JP7030416B2 - 基板保持装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法 - Google Patents
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Description
(基板保持装置の構成)
第1実施形態に係る基板保持装置500(以下、保持装置500という)について、図1~図3を用いて説明する。以下の説明において、鉛直方向の軸をZ軸、当該Z軸に垂直な平面内で互いに直交する2軸をX軸及びY軸としている。全ての図面に関し、同一の部材には同一の符号を付し、同一の部材に関しては2回目以降は重複する説明を省略する。
基板が保持面502bの上方まで搬入されるときに、ピン503の退避が不十分だとピン503と基板とが衝突し、基板が破損する恐れがある。そこで、決定部702は、基板が搬入されるときの基板の搬入出経路とピン503との距離が基板の反りに応じて変わるように駆動プロファイルを決定する。これにより、駆動部501は、ピン503の上端の高さが基板の湾曲量に基づいて変わるようにピン503を駆動することとなる。
次に、決定部702によって決定された駆動プロファイルに基づいてピン503を駆動した時のピン503の駆動について、図6~図8を用いて説明する。図6、図7、図8は順に、基板の湾曲量が第1量、第2量、第3量(第1量<第2量<第3量)の場合のピン503およびチャック502の駆動を示す図である。
保持装置500の変形例について以下説明する。
第1実施形態では、基板300が搬入されるときのピン503の下降量とその後のピン503の上昇量とが同じになるようにしていた。しかし、基板300の湾曲量が大きいと、基板300の中心部の高さが高い場合がある。そのため、ハンド400からピン503への受け渡しに時間を要することがある。
第3実施形態に係る保持装置500は、基板300の搬出時の制御に関する。基板300の搬出は、第1実施形態で説明した基板300の搬入~保持までの動作が逆の順で行われる。ハンド400が搬入出経路400aに沿って保持面502bの上方からの基板300を搬出するときに、ピン503の上端が高い位置にあると基板300の外周部とピン503とが衝突する恐れがある。
第4実施形態に係る保持装置500は、チャック502と基板300との回転方向の相対位置を変えるために基板300の持ち替え動作を行う。持ち替え動作とは、チャック502で基板300を保持した状態から保持面502bからピン503を突出させ、ピン503で支持した状態のまま基板300を保持面502bに沿ってθ回転させてからチャック502に再保持させる動作である。
保持装置500の変形例について以下説明する。保持装置500は、保持面502bからピン503を突出させることができれば、駆動部501、507のうち片方しか有していなくてもよい。
第5実施形態として、基板300に対してパターンを形成するリソグラフィ装置の一実施形態に係る露光装置600について説明する。露光装置600には、保持装置500を有する。
インプリント装置を用いて形成した硬化物のパターン又はその他のリソグラフィ装置を用いて形成された潜像パターンを現像した後に残る硬化物のパターンは、各種物品の少なくとも一部に恒久的に、あるいは各種物品を製造する際に一時的に用いられる。
400 搬送部
500 保持装置(基板保持装置)
501 駆動部(駆動手段、回転手段)
507 駆動部(駆動手段)
502 チャック(保持部材)
502b 保持面
503 ピン(支持部材)
Claims (7)
- 保持面で基板を保持する保持部材と、
前記保持面から突出することにより前記保持面の上方で前記基板を支持可能な支持部材と、を有し、
前記保持面から前記支持部材が突出した状態で、前記保持面の上方で前記支持部材の上端への前記基板の搬入がされる基板保持装置において、
前記支持部材を鉛直方向に沿って駆動する駆動手段と、を有し、
前記駆動手段は、第1の基板の第1の湾曲量よりも大きな第2の湾曲量の第2の基板が前記上端へ搬入される場合、前記第2の基板が前記保持面の上方へ搬入されるために前記第2の基板が水平方向に沿って移動している間における前記上端の高さが前記第1の基板が前記保持面の上方へ搬入されるために前記第1の基板が水平方向に沿って移動している間における前記上端の高さよりも低くなるように前記支持部材を駆動し、前記第2の基板が前記上端へ搬入されるために前記第2の基板が鉛直方向に沿って移動している間における前記上端の高さが前記第1の基板が前記上端へ搬入されるために前記第1の基板が鉛直方向に沿って移動している間における前記上端の高さと等しくなるように前記支持部材を駆動する、
ことを特徴とする基板保持装置。 - 保持面で基板を保持する保持部材と、
前記保持面から突出することにより前記保持面の上方で前記基板を支持可能な支持部材と、を有し、
前記保持面から前記支持部材が突出した状態で、前記保持面の上方で前記支持部材の上端から前記基板の搬出がされる基板保持装置において、
前記支持部材を鉛直方向に沿って駆動する駆動手段と、を有し、
前記駆動手段は、第1の基板の第1の湾曲量より大きな第2の湾曲量の第2の基板が前記上端から搬出される場合、前記第2の基板が前記上端から搬出されるために前記第2の基板が鉛直方向に沿って移動している間における前記上端の高さが前記第1の基板が前記上端から搬出されるために前記第1の基板が鉛直方向に沿って移動している間における前記上端の高さと等しくなるように前記支持部材を駆動し、前記第2の基板が前記保持面の上方から搬出されるために前記第2の基板が水平方向に沿って移動している間における前記上端の高さが前記第1の基板が前記保持面の上方から搬出されるために前記第1の基板が水平方向に沿って移動している間における前記上端の高さよりも低くなるように前記支持部材を駆動する、
ことを特徴とする基板保持装置。 - 前記駆動手段は、前記第2の基板が前記保持面の上方にある状態で前記支持部材を前記第2の基板に近づける方向に駆動し、該近づける方向に駆動する間における前記支持部材が前記第2の基板と接触するときの前記支持部材の加速度の絶対値が所定値以下となるように前記支持部材を駆動することを特徴とする請求項1に記載の基板保持装置。
- 前記駆動手段は第1の駆動手段であり、前記保持部材を鉛直方向に沿って駆動する第2の駆動手段を有し、
前記第2の駆動手段は、前記基板の搬入又は搬出に伴い、前記保持部材を前記基板の搬入出経路から遠ざかる方向に駆動することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板保持装置。 - 前記基板の湾曲量を検出する検出手段を有し、
該検出手段は、
支持部で支持された前記基板の面外方向に移動する移動部材と、
前記移動部材と前記基板との接触を検知する検知手段と、を有し、
前記面外方向における、前記検知手段が前記基板を検知したときの前記移動部材の位置に基づいて、前記基板の湾曲状態を検出することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の基板保持装置。 - 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の基板保持装置と、
前記基板保持装置が保持した基板に対してパターンを形成する形成手段と、を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項6に記載のリソグラフィ装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンの形成された基板を処理する処理工程と、を有し、
前記処理した基板を含む物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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