果を奏する。 (1)請求項1記載の露光用基板によれば、基板に関す
る情報を表すマークの少なくとも一つにマーク読み取り
動作に関する情報が含まれているので、他のマークの情
報を一つのマークから得ることができ、任意の数のマー
クを自動で読み取ることができる。これによって、操作
員による設定の負荷を削減し、誤操作による損害の発生
を防止できる。また、基板毎に最少のセグメント数で配
置できるので、マーク読み取りに要する処理時間を著し
く低減させることができる。さらに、最小限のセグメン
ト数でマークを配置できるので、基板上のスペースを有
効に活用することができる。
【0049】(2)請求項2記載の露光用基板によれ
ば、前記基板が、露光用のパターンが形成された原板で
あるので、レチクルやマスク等の原板においても、任意
の数のマークを自動で読み取ることができる。
【0050】(3)請求項3記載の露光用基板および請
求項7記載の露光用基板の情報読み取り方法によれば、
マーク読み取り動作に関する情報に、次に読み取るべき
マークの有無に関する情報を含むので、次に読み取るべ
きマークが無い場合に、不要な読み取り動作を自動的に
削減でき、処理時間を短縮することができる。
【0051】(4)請求項5記載の露光用基板および請
求項8記載の露光用基板の情報読み取り方法によれば、
マーク読み取り動作に関する情報に、読み取るべきマー
クの数、位置および読み取り順序、読み取るべき情報の
終了のうち少なくとも一つが含まれているので、読み取
りに必要なマークについて自動的に情報が読み取られ、
自動的かつ効率的に各マークの読み取り動作を確実に行
うことができる。
【0052】(5)請求項4記載の露光用基板および請
求項9記載の露光用基板の情報読み取り方法によれば、
マークがバーコードで形成され、マーク読み取り動作に
関する情報が、バーコードで表された符号のうち基板に
関する情報を表す符号とは異なる符号で表示されている
ので、マーク読み取り時に特定の符号の有無を認識する
ことにより、読み取り動作の情報か否かを容易に判別す
ることができる。
【0053】(6)請求項6記載の露光用基板の情報読
み取り方法、請求項10記載の読み取り装置、請求項1
1記載の露光装置および請求項12記載の半導体デバイ
ス製造方法によれば、読み取り動作に関する情報を読み
取り、この情報に基づいて次のマークの読み取りを行う
か否かを判断するので、読み取らなければならない他の
マークがあれば自動的に次の読み取りを行って、マーク
の数が任意であっても不必要なマークの読み取りを避け
て効率的に必要なマークを読み取ることができ、露光工
程等における基板搬送および認識にかかる処理時間を短
縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る露光用基板の読み取り装置を組
み込んだ露光装置の一実施形態を示す概略構成図であ
る。
【図2】 本発明に係る露光用基板の一実施形態を示す
概略平面図である。
【図3】 本発明に係る露光用基板の読み取り装置を組
み込んだ露光装置の一実施形態において、レチクルとバ
ーコードリーダとの位置関係を示す概略斜視図である。
【図4】 本発明に係る露光用基板の一実施形態におい
て、バーコードの他の例を示す平面図である。
【図5】 本発明に係る露光用基板の一実施形態におい
て、3つのセグメントからなるバーコードの例を示す平
面図である。
【符号の説明】
8 露光装置本体 9 バーコードリーダ 13 処理部 BC1,BC2,BC3 バーコード(マーク) M 読み取り装置 R レチクル(露光用基板、原板) W 半導体ウエハ

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 露光用の基板であって、 該基板には、該基板に関する情報を表すマークが少なく
    とも一つ設けられ、 該マークの少なくとも一つには、マーク読み取り動作に
    関する情報が含まれていることを特徴とする露光用基
    板。
  2. 【請求項2】 前記基板は、露光用のパターンが形成さ
    れた原板であることを特徴とする請求項1記載の露光用
    基板。
  3. 【請求項3】 前記マーク読み取り動作に関する情報に
    は、 次に読み取るべきマークの有無に関する情報を含むこと
    を特徴とする請求項1記載の露光用基板。
  4. 【請求項4】 前記マーク読み取り動作に関する情報に
    は、 読み取るべき前記マークの数、位置および読み取り順
    序、読み取るべき情報の終了のうち少なくとも一つが含
    まれていることを特徴とする請求項1または2記載の露
    光用基板。
  5. 【請求項5】 前記マークは、バーコードで形成され、 前記マーク読み取り動作に関する情報は、前記バーコー
    ドで表された符号のうち前記基板に関する情報を表す符
    号とは異なる符号で表示されていることを特徴とする請
    求項1から3のいずれかに記載の露光用基板。
  6. 【請求項6】 露光用の基板に設けられた少なくとも一
    つのマークを読み取ることにより、前記基板に関する情
    報を読み取る方法であって、 前記マークの少なくとも一つに、マーク読み取り動作に
    関する情報を含めておき、前記読み取り動作に関する情
    報を読み取り、この情報に基づいて次のマークの読み取
    りを行うか否かを判断することを特徴とする露光用基板
    の情報読み取り方法。
  7. 【請求項7】 前記マーク読み取り動作に関する情報に
    は、 次に読み取るべきマークの有無に関する情報を含むこと
    を特徴とする請求項6記載の露光用基板の情報読み取り
    方法。
  8. 【請求項8】 前記マーク読み取り動作に関する情報に
    は、 読み取るべき前記マークの数、位置および読み取り順
    序、読み取るべき情報の終了のうち少なくとも一つが含
    まれていることを特徴とする請求項6または7記載の露
    光用基板の情報読み取り方法。
  9. 【請求項9】 前記マークは、バーコードで形成され、 前記読み取りは、前記バーコードをバーコードリーダー
    で読み取り、 前記マーク読み取り動作に関する情報は、前記バーコー
    ドで表された符号のうち基板に関する情報を表す符号と
    は異なる符号で表示されていることを特徴とする請求項
    6から8のいずれかに記載の露光用基板の情報読み取り
    方法。
  10. 【請求項10】 請求項6から9のいずれか一つに記載
    の露光用基板の情報読み取り方法によって前記露光用基
    板の情報を読み取ることを特徴とする読み取り装置。
  11. 【請求項11】 請求項10に記載の読み取り装置を備
    えたことを特徴とする露光装置。
  12. 【請求項12】 マスクのパターンをウエハ上に転写す
    る工程を有する半導体デバイス製造方法において、 請求項11に記載の露光装置を用いて前記パターンを転
    写することを特徴とする半導体デバイス製造方法。
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