JP6838880B2 - 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
(露光装置の構成)
以下、本発明の保持装置を露光装置に適用した実施形態を説明するが、後述するように、本発明の保持装置はその他の装置にも適用可能である。
個の情報処理装置の集合体であってもよいし、1つの情報処理装置であってもよい。
次に、保持装置7の構成について説明する。保持装置7は例えば2m四方以上の大型基板を保持可能である。特に、厚みが0.5mm以下の薄型基板を保持することに適した装置である。
圧力調整部15の切り替えも含め、保持装置7による基板17の保持方法について説明する。図4のフローチャートに示すプログラムに従って制御部6が保持装置7の各構成要素を制御することにより、以下に示す制御が行われる。保持装置7は、チャック21で保持する前に基板17の歪みを低減させる動作を行う。
第2実施形態に係る保持装置7について図10を用いて説明する。保持装置7は、昇降部材23が第1実施形態の構成に加え、さらにカバー部材30を有する。なお、図10において、図2と同一の部材には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
支持部23bが吸着機能を有していてもよい。また、昇降部材23は鉛直方向に沿って移動する機構であったが、基板17を保持する装置が基板17を水平方向に沿って吸着する保持装置の場合は吸着部23aに対して支持部23bが移動する方向は水平方向であってもよい。
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、リソグラフィ装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、パターンの形成露光された基板に対して加工処理を施す工程とを含む。
15 圧力調整部(供給手段)
17 基板
23 昇降部材(支持部材)
23a 吸着部(第1支持部)
23b 支持部(第2支持部)
Claims (9)
- 基板を保持する基板保持装置であって、
前記基板を保持する保持部と、
前記基板の前記保持部側の面の一部の領域を吸着支持する第1支持部と、該第1支持部によって吸着支持される領域とは異なる前記保持部側の面の一部の領域を支持する第2支持部とを含む支持部材と、
前記基板が前記保持部と接触した後、前記第1支持部に前記基板を吸着させたまま前記第2支持部を前記基板から遠ざける駆動手段と、
前記駆動手段により前記第2支持部が前記保持部側の面から遠ざけられた状態で前記保持部側の面に気体を供給する供給手段と、を有することを特徴とする基板保持装置。 - 前記第2支持部と前記保持部側の面との接触面積が、前記第1支持部と前記保持部側の面との接触面積よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の基板保持装置。
- 前記駆動手段が前記第2支持部の位置制御を停止することにより、前記第2支持部は自重により前記保持部側の面から遠ざかることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板保持装置。
- 前記支持部材は、前記駆動手段から生じるパーティクルの飛散を防止するカバーを有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板保持装置。
- 前記第1支持部の前記保持部側の面との接触部は、前記基板の形状にならって変形することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の基板保持装置。
- 前記第1支持部は、前記第1支持部と前記第2支持部との相対移動を規制する規制部を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の基板保持装置。
- 前記供給手段により気体を供給した後、前記保持部と前記基板の間を排気して前記基板を前記保持部で保持することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の基板保持装置。
- 原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
請求項1乃至7のいずれかに記載の基板保持装置と、
前記保持部に保持された基板上に前記パターンを形成するパターン形成手段と、を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項8に記載のリソグラフィ装置を用いて、基板上に前記パターンを形成する工程と、
パターンの形成された基板を加工する工程と、を有することを特徴とする物品の製造方法。
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