JP4425943B2 - ワークチャック - Google Patents

Description

本発明は、例えば液晶カラーディスプレイやプラズマカラーディスプレイに使用されるカラーフィルター等の製造装置とその方法に係り、具体的にはガラス等からなる基板であるワーク上にマスクのマスクパターンを露光転写する際、好適に使用出来る露光装置のワークチャックに関する。

近接露光等は、表面に感光剤を塗布した透光性のワーク（基板）を近接露光装置のワークステージ上に載置されたワークチャック上に保持すると共に、該ワークをマスクステージに保持されたマスクに接近させて両者のすき間を数１０μｍ〜数１００μｍにし、次いで、マスクのワークから離間する側から照射装置によってワーク上に露光用の光を照射することにより該ワーク上に該マスクに描かれたマスクパターンを露光転写するようにしたものである。

ところで、最近では大型の液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の量産化への対応が要請されており、この場合、色むら等がない被露光パターンの高精度化及び高能率化が必要となる。
高能率化の一例としては、例えば、図３に示すように、一枚のワークで複数のディスプレイを作る、いわゆる多面取りという方法がある。この例では、１０００ｍｍ×１２００ｍｍのワークで１８インチディスプレイ用材ＤＰを９面分作れるようにしている。

このような場合、ワークより小さいマスクを用い、該マスクをワークに近接して対向配置した状態で該ワークをマスクに対してステップ移動させて各ステップ毎にワークに向けてパターン露光用の光を照射し、これにより、マスクＭに描かれた複数のマスクパターンをワーク上に露光転写して一枚のワークに複数のディスプレイ用材ＤＰを作成する、分割逐次近接露光方式が提案されている（例えば特開２００２−３６５８１０号公報参照）。

またウエハ、シャドウマスク等の被露光部材を露光装置に吸引保持する保持装置として、被露光部材を載置する載置テーブルの上面に、外部から導かれた吸引路に連通して、チャック面に被露光部材の有無により吸着・非吸着状態を自動的に切換える構造を有する複数のチャック本体を配置し、被露光部材の有無、大きさに応じ吸引経路を自動的に開閉できるものが知られている（例えば実開平６−７４２４４号公報）。
特開２００２−３６５８１０号公報（図１〜図６、第６頁右欄１４〜２０行） 実開平６−７４２４４号公報（図１〜図３、図４、図６）

しかしながら、近年一枚のワーク（基板）で出来るだけ多くのカラーフィルタを製造し、スループットを高めるため基板のサイズが益々大型化すること（例えば１１００×１３００）や、基板の軽量化のための薄肉化要求などにより、特許文献1に開示されるような分割逐次近接露光装置等による製造工程において、使用されるワークに最初から変形が生じていたり、或いはワークの搬送、載置、吸着などの取り扱い時、ワークの支持方法や吸着のムラなどに起因して、ワークに変形が生じたり、ワークの内部に歪やこれらのムラなどが生じる。このため露光により製造されたカラーフィルタ等のパターン精度が悪くなり、色むらなどが発生するなどの課題があった。しかしながら前記特許文献１に開示の分割逐次近接露光装置においても、このような課題を解決するための具体的なワークチャックの開示はされていない。又図１４に示す特許文献２に開示の露光装置に使用される吸引保持装置は、被露光物の大小、有無に応じ吸着・非吸着状態を自動的に切換える構造を有する複数のチャックを載置テーブル上に配しているので、被露光部材の有無、大きさに応じて吸着領域を自動的に選択ですることは出来るものの、被露光物であるワークが大型化して且つ重くなった場合、この吸引保持装置ではチャックの小型化に限界があること、またチャックに吸引源を導く吸引路を載置テーブル内に設ける必要から、載置テーブルの剛性保持のためその配置や本数等に制限が生じ、ワークを均一に吸着固定することが困難となってくる。またワーク載置面を清浄な正圧空気でクリーニングして後、吸着固定する場合やワークの変形矯正等で吸着領域の正圧、負圧状態を切換えて用いる際は、この従来技術では対応が出来ない。

本発明はこのような技術課題に着目して成されたもので、カラーフィルタの多面取り露光等ワークが大型化した状態においも、カラーフィルタの露光パターンにおける色むら等を防止して、高精度、高スループットの露光を達成するためのワークチャックを提供することを目的とする。

上記目的を達成するため本発明の請求項１に係るワークチャックの発明は、ワークに対しパターン露光用の照射手段の光を受けてワークの露光面に露光すべきパターンを有するマスクと、前記マスクに対向配置され被露光材としてのワークを保持して、前記マスクと相対的に対向する位置を変えて、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光するようにしたワークチャックにおいて、
前記ワークを載置するワーク載置面に、縦横方向の寸法比が異なるワークを縦方向及び横方向に載置可能とする複数の吸着領域を配置し、該吸着領域の内側には前記ワークを支持するランドと、該ランドを除く部分に形成した凹部とを設け、
前記ワークが載置されている複数の前記吸着領域の中で、吸着領域を選択して吸着及び非吸着状態に選択的に制御、且つ当該吸着領域の吸着状態を露光時と非露光時とで選択に変化させる正負圧制御装置を備えたことを特徴とする。

同じく本発明の請求項２に係るワークチャックの発明は、前記複数の吸着領域は、前記ランドと同じ高さの領域壁で囲まれ、該領域壁のうち、隣接して設けられている吸着領域の境界にある領域壁は、載置面での平面形状で波型状に形成してなることを特徴とする。
同じく本発明の請求項３に係るワークチャックの発明は、ワークに対しパターン露光用の照射手段の光を受けてワークの露光面に露光すべきパターンを有するマスクと、前記マスクに対向配置され被露光材としてのワークを保持して、前記マスクと相対的に対向する位置を変えて、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光するようにしたワークチャックにおいて、
前記ワークを載置するワーク載置面に、縦横方向の寸法比が異なるワークを縦方向及び横方向に載置可能とする複数の吸着領域を配置し、該吸着領域の内側には前記ワークを支持するランドと該ランドを除く部分に形成した凹部とを設け、
前記ワークが載置されている複数の前記吸着領域の中で、吸着領域を選択して吸着及び非吸着状態に選択的に制御する正負圧制御装置を備え、
前記複数の吸着領域は、前記ランドと同じ高さの領域壁で囲まれ、該領域壁のうち、隣接して設けられている吸着領域の境界にある領域壁は、載置面での平面形状で波型状に形成してなることを特徴とする。

同じく本発明の請求項４に係るワークチャックの発明は、前記吸着領域は、ワークチャックのワーク載置面内で直交する中心軸の少なくとも１つの軸に対し、軸対称位置に設けられたことを特徴とする。
同じく本発明の請求項５に係るワークチャックの発明は、前記吸着領域は、前記ワーク載置面内で、直交する中心軸の少なくとも１つの軸に対し、軸対称位置に離間して設けられ、前記ワーク載置面に対し垂直方向に同一の高さで進退するリフトピンを有することを特徴とする。

同じく本発明の請求項６に係るワークチャックの発明は、前記正負圧制御装置は、前記複数の吸着領域を正圧、負圧及び大気圧状態の何れかに選択的に制御することを特徴とする。
同じく本発明の請求項７に係るワークチャックの発明は、互いに分割された前記ワーク載置面に垂直な方向で、前記載置面を構成する上部分割チャックと、該上部分割チャックを支持する基部チャックとを有し、前記上部分割ワークチャックと前記基部チャックとは着脱可能な締結手段で一体化されてなることを特徴とする。

同じく本発明の請求項８に係るワークチャックの発明は、前記上部分割チャックは前記ワーク載置面内で複数に分割されていることを特徴とする。
同じく本発明の請求項９に係るワークチャックの発明は、前記ランドを、前記ワーク載置面での平面形状が、正方形、長方形、円形、楕円形、波型の１種又はこれらの２種以上の組み合わせからなることを特徴とする。

同じく本発明の請求項１０に係るワークチャックの発明は、前記ランドのワーク載置面を、正圧、負圧及び大気圧状態の何れかに選択制御された凹部を有することを特徴とする。
同じく本発明の請求項１１に係るワークチャックの発明は、前記ワーク載置面の周縁辺に沿って、前記領域壁の高さより低い逃げ凹部を有することを特徴とする。

同じく本発明の請求項１２に係るワークチャックの制御方法は、 ワークに対しパターン露光用の照射手段の光を受けてワークの露光面に露光すべきパターンを有するマスクと、前記マスクに対向配置され被露光材としてのワークを保持して、前記マスクと相対的に対向する位置を変え、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光するようにしたワークチャックの制御方法において、前記ワークチャックのワーク載置面に、複数の吸着領域を設け、該吸着領域の内側には前記ワークを支持するランドと、前記吸着領域における前記領域壁と前記ランドを除く部分には凹部を設け、前記吸着領域を吸着及び非吸着状態に選択的に制御したことを特徴にする。

同じく請求項１３に係るワークチャックの制御方法は、前記複数の吸着領域の吸着状態を、前記露光を行うときのみ、全て吸着状態とすることを特徴とする。

上記の説明から明らかなように、本発明によれば、ワークチャックのワーク載置面で、縦横方向の寸法比が異なるワークを縦方向及び横方向に載置可能とする複数の独立した吸着領域を設け、この各々の吸着領域における正圧、負圧又は大気圧状態を独立に制御できるようにしたので、大型のワークＷでも変形や歪の少ない状態でワークＷを吸着載置でき、ワークＷに露光されるカラーフィルターなどのパターンの色むら等を防止できると共に、ワークＷの載置に汎用性を持たせることができる。

以下、本発明の実施の形態を図を参照して説明する。
図１は本発明のワークチャックが使用される好例としての分割逐次近接露光装置の一部を分解した説明的斜視図、図２は図１のマスクステージ部分の拡大斜視図、図３は１８インチカラーディスプレイ用材ＤＰを９面取りしたワークＷ（１０００ｍｍ×１２００ｍｍ）の平面図、図４は図３のステップ露光の場合に用いるマスク例の平面図、図５の図５（ａ）は本発明の第１の実施形態におけるワークチャックのワーク載置面を示す平面図，図５（ｂ）は図５（ａ）のＸ−Ｘ断面におけるワークチャックのワーク載置面近傍の断面図、図６の図６（ａ）は図５（ａ）にあるＡ部付近を代表例として示す、ワーク載置面の吸着領域にある領域壁とランドの形状の一例を示す平面図、同じく図６（ｂ）は図５（ａ）にあるＡ部付近を代表例として示す、ワーク載置面の吸着領域にある領域壁とランドの形状を示す他の例を示す平面図、同じく図６（ｃ）は図５（ａ）にあるＡ部付近を代表例として示す、ワーク載置面の吸着領域にある領域壁とランドの形状を示す他の例を示す平面図、図７の図７（ａ）は図５（ａ）のＡ部付近を代表例として示す、ワークチャックのワーク載置面のワークチャック周縁辺に沿う直線状の領域壁とこの領域壁に交わる波型領域壁とに囲まれた吸着領域と、その内側にある波型ランドを示す平面図、図７（ｂ）は図７（ａ）におけるランドが図６（ａ）〜図６（ｃ）で示されるランドを配した時の配置を示す平面模式図、同じく図７（ｃ）は図６（ａ）〜図６（ｃ）、図７（ａ）〜図７（ｂ）及び図７（ｄ）と同様に用いられるランドの上端面を選択的に正圧・負圧及び大気圧状態とするための、ランド凹部を有する正負圧型ランドを示す断面図、図７（ｄ）は図５（ａ）のＡ部付近を代表例として示す、ワークチャックのワーク載置面の吸着領域内にあるランド（図６（ａ）〜図６（ｃ））とランドの上端面を選択的に正圧・負圧及び大気圧状態とするための凹部を有する正負圧型ランドを組み合わせ配置した平面模式図、図７（ｅ）は図７（ｂ）に適用した例として、ワークチャックの周縁辺に沿って設けたレジスト逃げを示すＢ矢視方向の正面図、図８はワークチャックの吸着領域を選択的に正圧、負圧及び大気圧状態に制御する正負圧制御装置の１例を示すブロック図。図９は本発明のワークチャックの第２の実施の形態で、ワークチャックのＺ方向粗動に係るＺ方向粗動装置の正面図。図１０の図１０（ａ）は、本発明の第３の実施形態におけるワークチャックのワーク載置面を示す平面図、図１０（ｂ）〜図１０（ｄ）はワークのサイズに応じて図１０（ａ）のワーク載置面の吸着領域どのように使用するかの例を示した模式図。図１１は本発明の第４の実施形態におけるワークチャックのワーク載置面を示す平面図。図１２の図１２（ａ）は本発明の第５の実施の形態における分割型のワークチャックの正面図、図１２（ｂ）は図１２（ａ）において、ワーク載置面で上部分割チャックを４等分割した例を示す平面図。図１３は本発明ワークチャックのワーク載置面にある載置面パターンを形成する方法の一例として本発明の第６の実施形態を示すホトエッチング法の工程順序を示したフローチャート図。そして図１４は従来のワークチャックである吸引保持装置の平面図である。

まず、本発明の実施形態におけるワークチャックがワークステージ上に載置され好適に使用される、特開２００２−３６５８１０号公報等によって知られている分割逐次近接露光装置に付いて、その構成と作動について簡単に説明する。図１〜図４において符号１はマスクＭを保持するマスクステージ、２はワークＷ（以下被露光材である基板を単にワークＷと言う）を保持するワークステージ、３はパターン露光用の照射手段としての照明光学系、４はマスクステージ１及びワークステージ２を支持する装置ベースであり、ワークＷは、マスクＭに対向配置されて該マスクＭに描かれたマスクパターンＰを露光転写すべく表面（マスクＭの対向面）に感光剤（レジスト）が塗布されている。

説明の便宜上、照明光学系３から説明すると、照明光学系３は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ３１と、該高圧水銀ランプ３１から照射された光を集光する凹面鏡３２と、凹面鏡３２の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ３３ａ，３３ｂと、平面ミラー３５，３６及びこれらを経由して入射する光束を平行な光束として露光面に導く曲面ミラー３７と、平面ミラー３６とオプチカルインテグレータ３３ａ，３３ｂとの間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター３４とを備えている。

露光時に露光制御用シャッター３４を開制御されると、高圧水銀ランプ３１から照射された光が、図１に示す光路Ｌを経て、マスクステージ１に保持されるマスクＭひいてはワークステージ２に配設又は載置固定されたワークチャック８に保持されるワークＷ（図１では共に図示せず。）の表面に対して垂直にパターン露光用の平行光として照射され、これにより、マスクＭのマスクパターンＰがワークＷ上に露光転写されるようになっている。

次に、マスクステージ１及びワークステージ２の順に説明する。
マスクステージ１はマスクステージベース１１を備えており、該マスクステージベース１１は装置ベース４から突設されたマスクステージ支持台１２に支持されてワークステージの上方に配置されている。
マスクステージベース１１は、図２に示すように、長方形状とされて中央部に開口１１１を有しており、該開口１１１にはマスク保持枠１３がＸ，Ｙ方向に移動可能に装着されている。

次にワークチャック８を載置しているワークステージ２は、装置ベース４上に設置されており、マスクＭとワークＷとの対向面間のすき間を所定量に調整するＺ軸送り台（ギャップ調整手段）６と、該Ｚ軸送り台６上に配設されてワークステージ２をＹ軸方向に移動させるワークステージ送り機構７とを備えている。
Ｚ軸送り台６は、装置ベース４上に立設された上下粗動装置６１によってＺ軸方向に粗動可能に支持されたＺ軸粗動ステージ６２と、該Ｚ軸粗動ステージ６２の上に上下微動装置６３を介して支持されたＺ軸微動ステージ６４とを備えている。上下粗動装置６１には例えば空圧シリンダが用いられ、単純な上下動作を行うことによりＺ軸粗動ステージ６２を予め設定した位置までマスクＭと基板Ｗとのすき間の計測を行うことなく昇降させる。

一方、上下微動装置６３は、モータとボールねじとくさびとを組み合わせてなる可動くさび機構を備えており、この実施の形態では、例えばＺ軸粗動ステージ６２の上面に設置したモータ６３１によってボールねじのねじ軸６３２を回転駆動させるようにすると共にボールねじナット６３３をくさび状に形成してそのくさび状ナット６３３の斜面をＺ軸微動ステージ６４の下面に突設したくさび６４１の斜面と係合させ、これにより、可動くさび機構を構成している。

そして、ボールねじのねじ軸６３２を回転駆動させると、くさび状ナット６３３がＹ軸方向に水平微動し、この水平微動運動が両くさび６３３，６４１の斜面作用により高精度の上下微動運動に変換される。
この可動くさび機構からなる上下微動装置６３は、Ｚ軸微動ステージ６４のＹ軸方向の一端側（図１の手前側）に２台、他端側に１台合計３台設置され、それぞれが独立に駆動制御されるようになっており、これにより、上下微動装置６３は、マスクＭと基板Ｗとのすき間を計測しつつ目標値までＺ軸微動ステージ６４の高さを微調整する機能に加えて、水平面に対する傾斜の微調整を行うチルト機能をも有するものになっている。

ワークステージ送り機構７は、Ｚ軸微動ステージ６４の上面にＸ軸方向に互いに離間配置されてそれぞれＹ軸方向に沿って延設された二組のリニアガイド７１と、該リニアガイド７１のスライダ（図示せず。）に取り付けられたＹ軸送り台７２と、Ｙ軸送り台７２をＹ軸方向に移動させるＹ軸送り駆動装置７３とを備えており、Ｙ軸送り駆動装置７３のモータ７３１によって回転駆動されるボールねじ軸７３２に螺合されたボールねじナット（図示せず。）にＹ軸送り台７２が連結されている。

そして、このＹ軸送り台７２の上には、ワークステージ２が取り付けられ、また、該ワークステージ２のＹ軸送り誤差を検出する送り誤差検出手段７４としてのレーザ干渉計７４３，７４４のミラー７４１，７４２が設置されている。ミラー７４１はＹ軸送り台７２の幅方向の一側でＹ軸方向に沿って延びており、ミラー７４２はＹ軸送り台７２のＹ軸方向の一端側にＸ軸方向に互いに離間して二か所配置されている。

送り誤差検出手段７４は、ミラー７４１に対向配置されて装置ベース４に支持された真直度検出用のレーザ干渉計７４３と、２個のミラー７４２にそれぞれ対向配置されて装置ベース４支持された２台の傾斜及びＹ軸方向距離検出用のレーザ干渉計７４４とを備えている。各レーザ干渉計７４３，７４４よりＹ軸送り台７２ひいては第１の分割パターンの露光に続いて第２の分割パターンをつなぎ露光する際に基板Ｗを次のエリアに送る段階で発生するワークステージ２の送り誤差を検出してその検出信号を補正制御手段（図示せず。）に出力するようにしている。補正制御手段はこの検出信号に基づいてつなぎ露光のための位置決め補正量を算出して、その算出結果をマスク位置調整手段１４（及び必要に応じて上下微動装置６３）の駆動回路に出力し、これにより、該補正量に応じてマスク位置調整手段１４等が駆動されて位置ずれが補正される。

以上の様にワークチャック８を配設又は載置固定したワークステージ２は、マスクＭに対し上下粗動装置６１と上下微動装置６３とによってＺ方向に位置調整され、またＹ軸方向にはワークステージ送り機構７によって位置調整が成されるようになっている。そしてマスクＭはマスク保持枠１３によってＸＹ方向に位置調整が行われる。
そして図４に示すＸ方向に３つのマスクパターンＰを有するマスクＭをマスクステージ１に載置して、Ｙ方向に位置調整されるワークチャック８上に載置されたワークＷの被露光面上に、ＸＹ方向に位置調整されるマスクＭのマスクパターンＰを相対的に移動させながら、照明光学系３によって図３に示す９面の多面取り露光や、多層の露光を行うものである。

以上本発明の特徴であるワークチャック８が、ワークワークステージ２の上に装着され使用される分割逐次近接露光装置全体の作動について説明した。
次に本発明のワークチャック８に係る第１の実施の形態を図５〜図８によって説明する。図５（ａ）はワークチャック８のワーク載置面ＷＳを平面図で示している。符号８１ａ、８１ｂ、８１ｃ、８１ｄはワーク載置面ＷＳにおいて、Ｘ−Ｙ軸の軸対称位置に配設されている独立した４つの吸着領域を示している。また図５（ａ）の左右対称位置（Ｘ方向で）にあるフォーク溝８５は、ワークＷをワーク載置面ＷＳと一定の位置関係に保たれているプリアライメントテーブル（図示せず）から、フォークによってワーク載置面ＷＳ上にワークＷを載置する際に、フォークの進退、上下に必要なスペースとして設けられたものである。

まずワークチャック８のワーク載置面ＷＳに設けられた吸着領域８１ａ〜８１ｄは、その設けられている位置、大きさ等は異なるが、基本構造は全て同じなので、便宜的に中央の吸着領域８１ａを代表例としてその構成を説明する。
中央の吸着領域８１ａは四角状に連続した領域壁８１１で囲まれ、この領域壁８１１で囲まれた領域の内側には、平面側から見ると図６（ａ）で例示されるように、規則的に配置された複数の四角状のランド８１２（ランド８１２についての詳細は後述する）が設けられ、吸着領域８１ａの領域壁８１１とランド８１２を除く部分はワーク載置面ＷＳ内で連通する凹部８１３となっている。そして領域壁８１１とランド８１２は同じ高さ（紙面に垂直なＺ方向で）に仕上げられ、これらの上端面はワークＷを吸着支持する際のワーク載置面ＷＳとなる。また図５（ａ）のＸ−Ｘ断面図である図５（ｂ）によって示されるように、凹部８１３は領域壁８１１とランド８１２よりＺ方向において低く、そしてワーク載置面ＷＳ内で互いに連通する様に形成されている。この吸着領域８１ａの凹部８１３は、ワークＷを吸着する時には負圧（真空）に、またワークＷをローディングする等の際、ワーク被吸着面ＷＶに清浄な圧縮空気を吹き付けてワークＷに帯電している静電気を除去しつつ除塵したり、同様にアンローディングする時には領域壁８１１及びランド８１２の上端面からワークＷを離しやすくするため、凹部８１３に正圧の圧縮空気を導入するためのものである。又同様に大気圧状態にしてワークＷに正圧力や負圧力を及ぼさないようにするものである。このため図５（ｂ）に示すように、外部から正負圧配管８１４ａをワークチャック８の内部を通って吸着領域８１ａの下まで導き、この正負圧配管８１４ａと凹部８１３を連通する正負圧孔８１５がランド８１２と干渉しない様に凹部８１３の底部に開口されている。このように凹部８１３を負圧や正圧又は大気圧状態にするため、この凹部８１３の底部から領域壁８１１又はランド８１２のワーク載置面ＷＳ（上端面）までの距離（凹部深さ）は、ワークＷがワークチャック８のワーク載置面ＷＳに吸着固定されたとき、その弾性変形によって凹部８１３の底部に接触しない程度以上有ればよく、また後述するワークチャック８のワーク載置面ＷＳをホトエッチング法等で製作する場合は、小さいほうが製作コストを低減するため望ましいので、これらを考慮すれば０．５〜１．０ｍｍ程度が好ましい。

次に吸着領域８１ａを、凹部８１３を介して選択的且つ独立に正、負圧及び大気圧状態にするための正負圧制御装置８６について、図８のブロック図を用い説明する。
図８中、吸着領域８１ａの凹部８１３を負圧にする負圧配管路８６５は、負圧発生源である真空ポンプ８６１、手動で負圧配管路８６５の開閉をするストップバルブ８６２ｖ、負圧配管路８６５の圧力又は流量を調整するエアーレギュレータ８６３ｖを連結する配管回路で構成され、３位置、３ポートの電磁切換弁８６７ａの入力ポートＰ１に配管接続されている。

一方吸着領域８１ａの凹部８１３を正圧にする正圧配管路８６６は、圧縮空気源（図示せず）から正圧配管路８６６を手動で開閉するストップバルブ８６２ｐ、正圧配管路８６６の圧力を調整するエアーレギュレータ８６３ｐ、そして導かれた圧縮空気を清浄にろ過するフィルタ８６４を連結する配管回路で構成され、この正圧配管路８６６は３位置、３ポート電磁切換弁８６７ａのもう一方の入力ポートＰ２に配管接続されている。

そして電磁切換弁８６７ａの出力ポートＰ３は中央の吸着領域８１ａの凹部８１３に正、負圧源を導くための正負圧配管８１４ａに配管接続されている。電磁切換弁８６７ａの中央位置はスプリングＳ１、Ｓ２により（スプリングセンタ）中立位置となっており、この時は励起により負圧位置８６９にする電磁ソレノイド８６９Ｖも、同じく励起により正圧位置８７０にする電磁ソレノイド８７０Ｐも非励起状態となっており、この位置では負圧の入力ポートＰ１と正圧の入力ポートＰ２のどちらも出力ポートＰ３とはブロック状態となっている。この状態では吸着領域８１ａを大気圧状態（正、負圧状態のどちらでもない）にすることが出来る。そして正負圧配管８１４ａを負圧状態にするには、上述の電磁切換弁８６７ａの電磁ソレノイド８６９ｖの励起によって負圧位置８６９に切換えて行われ（この時電磁ソレノイド８７０ｐは非励起状態）、同様に正圧状態にするには、電磁ソレノイド８７０ｐの励起によって正圧位置８７０に切換えられて（この時電磁ソレノイド８６９ｖは非励起状態）行われる。このような、電磁ソレノイド８６９ｖ、８７０ｐの励起、非励起及び中立状態は、これらが接続されている制御装置８９６によって制御されるようになっている。

以上の様にして中央の吸着領域８１ａにおける正負圧状態の制御をすることが出来るのである。
図５（ａ）に示す他の吸着領域８１ｂ〜８１ｄに付いても吸着領域８１ａと同様に、各々の正負圧配管８１４ｂ〜８１４ｄに接続して設けた、電磁切換弁８６７ｂ〜８６７ｄを制御装置８９６の指令に基づいて、各々選択的且つ独立の正負圧又は大気圧状態となるよう制御が出来るので説明は省略する。

また図５（ａ）において吸着領域８１ｂ及び８１ｄには、それぞれ正負圧配管８１４ｂと８１４ｄが各２本導かれている例を示しているが、これらの本数に限定されるものではなく、要はこれら複数の正負圧配管８１４ｂと８１４ｄが幾本あっても、各々独立した配管系として１本に統合されそれぞれの結合先が、電磁切換弁８６７ｂと８６７ｄの出力ポートＰ３に接続され、制御装置８９６によって吸着領域８１ｂ及び８１ｄの正負圧及び大気圧状態を独立に制御すれば良いのである。

また同様にＸ軸の軸対称位置にＹ方向に離間して２か所設けられた吸着領域８１ｃについても、正負圧配管８１４Ｃ１とこれに，開口端が止めネジＳＢで閉鎖された８１４Ｃ２の２本が交わって結合された状態が図示されているが、この例も２つの正負圧配管を統合し１本の正負圧配管８１４C１とし、電磁切換弁８６７Cの出力ポートＰ３に接続しさえすれば、同様の制御を行うことが出来る。

以上の様に、複数ある吸着領域を独立の正負圧及び大気圧状態とするため、その正負圧配管の配管本数や配管方法を制限するものではない。
次に本発明の目的であるワークＷに変形、歪を与えない様、制御装置８９６により、吸着領域８１ａ〜８１ｄをどのように正圧、負圧及び大気圧状態にして使用するかの正負圧制御方法の１例について説明する。

前記したようにワークＷはプリアライメントステージから搬送ロボットのフォークによって運ばれ，（ワークチャック８の）ワーク載置面ＷＳの所定位置に載置される。この状態ではまだワークＷを固定する吸着力が働いていないので、僅かの外力や振動でワークＷの載置位置がずれてしまう恐れがある。これを防止するためワークＷの載置が終わると、まず中央の吸着領域８１ａを負圧状態にし、ワークＷをワーク載置面ＷＳに仮止めすることのために使用できる。

次に、この仮止め状態でワークステージ送り機構７によりワークステージ２を露光位置へ移動させる。その際、大型のワークステージ２の移動により、わずかであるがワークステージ２、ひいてはワークチャック８のワーク載置面ＷＳが変形をきたす。従ってワークＷがこの時点で全面吸着されていると、ワークチャック８に比べて剛性の低いワークＷもこれに倣って変形してしまう。しかし本実施形態では、中央の吸着領域８１ａのみが吸着された状態であるため、このようなワークＷの変形を防止することが出来る。

このとき、ワークＷが静電気を帯電していると、吸着させたくない周辺領域が、この静電気により吸着してしまったり、周囲の異物をワーク被吸着面ＷＶに吸着したり、或いは最初からワーク被吸着面ＷＶに異物が付着していると、この異物のためワークＷがワーク載置面ＷＳで吸着固定されたとき、変形や歪を受け露光されたパターンの色むらなどの原因となる場合がある。このような原因を取り除くためワーク被吸着面ＷＶの除電や除塵を行うエアーブローを行うことがより好ましいが、図５（ａ）のワークチャック８を例として次の様に行うことが出来る。

中央の吸着領域８１ａを負圧（吸着）状態のままにして、それ以外の吸着領域８１ｂ〜８１ｄを圧力、時間等を調整した正圧状態にして、ワーク被吸着面ＷＶに対しエアーブローを行う。このことにより、ワークＷの吸着領域領８１ｂ〜８１ｄに対向しているワーク被吸着面ＷＶが、この時点でワークＷに静電気により吸着してしまうことを防止できるとともに、ワーク被吸着面ＷＶがクリーニングされ、それによって除電、除塵をすることが出来る。なおこの時、中央の吸着領域８１ａのみの負圧状態でエヤーブローを行うと、ワークＷを変形させるなどの危険性がある場合は、吸着領域８１ａの他に吸着領域８１ｂも同様に負圧状態にし、他の吸着領域８１ｃ、８１ｄは上に述べた様に正圧状態にしてエヤーブローを行うことも出来る。

最後に先にクリーニングのため正圧状態、あるいは正圧も負圧にもなっていない大気圧状態であった吸着領域８１ｂ〜８１ｄを負圧状態にして、ワークＷの周辺を吸着状態にして全面を吸着させる。なおこの後一旦中央の吸着領域８１ａを正圧状態に切換えてエアーブローを行い、中央部の真空破壊を行い、その後再度中央の吸着領域８１ａを負圧に切換え、全面吸着させるようにしても良い。この様にワーク載置面ＷＳにある、選択的且つ独立に正負及び大気圧状態に出来る各吸着領域を上の様な順序で、その正負圧状態を制御すれば、ワークＷが移動等に際して所定の位置からずれることもない。また大型化したワークＷであっても、ワークチャック８が移動に際に僅かに変形したとしても、この時点でワークＷが吸着されているのは、比較的小面積の中央部のみで、周辺部はワークチャック８の変形の影響（例えば吸着力によって作用するせん断力の影響等）を回避できる。そしてワークＷを露光位置等に移動後、安定した状態でワークＷをワーク被吸着面ＷＶ全面に吸着すれば、ワークＷの変形、歪を抑制することが出来る。特に先に述べた様にエアーブローを併用することにより更にこれらの効果は向上させることが出来る。またエアーブローによりワーク被吸着面ＷＶの全面をクリーニングする様に使用することが出来る。

次にワークチャック８の露光位置等への移動時、ワークＷの変形等が問題にならない場合であってもワークＷが反ったり、波打っている場合も、上に述べたようにワークＷに露光されたパターンの色むら等の原因になる。このような場合の、ワークＷを変形矯正しながら、ワークＷをワーク載置面ＷＳに吸着固定させる方法について、クリーニング方法と同様、図５（ａ）の吸着領域８１ａ〜８１ｄを用いて説明する。ワークＷに変形があるとき、吸着領域８１ａ〜８１ｄを一度に負圧状態にし吸着固定したり、或いはワーク載置面ＷＳの周辺にある吸着領域８１ｃや８１ｄを、中央の吸着領域８１ａや８１ｂより先に負圧状態にすると、ワークＷの変形がかえってワーク載置面ＷＳに拘束された状態になり、せっかく平坦度が良好に仕上げられているワーク載置面ＷＳにワークＷの被吸着面ＷＶを習わせて，変形の少ない吸着固定することができ難くなる。このためまず中央の吸着領域８１ａのみを負圧状態にし、他の吸着領域８１ｂ〜８１ｄを非吸着状態とする。次いで吸着領域８１ｂを負圧状態にした後、ワーク載置面ＷＳ周囲にある吸着領域８１ｃ又は８１ｄのいずれかを、先に負圧状態にしてから、最後に残りの吸着領域を負圧するように負圧制御する。

このようにすれば、ワークＷの変形を、ワーク載置面の中心から、周縁辺８８に向け追い出すように矯正しながら、最後にワークＷをワークＷ載置面に習わせた均一な吸着ができるので、マスクＭのマスクパターンＰをワーク被露光面ＷＥに色むら等が生じることがなく、また精度の良いパターンを露光することが出来る。
以上説明した様に本発明のワークチャック８では、そのワーク載置面ＷＳに独立して正負圧及び大気圧状態に制御出来る複数の吸着領域を有しているので、小型のワークＷに比べ取り扱いの困難な大型化したワークＷにおいても、ワーク載置面ＷＳでワークＷの位置がずれないように仮止めることや、またワークＷのワーク被吸着面ＷＶの全面をクリーニングする様に使用することも、さらにワークＷの変形を矯正しながら、最後にワークＷ載置面に習わせた均一な吸着できる等の操作が単独または組み合わせて行うことが出来、ワークＷのワーク被吸着面ＷＶをワーク載置面ＷＳに吸着す際発生する変形や歪を防止して、ワークＷの被露光面に露光されるパターンの色むら等が生じることがなく、また精度の良いパターンを露光することが出来る様にしたものである。

以上説明した様に図５（ａ）では、ワークチャック８の載置面ＷＳに設けた４つの吸着領域を用い説明した。これらの複数の吸着領域を設け、ワークＷをワーク載置面ＷＳに均一に吸着する点から見れば、ワーク載置面ＷＳ上のＸ軸又はＹ軸の軸対称位置に設けることが望ましいが、これに限るものではなく、またワークＷのサイズによりその数も適宜選択することが出来る。

次に本発明における第１の実施形態のワークチャック８にある吸着領域を構成する、領域壁８１１、ランド８１２、凹部８１３の例を説明する。以後これら領域壁８１１、ランド８１２、凹部８１３で形成される吸着領域の平面形状を総称し吸着領域パターンＶＰと言う。また既に図６（ａ）のランドについては簡単に前で説明したがここで再度他の例と共に説明する。

図６の図６（ａ）〜図６（ｃ）及び図７の図７（ａ）〜図７（ｄ）に示す吸着領域パターンＶＰは，吸着領域８１ａ〜８１ｄのどのものにも適用できる領域壁８１１、ランド８１２及び凹部８１３の特徴を示したもので、図７（ｃ）の断面図を除けば全て平面図で示している。そして便宜的に図５（ａ）のＡ部付近を例として特徴的に示したものである。
図６（ａ）では領域壁８１１に囲まれた吸着領域の内側に四角形状のランド８１２が規則的に配列されその余の部分が凹部８１３とされている。そして図５（ａ）に示すように、凹部８１３は正負圧孔８１５が設けられている。このランド８１２の形状は、ワーク載置面の面積を均一に分配配置でき、且つ載置面積も大きく出来るので、ワークＷの吸着時の変形や歪を小さく出来、またミーリング加工等を用い凹部８１３を加工するだけで、領域壁８１１及びランド８１２を形成できるので、加工の汎用性の点でも有利である。

図６（ｂ）の円形状のランド８１２は同程度の大きさ、配置分布とした場合、図６（ａ）の四角形状のランド８１２に比べワークＷの支持面積は少なくなるが、ワークＷを吸着した際ランド８１２に丸味があるため、ワークＷへの応力集中を避けることが出来、内部歪緩和の効果がある。
また図６（ｃ）では長方形状の短辺端が円形の丸味を有するランド８１２の形状としている。このため図６（ａ）、図６（ｂ）に比べ、支持面積を大きく且つ図６（ｂ）と同様に応力集中緩和効果を持たせることが出来る。なおランド８１２の配置に均一性が求められる場合、或いは後述の様にマスクＭのマスクパターンＰとワーク載置面ＷＳの吸着領域パターンＶＰの形状、方向性が一致し支障がある場合、図６（ｃ）のようにランド８１２の長手方向がＹ方向と一方向に揃うのではなく、種々の方向の配列を組み合わせることも出来る。以上説明した図６（ａ）〜図６（ｃ）の吸着領域パターンＶＰでは領域壁８１１が連続した直線状で囲まれ、この領域壁８１１の内側で、ランド８１２を除く部分はワーク載置面ＷＳ内で互いに連通した凹部８１３として示している。

次に図７の図７（ａ）、図７（ｂ）の吸着領域パターンＶＰについて説明する。
一般にワークＷの被露光面ＷＥに露光されるマスクパターンＰは規則的で直線状ものが多い。そしてこのマスクパターンＰと先に説明したような吸着領域パターンＶＰが重畳した関係になると、ワークＷがワーク載置面ＷＳに吸着固定されたときに発生する吸着歪によって、ワーク被露光面ＷＥに露光されるマスクパターンＰの精度低下をまねいたり、色むら等を起こしてしまう。この点に着目しこの図７（ａ）、図７（ｂ）では、マスクＭによるマスクパターンＰとこの吸着歪を一致させないようなワーク載置面ＷＳの吸着領域パターンＶＰとすることにより、吸着歪による色むら等の原因を除去するものである。

そこで図７（ａ）、図７（ｂ）の両図において、ワーク載置面ＷＳにある吸着領域パターンＶＰは、マスクＭのマスクパターンＰの露光エリアと関係のない（外にある）ワークチャック８の周縁辺８８に最も近くにあって、この周縁辺８８に沿って延びる領域壁８１１のみは加工を容易にするため直線状領域壁８１１Ｓとするが、この領域壁８１１Ｓの内側にあって、露光エリアに関係する領域壁８１１では波型状領域壁８１１Ｗとしている。そして直線状領域壁８１１Ｓと波型状領域壁８１１Ｗとは互いに交わって連続した領域壁８１１を形成している。また露光エリアに関係する直線状領域壁８１１Ｓより内側に設けられた吸着領域での領域壁８１１は全て波型状の連続した領域壁８１１Ｗのみを用い吸着領域を形成している（このことは後述の図１１でも説明するが、この図７（ａ）、図７（ｂ）では吸着領域パターンＶＰの部分図であるため図示を省略）。

また図７（ａ）のランド８１２は波型状領域壁８１１Ｗと類似の波型状ランド８１２Ｗが複数本、直線状領域壁８１１Ｓ又は波型状領域壁８１１Ｗが延びる方向に設けられている。また先に説明した図５（ａ）の吸着領域８１ａ〜８１ｄの凹部８１３と同様に、凹部８１３が直線状領域壁８１１Ｓ又は波型状領域壁８１１Ｗと波型状ランド８１２Ｗを除く吸着領域に設けられている。また図５（ａ）に示したと同様に、直線状領域壁８１１Ｓ及波型状領域壁８１１Ｗと波型状ランド８１２Ｗの上端面は同一高さとされ、凹部８１３が正圧、負圧又は大気圧に制御されるようになっている。なお波型状ランド８１２Ｗは凹部８１３全体を正圧、負圧又は大気圧にする正負圧孔８１５を出来るだけ少数とするため、互いに交差しないようにして、ワーク載置面ＷＳ内で全体が連通するようにすることが好ましい。

図７（ｂ）の吸着領域パターンＶＰは、図７（ａ）でのランド８１２が波型状ランド８１２Ｗではなく先に説明した図６（ａ）〜図６（ｃ）等に示すように、波型以外のランド８１２を適用していること及び、隣り合う吸着領域同士の波型状領域壁８１１Ｗが接していないことのみが異なり、その余のことは図７（ａ）同様である。そして規則的に配したランド８１２の形状を省略してその位置を模式的に点（ドット）で示している。

以上図７（ａ）及び図７（ｂ）に示される特徴である波型の波型状領域壁８１１Ｗ及び波型状ランドについて説明したが、この形状の目的はワークＷに露光されるマスクパターンＰと吸着領域パターンＶＰが、露光有効エリアで異なっていれば良いのであって、連続した波型状に限るものではなく鋸状でもよく、又波型状ランド８１２Ｗ２については不連続の形状でも同様の効果を有するものである。

次に領域壁のうち、少なくとも隣り合う吸着領域同士の境界部にある領域壁８１１及び波型状領域壁８１１Ｗを不要にすることが出来る、他の例について図７（ｃ）の断面図を用い説明する。
この例において、ランド８１２はワークチャック８の載置面ＷＳとなる上端面に、ランド凹部８１２ａを設け、このランド凹部８１２ａによって図５（ａ）及び図５（ｂ）で説明した凹部８１３と同様の方法で、このランドの上端面を正圧、負圧又は大気圧状態にする機能を持たせた正負圧型ランド８１２Ｖとしたものである。このことにより、図５（ａ）に示した様に、正負圧型ランド８１２Ｖのみを正負圧或いは大気圧状態に出来るので、少なくとも隣り合う吸着領域同士の境界部にある領域壁８１１及び波型状領域壁８１１Ｗを設ける必要がなくなる（省略することが出来る）。従ってマスクパターンＰと吸着領域パターンＶＰとが重畳することがなくなる。また正負圧配管８１４ａ〜８１４ｄや、これと連通する正負圧孔８１５の配置や設置位置など、ワークＷをワーク載置面ＷＳに均一に吸着固定するため、その設計上の自由度を増すことが出来る。またワーク載置面ＷＳのクリーニングも可能となる。

なお、図７（ｃ）を用いる場合、各吸着領域を囲む領域壁はなくても良いので、同一の正負圧、或いは大気圧状態に制御される一群の正負圧型ランド８１２Ｖが分布するエリアを１つの吸着領域と定義し制御するものとする。図５（ａ）を用い一例を示せば、領域壁８１１を省略した状態での各吸着領域８１ａ〜８１ｄエリア内に正負圧型ランド８１２Ｖを所望の複数個配置した状態を各吸着領域８１ａ〜８１ｄとして、先述の図８の正負圧制御装置８６を用い同様に、これら吸着領域８１ａ〜８１ｄを選択的且つ独立に正圧、負圧、或いは大気圧状態に制御するものである。このようにすれば、ワークＷの支持を目的としている最外周縁に沿った領域壁８１１も省略することも出来る。

次に図７（ｄ）では、この図７（ｃ）に示した正負圧型ランド８１２Ｖと図６（ａ）〜図６（ｃ）等に示すランド凹部８１２ａを有さないランド８１２とを組み合わせ、例えば図５（ａ）に示す吸着領域８１ａ〜８１ｄに適用した例を模式的平面図で示したものである。この様にすることにより正負圧型ランド８１２ＶのみによりワークＷの吸着を行うことも出来るため、隣り合う吸着領域同士の境界部にある領域壁８１１及び波型状領域壁８１１Ｗを設ける必要がなくなる。又同様にワークＷの支持を目的としている最外周縁に沿った領域壁８１１も省略することも出来る。従ってマスクパターンＰと吸着領域パターンＶＰとが重畳することを防止できる。ワークＷのワーク載置面ＷＳでの吸着固定がより均一にでき、かつ上述の様にワーク載置面ＷＳのクリーニングも可能となり、色むら等の少ない露光パターンを形成することができる。

次に図５（ａ）のワークチャック８の周縁辺８８に設けたレジスト逃げＲｒに付いて、図７（ｂ）の吸着領域パターンＶＰに適用した例を用い、図７（ｅ）によって説明するが、このレジスト逃げＲｒは図６（ａ）〜図６（ｃ），図７（ａ）及び図７（ｄ）に示す吸着領域パターンＶＰについても同様に適用できる。
図７（ｂ）において、直線状領域壁８１１Ｓはワークチャック８の周縁辺８８に対し、Ｘ方向（図の左右方向）にｋ１、同じくＹ方向に（図の上下方向に）ｋ２だけワークチャック８の中心側に入った位置に設けられている。そして図７（ｅ）は平面図である図７（ｂ）を矢視Ｂ方向から見たレジスト逃げRrを正面部分図で示している。

そして図７（ｅ）は、ワーク載置面ＷＳ上に載置されその状態でワークＷの被露光面ＷＥにレジストＲｅが塗布されている。そして被露光面ＷＥから余分のレジストＲｅがレジスト逃げＲｒに溜められた状態を模式的に示している。このように領域壁８１１Ｓの、周縁辺８８に向けてＸ方向にｋ１（ｋ２に付いても同様に）、同じくＺ方向にｈの空間で示されるレジスト逃げＲｒを周縁辺８８に沿って設けることによって、ワーク載置面ＷＳにワークＷが吸着されたとき、ワークＷの露光面に塗布された余分のレジストＲｅがワークＷの裏面に回りこみ、領域壁８１１Ｓの上端面（ワーク載置面ＷＳ）とワークＷの裏面（ワーク被吸着面ＷＶ）との間に入り込み、余分のレジストＲｅ（の凹凸）により領域壁８１１Ｓの上端面とワークＷの裏面との密着が悪くなったり、吸着によるワークＷの変形の原因になったりすることを防止することが出来る。

また図５（ａ）で説明した吸着領域８１ａ〜８１ｄの領域壁８１１やランド８１２のエッジには微小面取りをして、ワークＷへの応力集中緩和を施しておくことが望ましい。
またランド８１２の支持間隔は出来るだけ小さくし、均一に配置させることがワークＷの吸着時にワークＷの、内部歪や変形を防止する上で好ましいが、正負圧孔８１５を設けるスペースや、ワークＷの必要な吸着力からも制限を受けるので、１個のランド８１２の支持面積は２０〜５０ｍｍ²で、中心間ピッチとして２０〜６０ｍｍの範囲に選択するのが好ましい。

次に本発明のワークチャック８に係る第２の実施形態を図９の正面図を用いて説明する。
正面図で示されている図９のＺ方向粗動装置５０は、ワークステージ２とワークチャック８、それにワークステージ２対しワークチャック８をＺ方向に進退させるＺ方向粗動機構５４０と、ワークＷがプリアライメントテーブルから搬送ロボットのフォーク等でワークチャック８のワーク載置面ＷＳの上方（Ｚ方向上方）に搬送されたとき、ワークＷをワーク載置面ＷＳの上方で仮置く際に用いるリフトピン５６０を包含するものである。図１に示される露光装置との関係で言えば図９のＺ方向粗動装置５０におけるＺ方向に進退させるＺ方向粗動機構５４０は、図１の上下粗動装置６１に代わるものである。従って、図９に示すＺ方向粗動装置５０を用いる場合は、図１における上下粗動装置６１及びＺ軸粗動ステージ６２を省くことが出来る。

すなわち図１において、上下微動装置６３を直に装置ベース４に固定し、同様にワークステージ２からＺ方向上部に向けた位置に図９のＺ方向粗動装置５０を配して用いれば、その余は図１に示す分割逐次近接露光装置の機構及び動作と同様の関係で用いることが出来る。
またこれに加え上下微動装置６３及びＺ軸微動ステージ６４もＹ軸送り台７２とワークステージ２との間に配置するようにしても良い。

図９のＺ方向粗動装置５０を、図１における上下粗動装置６１に代えて用いる目的は、図９のＺ方向粗動装置５０におけるワークチャック８には、第１の実施形態のワークチャック８の様にフォーク溝８５を設けなくても、Ｚ方向にフォーク溝８５に相当する空間を作ってフォーク溝８５に相当するスペースを確保することが出来る様にしたためである。このフォーク溝８５の省略によってワークチャック８の剛性を高められること、またワーク載置面ＷＳをより広く活用出来るのでワークＷを均一にワーク載置面ＷＳに吸着出来るなど、大型化したワークＷの変形、歪を減じる有利な構造とすることが可能となり、ワークＷのワーク被露光面ＷＥ上に露光されるパターンの色むら等を防止できる様にしたものである。

又吸着領域の分け方としては、例えば図５（ａ）で、フォーク溝８５を省いて、吸着領域８１ｂ及び吸着領域８１ｃと吸着領域８１ｄとが隣接するような、吸着領域パターンＶＰとすることが出来る。そして各吸着領域パターンＶＰは、例えば図６（ａ）〜図６（ｃ）、図７（ａ）〜７（ｂ）、図７（ｄ）のいずれかとすることが出来る。特に図７（ａ）と図７（ｂ）、及び先述の様に図７（ｃ）の正負圧型ランド８１２Ｖを単独または適宜組み合わせた図７（ｄ）に例示の吸着領域パターンＶＰにすることにより、隣接する吸着領域壁同士の境界部に直線状の領域壁８１１を省略できるなど、露光パタンの色むらを抑制するのにより好ましいことである。

図９においてワークチャック８、ワークステージ２、ワークＷ、マスクＭ、ワーク載置面ＷＳ、ワーク被吸着面ＷＶは第１の実施形態と同一であるから同一の符号を用いて説明する。また図９でのＺ方向粗動装置５０はＺ軸方向で下からワークステージ２、Ｚ方向粗動機構５４０、ワークチャック８、ワークＷの順に配され、そしてワークＷはＺ方向において近接露光位置前の上下粗動位置状態にある関係でマスクＭに対向している。またワークＷはまだ、ワークチャック８のワーク載置面ＷＳと離間した状態でフロントチャック５７０（後述の）とリフトピン５６０とで支持された状態で示されている。

ワークステージ２の上にはＺ方向粗動機構５４０（図９の紙面に垂直なＹ方向にも離間して複数設けられているが図示、説明を省略する）が設けられ、このＺ方向粗動機構５４０はワークチャック８をワークステージ２に対しＺ方向に（矢視の方向に）上下粗動をするものである。そしてＺ方向粗動機構５４０にはＸ方向に延びたボールネジ５４２とこのボールネジ５４２をＸ方向両端（図９の左右方向）でワークステージ２に固定されて軸支する軸受箱５４４が設けられている。ボールネジ５４２はＸ方向ほぼ中央から、左右対称（Ｘ方向）に右ネジと左ネジの関係になるようなボールネジ溝が施されている。そしてこのボールネジ５４２の右、左ネジ溝の左右対称位置にはボールネジ５４２と同一の右、左ネジ溝の関係になっているナット５４１がそれぞれ螺合し、この各々のナット５４１にはリニアガイドのスライダ５４６が固定されている。このためワークステージ２に設けられたボールネジ駆動モータ５４３によりボールネジ５４２を、例えば時計方向周りに回転させれば上述の関係から、ナット５１４に固定されたスライダ５４６がＸ方向で互いに近接し、同様に反時計方向に回転させればスライダ５４６がＸ方向で、互いに離間する方向にそれぞれ移動させることが出来る。またこの移動に際しこのスライダ５４６は、ワークステージ２に固定された案内レール５４７によってボールネジ５４２の軸方向（Ｘ方向）と平行に精度良く案内されるようになっている。

次にワークチャック８にはリンク連結部材５３１が固定され、このリンク連結部材５３１とスライダ５４６とは、リンク５３０とリンクピン５３０ａによってピン結合されている。このためボールネジ５４２を回転させるボールネジ駆動モータ５４３の回転方向と回転数を制御装置８９６（図８に示す）によって制御することにより、スライダ５４６のＸ方向での移動方向と移動量を決定することが出来る。この関係を用いスライダ５４６がＸ方向に近接する方向にボールネジ５４２を回転させれば、ワークステージ２に対しワークチャック８はその回転数に応じた移動量だけＺ方向に下降し、同様にスライダ５４６がＸ方向に離間する方向にボールネジ５４２を回転させれば、その回転数に応じた移動量だけ、ワークチャック８をＺ方向に上昇させることが出来る。

このワークチャック８のＺ方向移動に際し、ワークチャック８をＺ軸方向に移動案内する案内ロッド５２１が、ワークステージ２に固定されてＺ方向に立設されている。
またワークチャック８のＺ方向移動をスムーズに行ためのカウンターバランスシリンダ５５０が、Ｚ軸方向のワークステージ２とワークチャック８との間に設けられ、ボールネジ駆動モータ５４３の回転方向とその回転数に同期して、Ｚ方向にワークチャック８を進退出来るようになっている。このカウンターバランスシリンダ５５０のＺ軸方向移動のための給気源（エヤー）は、図８の正負圧制御装置８６において、正圧配管８６６に接続した電磁切換弁（図示せず）と制御装置８９６によって制御することが出来る。

以上説明したようにＺ方向粗動機構５４０は、ワークＷの大型化に呼応し重量の重くなったワークチャック８をワークステージ２に対しＺ方向に円滑、高速そして精度良く移動出来るようＺ方向粗動装置５０に設けられたものである。
次にＺ方向粗動装置５０において、ワークＷをワークチャック８のワーク載置面ＷＳの上方で支持し、ワークＷの位置がずれないように仮止める機構に付いて述べる。

リフトピン５６０はそのＺ方向上部では、ワークチャック８に設けられたリフトピン孔５６１に挿通、案内され、下部をワークステージ２に固定されたリフトピン受板５４９に支持固定されている。なおこのリフトピン５６０とリフトピン孔５６１との隙間は、ワークチャック８のワーク載置面ＷＳに設けた各吸着領域の正負圧状態を壊すことがないよう、且つ挿通ができる様に形成されている。あるいはこのようにする代わりに、リフトピン孔５６１を囲むようにワーク載置面ＷＳ上にランド８１２及び領域壁８１１（または正負圧型ランド８１２Ｖ）と同じ高さの新たなランド８１２を設け、このランド８１２にリフトピン５６０を挿通するようにしても良い。またワーク被吸着面ＷＶを支持するリフトピン５６０の上端面はワークＷを水平に支持するため、Ｚ方向に同一の高さになっている。そして図９に示すようにワークＷのワーク被吸着面ＷＶとワークチャック８のワーク載置面ＷＳとのＺ軸方向の間には間隙Ｚｆが形成されるようになっている。この間隙ＺｆはＺ方向において、リフトピン５６０の上端面の高さに対するワークチャック８のワーク載置面ＷＳの下降位置との調節で任意に設定出来る。しかしこの時の最小の間隙ＺｆはワークＷをプリアライメントステージから搬送ロボットのフォークで、予め定められたリフトピン５６０の上端面上の位置（ＸＹ平面内において）に載置する時、またこの後フォークが下降、後退する時、フォークがワーク被吸着面ＷＶとワークチャック８のワーク載置面ＷＳと接触干渉しないような間隙Ｚｆとなっている。また図９の左端（Ｘ方向）に示されているフロントチャック５７０はワークステージ２から立設され、そのＺ方向での上端面はリフトピン５６０の上端面と同一の高さになっている。このためワークＷがプリアライメントテーブルから搬送ロボットのフォークで搬送され、リフトピン５６０の上端面で仮に載置されたとき、（図９に図示するように）フロントチャック５７０の上端面もワーク被吸着面ＷＶを支持する様になっている。そしてフロントチャック５７０の上端面には凹部５７０ａが外部の正負圧配管５７０ｃと正負圧孔５７０ｂによって連通されているので、ワークＷがリフトピン５６０の上端面で、仮の載置がされたときワークＷが動かないように固定吸着をすることが出来る。このフロントチャック５７０の上端面の凹部５７０ａに連通する、正負圧配管５７０ｃは例えば図８に示す正負圧配管８１４ａと同様の配管と制御をすることが出来る。

次にこのＺ方向粗動装置の作動の例を図９を用い説明する。
図９ではワークチャック８がＺ軸方向後退位置にあり、リフトピン５６０の上端面にワークＷがプリアライメントステージからフォークによって搬送されて後、載置され、フロントチャック５７０が先に述べた正負圧制御装置８６の制御装置８９６によって制御され吸着状態になっている。この状態からＺ方向粗動機構５４０のボールネジ駆動モータ５４３を制御装置８９６の指令に基づいて駆動し、ワークチャック８のワーク載置面ＷＳをワーク被吸着面ＷＶと接触する上昇端位置までに上昇するよう駆動させる。その後の動作及び使用方法は図５（ａ）に示すワークチャック８と同様なので省略する。そして、Ｚ方向においてワーク被露光面ＷＥを近接露光位置に調整するのは、図１の上下微動装置６３によってＺ方向微動位置調整を同様にして行うことが出来る。

又ワークチャック８には第１の実施形態と同様に、各吸着領域を正圧、負圧又は大気圧状態に制御するための正負圧配管８１４ａ〜８１４ｄが導かれている。
次に本発明に係る第３の実施形態のワークチャック８について、図１０の図１０（ａ）〜図１０（ｄ）を用い説明する。
図１０（ａ）は図５（ａ）と同様に平面図で示したワークチャック８のワーク載置面ＷＳを示すものである。そしてこのワークチャック８は、図９で説明したリフトピン５６０のあるＺ方向粗動装置５０を使用したものである。

第１の実施形態の図５（ａ）に示した吸着領域８１ａ〜８１ｄが、図１０（ａ）ではＸ方向（左右方向）に中央の吸着領域８１ｅとこの吸着領域８１ｅを挟んでＸ方向にＹ軸の軸対称位置に２箇所の吸着領域８１ｆが，そしてＹ方向上方に１つの吸着領域８１ｇ、計４つの独立した吸着領域が示されている。
そして図１０（ａ）の吸着領域８１ｅ〜８１ｇの黒●で示した位置には、図９で説明したリフトピン５６０が配設されている。また吸着領域８１ｅ〜８１ｇに有る領域壁８１１、ランド８１２及び凹部８１３は、図６（ａ）〜図６（ｃ）、図７（ａ）〜図７（ｂ）、図７（ｃ）の正負圧型ランド８１２を単独または適宜組み合わせた図７（ｄ）に例示の吸着領域パターンＶＰを組み合わせ同様に使用できる。従って図１０（ａ）では、これら領域壁８１１、ランド８１２及び凹部８１３を、直線、ドット、その余の空白でそれぞれ模式的に示している。

また図７（ｅ）に示すワークチャック８の周縁辺８８に設けた、レジスト逃げＲｒも同様に適用できる。
そしてこの図１０（ａ）で示したワークチャック８は次の様な特徴がある。
図１０（ｂ）〜図１０（ｄ）のハッチング部は大きさが種々異なるワークＷの平面の大きさを模式的に示したものである。

図１０（ｂ）では、ほぼ正方形のワークＷを、このワークＷの寸法に見合う吸着領域８１ｅで、また同様に図１０（ｃ）では吸着領域８１ｅと２つの吸着領域８１ｆで、そして図１０（ｄ）では吸着領域８１ｅと吸着領域８１ｇとでそれぞれワークＷを吸着していることを示している。
このようにワークＷの寸法やそのＸＹ方向の寸法比が異なっても、この第３の実施の形態のワークチャック８は、ワークＷに応じて、ワーク載置面ＷＳに独立した複数の吸着領域を設けることにより、本発明の第１の実施の形態のワークチャック８が有する特徴の他に、ワークＷの載置に汎用性を持たせることが出来る。

なお図１０（ｂ）〜図１０（ｄ）のハッチングしない吸着領域（白い部分）は、ワークＷの載置に不要な部分なので（正圧、負圧にする必要がないので）、第１の実施形態の図８に示した正負圧制御装置８６において、この非使用の吸着領域に連結する正負圧配管を負圧配管路８６５及び正圧配管路８６６から遮断するため、該当する電磁切換弁を中央のスプリングセンタ位置にしておけば良い。そして使用部分の吸着領域の正負圧制御は第１の実施形態と同様、エヤブローやワークＷの変形矯正、吸着等が出来るように制御を行うことができる。

また図５（ａ）に示すワークチャック８では、ワークＷを搬送するためにフォーク溝８５を設けているが、このフォーク溝８５を設ける代わりに図１０（ａ）に示すように、フォークの進退時、フォークが矢視Ｘ１とＸ２又はＹ１とＹ２の位置と方向どちらからでもリフトピン５６０と干渉しないように、リフトピン５６０が存在しないスペースを確保することによって（図９にＺ方向においても同様に説明したように）、フォーク溝８５を省略することができる。またリフトピンのこれ以外の配置と数を特に限定するものではないが、ワークＷを均一に支持するため、図１０（ａ）に示すようにＸＹ軸に対し軸対称位置に配置することが望ましい。

また図１０（ｃ）あるいは図１０（ｄ）のハッチングに対応するようなワークＷの場合は、第１の実施形態で述べたように、まずワークＷをワーク載置面ＷＳに載置した時点では、吸着領域８１ｅのみを吸着し，ワークチャック８をセット完了後（露光直前に）、残りの吸着領域８１ｆ或いは吸着領域８１ｇを吸着領域するようにしても良い。更に吸着領域８１ｅを図５（ａ）の例の様に、複数の吸着領域に分割し、第１の実施形態で説明したように、中央の吸着領域（図５（ａ）の吸着領域８１ａ相当）のみ吸着領域させるようにしても良く、第１の実施形態と同様な方法で、エヤーブローを行うようにしても良い。

また吸着領域８１ｅ〜吸着領域８１（ｇ）の中にあるランド８１２は波型状ランド８１２Ｗ或いは図６（ａ）〜図６（ｃ）、それに図７（ｃ）に示した正負圧型ランド８１２を単独または適宜組み合わせた図７（ｄ）の吸着領域パターンＶＰとすることができる。そして図７（ｅ）等に示すようなレジスト逃げＲｒを設けることも同様に適用できる。
また図１０（ａ）に示すワークチャック８では、図９のＺ方向粗動装置５０を用いているので、フォーク溝８５を省略でき、そのためワークチャック８の剛性を高く出来、前述の様にワーク被露光面ＷＥ上に、色むらが生じ難いワークチャック８の構造とする特徴も併せ持つことが出来る。

次に本発明の第４の実施形態に係るワークチャック８の説明を図１１の平面図を用い説明する。
図１１のワークチャック８は吸着領域の具体な配置と、この吸着領域を構成する吸着領域パターンＶＰを、図７（ａ）、図７（ｂ）に示すように様にした例を示すもので、その余のことは図１０（ａ）〜図１０（ｄ）に説明した特徴と同様である。

そして先に述べたように、露光エリアで吸着領域パターンＶＰとマスクＭによるマスクパターンＰが重畳することによる吸着歪の影響をなくすることが出来るので、ワークＷに露光される露光パターンの色むら等の発生を防止することも同様に行うことが出来るのである。
まず吸着領域の配置では、ワーク載置面ＷＳのＸ方向に見て、中央に吸着領域８１ｈとＹ軸の軸対称位置にそれぞれ２つの吸着領域８１ｉ、その外方に吸着領域８１ｊをそれぞれ配し、Ｙ方向に吸着領域８１ｋ、吸着領域８１ｌの計７つの吸着領域を配している。つまり図１０（ａ）のものより多くの吸着領域を細かく配しているので、ワークＷの寸法変化や、ＸＹ方向の寸法比の違いにより細かく対応できるようになっている。

また各吸着領域の■印の位置にはリフトピン５６０を配置し、図１０（ａ）と同様にフォーク挿入のためリフトピン５６０の配設されていない矢視Ｘ1とＸ２及びＹ1とＹ２で示されるスペースがＸ,Ｙ方向の２方向設けている。
又図７（ａ）及び図７（ｂ）の吸着領域を構成する吸着領域パターンＶＰは、マスクＭのパターンと重畳の危険のないワークチャック８の周縁辺８８の最も近くで沿う領域壁のみは、加工が容易なように直線状領域壁８１１Ｓとしているが、ワーク載置面ＷＳにおいて、この直線状領域壁８１１Ｓより内側にある領域壁は波型状領域壁８１１Ｗとしている。また吸着領域８１ｈ〜吸着領域８１ｌの中にあるランドは、波型状ランド８１２Ｗ或いは図６（ａ）〜図６（ｃ）、図７（ｃ）に示した正負圧型ランド８１２を単独または適宜組み合わせた図７（ｄ）のような吸着領域パターンＶＰを用いること、及び図７（ｅ）に示すようなレジスト逃げＲｒを設けることも、図１０（ａ）のワークチャック８と同様に適用できる。

次に本発明の第５の実施形態であるワークチャック８を図１２の図１２（ａ）〜図１２（ｂ）に示す様にＺ方向又はＸＹ平面で分割した例について説明する。
先に説明した様に図５（ａ）、図１０（ａ）、図１１のワークチャック８では、独立した複数の吸着領域を載置面ＷＳに設け、大型のワークＷでも最終的に変形や歪のない吸着を行うことが出来ることを説明してきた。しかしこれらのワークチャック８を大型のワークＷに適用する場合、ワークＷの大きさに応じてワークチャック８のワーク載置面ＷＳが大型化（大面積化）し、それに伴って重量も大きくなり、ワークチャック８のワーク載置面ＷＳにある吸着領域パターンＶＰの加工等の際、その取り扱いが困難となり、精度低下等の原因になる恐れがある。またワーク載置面ＷＳの一部が、ワークＷの搬送又は吸着時の破損事故等により損傷したり或いは摩耗等が生じても、それによりワークチャック８全体を製作し直さなければならなくなりコストが高くなる。また研磨などで補修しようとする場合も、大型化したワークチャック８全体を露光装置から取り外したり、或いは再び組み付けたりしなければならず、その作業に多大の時間を必要として生産性の低下をまねいてしまう。

この様にワークＷの大型化に伴う新たな課題を解決するため、この第５の実施の形態では、まず図１２（ａ）に示す様に、一体のワークチャック８をＺ方向で、より加工精度が必要され、しかも損傷等を受け易いワーク載置面ＷＳを含む、上部分割チャック８ａと、その余の基部チャック８ｂとに分割し、これらを別体状態で加工して後、上部分割チャック８ａと基部チャック８ｂとを着脱可能なネジ等の締結手段で一体的に組み立て完成し、先に説明した図５（ａ）、図１０（ａ）、図１１に示すワークチャック８と同一の構造と目的が果たせるようにしたものである。この際ワークチャック８に導かれている図５（ａ）で説明した、正負圧配管８１４ａ〜８１４ｄや、ワークチャック８の露光の際等に生じる熱に対しワークチャック８を一定の恒温に保つための冷却配管８１４ＣＰなどは、ワークチャック８の外部から基部チャック８ｂに接続するようにする。

なお図示を省略しているが、基部チャック８ｂには図９で説明したような複数のリフトピン５６０を、そして上部分割チャック８ａには、このリフトピン５６０が挿通可能なリフトピン孔５６１を設け、スプリング等を用い上部分割チャック８ａのワーク載置面ＷＳに対しリフトピン５６０を進退自在とすることも出来る。又図９に示すワークチャック８を図１２（ａ）の様に上部分割チャック８ａと基部チャック８ｂに分け、一体的に組み立てて後、共通のリフトピン５６０が挿通できるリフトピン孔５６１をそれぞれのチャックに設けるようにしても良い。

そしてこの基部チャック８ｂに上部分割チャック８ａを上述のネジ等の着脱可能な締結手段で一体的に組み立て完成した状態では、上部分割チャック８ａの必要部分に正圧、負圧或いは大気圧状態にする又冷却等を制御するための供給源が連通するような構造にすれば、上のような外部からの接続配管に煩らわされず、上部分割チャック８ａのみを基部チャック８ｂから着脱容易とすることが出来、ワークチャック８のメインテナンス時間が極めて短縮できる。

又同様の目的のため、図１２（ｂ）の様に、上部分割チャック８ａのみ４分割して複数の上部分割チャック８ａとして、基部チャック８ｂに一体的に着脱できるよう一体化する組み立て構造にすれば、交換やメインテナンスを必要とする部分のみの上部分離チャック８ａに施すことが出来、結果としてワークチャック８を比較的容易に、且つ高精度に加工が出来、このことによりカラーフィルター等の色むらを軽減することができ、更に製作、手直し加工等の時間も短縮できスループットも向上できる。

また本実施形態は、図５（ａ），図１０（ａ）、図１１に示すワークチャック８の構造において、上部分離チャック８ａの分割単位を、各吸着領域毎に対応する様な分割構造とすることにも同様に適用できるものである。またこの際１つの吸着領域が広くなる場合は、吸着領域を適宜細分化した複数の上部分離チャック８ａを設ける構造にしても良い。
次に本発明の第６の実施形態として、ワークチャック８のワーク載置面ＷＳにある、吸着領域パターンＶＰの形成方法の１例を説明する。図１３はその形成法としてホトエッチング法を適用した場合の工程順序を示したものである。

吸着領域パターンＶＰには、図５（ａ）、図１０（ａ）、図１１に示すようにワーク載置面ＷＳに複数の吸着領域が配置されており、この吸着領域には、図６（ａ）〜図６（ｃ）、図７（ａ）〜図７（ｂ）、図７（ｃ）に示した正負圧型ランド８１２を単独または適宜組み合わせた図７（ｄ）のような吸着領域パターンＶＰが存在する。この様に複雑で、しかも大型化した、吸着領域パターンＶＰを有する板状体は、本発明が使用の態様としている、図１に示すような分割逐次近接露光装置を用い、図１３の様な工程でなるホトエッチング法によって製作するのが好適である。

図１３のＰ３工程の吸着領域パターンＶＰをホトエッチング法等の露光によって製作する場合、予め用意するマスクパターンＰを、図５（ａ）のワーク載置面ＷＳにある吸着領域パターンＶＰを例に説明する。まずワーク載置面ＷＳにある吸着領域パターンＶＰをＸＹ平面内で両軸に対称となるよう４等分割し、この４等分割された吸着領域パターンＶＰのうち、点対称位置の関係にある２枚（２種類）の吸着領域パターンＶＰとなるマスクパターンＰを有するマスクＭを用意する。すなわちこの２種類のマスクパターンＰは図５（ａ）のワーク載置面ＷＳの平面上の中心とＸＹ直角座標での座標原点を一致させた場合、ＸＹ座標の第１象限と第３象限或いは第２象限と第４象限の吸着領域パターンＶＰの関係になるものである。そしてこれら２種類のマスクパターンＰを有するマスクＭを図１のマスクステージ１に載置して、被露光物であるワークチャック８のワーク載置面ＷＳをマスクＭに近接対向させ、相対的にＸ、Ｙ又はθ方向に移動させて近接露光を繰り返せれば図５（ａ）の吸着領域パターンＶＰ全体のパターンを（ワーク載置面ＷＳにある）露光により製作することが可能である。このとき図１２（ｂ）の様にワーク載置面ＷＳがＸＹ平面で既に４等分割された上部分割チャック８ａの場合は、この点対称位置の上部分割チャック８ａを上述の２種類のマスクＭで各２枚作れば良いので、極めて簡単に且つ効率的に吸着領域パターンＶＰの製作ができる。この様に予め２種類のマスクＭを用意し図１３に従ってホトエッチング工程を進める。

図１３のＰ１工程でまずワーク載置面ＷＳを清浄にするため脱脂して洗浄、乾燥を行う。そしてＰ２工程でワーク載置面ＷＳにローラ又は刷毛などでレジストを塗布する。Ｐ３工程ではレジストを乾燥させて後、上述の様に図１の露光装置等を用い２種類のマスクＭのマスクパターンＰをワーク載置面ＷＳの該当部分に露光して吸着領域パターンＶＰの感光パターンを作る。

Ｐ４工程では露光させた吸着領域パターンＶＰを現像し次のＰ５工程でのエッチングすべき領域を準備する。Ｐ５工程でのエッチングでは、エッチング液の濃度やエッチング時間等を、第１の実施形態のところで述べたように凹部８１３の深さが０．５〜１ｍｍ程度になるように調整し行う。そしてＰ６工程では先の露光工程Ｐ３で感光させて得た感光パターンを剥離させ、Ｐ７工程でワーク載置面ＷＳを洗浄にし、乾燥させる。最後のワーク載置面ＷＳの平面仕上げは、ワーク被吸着面ＷＶとワークチャック８のワーク載置面ＷＳの吸着が良好となるよう、必要によって平面研削仕上げを行う工程である。

以上の様にすれば、大型化して、複雑な吸着領域パターンＶＰを有するワークチャック８のワーク載置面ＷＳを容易に加工できる。
これらに使用する、レジスト剤及び薬剤は、ワークチャック８の素材に応じて、公知のものを適宜使用できるもので、ここでは説明を省略する。また、図５（ａ）、図１０（ａ）、図１１に示した正負圧孔８１５やリフトピン孔５６１などの孔加工はこのホトエッチング工程の前、或いは完了後にドリル等を用い加工を行えば良い。

また図７（ｅ）で説明した、レジス逃げＲｒ、は本発明のどの実施形態のワークチャック８にも同様に適用できる。
また同様に以上説明したワークチャック８はワークステージ２の上に載置固定するように別体に設けるようにした方が、ワークチャック８の加工をする際にも、又ワークＷのサイズが変化した場合も、ワークチャック８のみを変更して用いることが出来るなど、対応の自由度が増すので好ましい。しかしこれに限るものではなく、以上説明してきたワークチャック８の構造、機能を、軽量化の目的などのため、直接ワークステージ２設け、ワークステージ２とワークチャック８とを一体化しても良い。

図１は本発明のワークチャックが使用される好例としての分割逐次近接露光装置の一部を分解した説明的斜視図である。 図２は図１のマスクステージ部分の拡大斜視図である。 図３は１８インチカラーディスプレイ用材ＤＰを９面取りしたワークＷ（１０００ｍｍ×１２００ｍｍ）の平面図である。 図４は図３のステップ露光の場合に用いるマスクの平面図である。 図５（ａ）は本発明の第１の実施形態におけるワークチャックのワーク載置面を示す平面図である。

図５（ｂ）は図５（ａ）のＸ−Ｘ断面におけるワークチャックのワーク載置面近傍の断面図である。
図６（ａ）は図５（ａ）にある、Ａ部付近を代表例として示すワーク載置面の吸着領域にある吸着領域パターン形状の一例を示す平面図である。

図６（ｂ）は図５（ａ）にある、Ａ部付近を代表例として示すワーク載置面の吸着領域にある吸着領域パターン形状を示す他の例を示す平面図である。
図６（ｃ）は図５（ａ）にある、Ａ部付近を代表例として示すワーク載置面の吸着領域にある吸着領域パターン形状を示す他の例を示す平面図である。
図７（ａ）は図５（ａ）にある、Ａ部付近を代表例として示すワーク載置面の吸着領域にある吸着領域パターン形状の他の例を示す平面図である。

図７（ｂ）は図７（ａ）におけるランドが図６（ａ）〜図６（ｃ）で示されるランドを配した時の配置を示す平面模式図である。
図７（ｃ）は図５（ａ）にも適用出来るランドの他の例である、正負圧型ランドを示す断面図である。
図７（ｄ）は図５（ａ）にある、Ａ部付近を代表例として示すワーク載置面の吸着領域にある吸着領域パターン形状の他の例を示す平面図である。

図７（ｅ）は図７（ｂ）の吸着領域パターンの適用した例として、ワークチャックの周縁辺に沿って設けたレジスト逃げを示すＢ矢視方向の正面図である。
図８は図５（ａ）に示すワークチャックの吸着領域を正圧、負圧及び大気圧状態に制御する正負圧制御装置の１例を示すブロック図である。 図９は本発明の露光装置での第２の実施の形態である、ワークチャックのＺ方向粗動に係るＺ方向粗動装置の正面図である。 図１０（ａ）は、本発明の第３の実施形態におけるワークチャックのワーク載置面を示す平面図である。

図１０（ｂ）〜図１０（ｄ）はワークのサイズに応じて図１０（ａ）のワーク載置面の吸着領域の使用例を示した模式図である。
図１１は本発明の第４の実施形態におけるワークチャックのワーク載置面を示す平面図である。 図１２（ａ）は本発明の第５の実施の形態における分割型のワークチャックの正面図である。

図１２（ｂ）は図１２（ａ）において、ワーク載置面で上部分割チャックを４等分割した例を示す平面図である。
図１３は本発明ワークチャックのワーク載置面にある載置面パターンを形成する方法の一例としてのホトエッチング法の工程順序を示したフローチャート図である。 図１４は従来のワークチャックである吸引保持装置の平面図である。

符号の説明

Ｗ…ワーク
Ｍ…マスク
Ｐ…マスクパターン
ＷＥ…ワーク被露光面
ＶＰ…ワークチャックの吸着領域パターン
ＷＳ…ワークチャックのワーク載置面
ＷＶ…ワーク被吸着面
１…マスクステージ
２…ワークステージ
３…照明光学系（照射手段）
７…ワークステージ送り機構
８…ワークチャック
８ａ…上部分割チャック
８ｂ…基部チャック
５０…Ｚ方向粗動装置
８１ａ〜８１ｌ…吸着領域
８１１…領域壁
８１２…ランド
８１３…凹部
８１４ａ〜８１４ｄ…正負圧配管
８１５…正負圧孔
８５…フォーク溝
８６…正負圧制御装置
８６７ａ〜８６７ｄ…電磁切換弁
８９６：制御装置

Claims (11)

1. ワークに対しパターン露光用の照射手段の光を受けてワークの露光面に露光すべきパターンを有するマスクと、前記マスクに対向配置され被露光材としてのワークを保持して、前記マスクと相対的に対向する位置を変えて、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光するようにしたワークチャックにおいて、
   前記ワークを載置するワーク載置面に、縦横方向の寸法比が異なるワークを縦方向及び横方向に載置可能とする複数の吸着領域を配置し、該吸着領域の内側には前記ワークを支持するランドと、該ランドを除く部分に形成した凹部とを設け、
   前記ワークが載置されている複数の前記吸着領域の中で、吸着領域を選択して吸着及び非吸着状態に選択的に制御、且つ当該吸着領域の吸着状態を露光時と非露光時とで選択に変化させる正負圧制御装置を備えたことを特徴とするワークチャック。
2. 前記複数の吸着領域は、前記ランドと同じ高さの領域壁で囲まれ、該領域壁のうち、隣接して設けられている吸着領域の境界にある領域壁は、載置面での平面形状で波型状に形成してなることを特徴とする請求項１に記載のワークチャック。
3. ワークに対しパターン露光用の照射手段の光を受けてワークの露光面に露光すべきパターンを有するマスクと、前記マスクに対向配置され被露光材としてのワークを保持して、前記マスクと相対的に対向する位置を変えて、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光するようにしたワークチャックにおいて、
   前記ワークを載置するワーク載置面に、縦横方向の寸法比が異なるワークを縦方向及び横方向に載置可能とする複数の吸着領域を配置し、該吸着領域の内側には前記ワークを支持するランドと該ランドを除く部分に形成した凹部とを設け、
   前記ワークが載置されている複数の前記吸着領域の中で、吸着領域を選択して吸着及び非吸着状態に選択的に制御する正負圧制御装置を備え、
   前記複数の吸着領域は、前記ランドと同じ高さの領域壁で囲まれ、該領域壁のうち、隣接して設けられている吸着領域の境界にある領域壁は、載置面での平面形状で波型状に形成してなることを特徴とするワークチャック。
4. 前記吸着領域は、ワークチャックのワーク載置面内で直交する中心軸の少なくとも１つの軸に対し、軸対称位置に設けられたことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のワークチャック。
5. 前記吸着領域は、前記ワーク載置面内で、直交する中心軸の少なくとも１つの軸に対し、軸対称位置に離間して設けられ、前記ワーク載置面に対し垂直方向に同一の高さで進退するリフトピンを有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のワークチャック。
6. 前記正負圧制御装置は、前記複数の吸着領域を正圧、負圧及び大気圧状態の何れかに選択的に制御することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のワークチャック。
7. 互いに分割された前記ワーク載置面に垂直な方向で、前記載置面を構成する上部分割チャックと、該上部分割チャックを支持する基部チャックとを有し、前記上部分割ワークチャックと前記基部チャックとは着脱可能な締結手段で一体化されてなることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のワークチャック。
8. 前記上部分割チャックは前記ワーク載置面内で複数に分割されていることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のワークチャック。
9. 前記ランドは、前記ワーク載置面での平面形状が、正方形、長方形、円形、楕円形、波型の１種又はこれらの２種以上の組み合わせからなることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載のワークチャック。
10. 前記ランドのワーク載置面には、選択的に正圧、負圧及び大気圧状態の何れかに制御された凹部を有することを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載のワークチャック。
11. 前記ワーク載置面の周縁辺に沿って、前記領域壁の高さより低い逃げ凹部を有することを特徴とする請求項２から請求項１０のいずれか１項に記載のワークチャック。

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