JP2007010697A - ペリクル装着装置、ペリクル装着方法及びパターン基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】
異なるサイズのマスクに対してペリクルを装着することができるペリクル装着装置及びペリクル装着方法、並びにパターン基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかるペリクル装着装置１００は、枠状のペリクルフレームに設けられたペリクルを、マスクに装着するペリクル装着装置であって、ベースプレート３と、ベースプレート３に対して脱着可能に設けられた脱着フレーム４と、脱着フレーム４が取り付けられたベースプレートを回転させる回転機構１０と、脱着フレーム４の外側に配置され、ペリクルフレームの対向する２辺においてペリクルフレームをマスクに押圧する押圧機構５と、押圧機構５を脱着フレーム４に対して近づけるよう移動させるスライド機構９とを備えるものである。
【選択図】図１

Description

本発明はペリクルをマスクに装着するペリクル装着装置及びペリクル装着方法並びにそれを用いたパターン基板の製造方法に関する。

半導体装置や液晶表示装置などの製造工程において、半導体ウエハあるいは液晶表示装置用基板上に光を照射してパターンを形成するリソグラフィー工程がある。このリソグラフィー工程では、例えば矩形状のフォトマスク基板に形成されたパターンに光を照射し、フォトマスク基板を透過した光をウエハ等の半導体基板上で結像させて、ウエハ等の半導体基板上のレジスト剤を感光させることにより、ウエハ上に所定のパターンを転写する。

上記のパターン転写処理を行う際、フォトマスク基板上に形成されたパターンに異物が付着すると、異物が光を吸収したり、光を屈折させてしまうため、転写したパターンに異常が発生する。これによって、配線の絶縁不良や短絡などの不良原因となり、半導体装置や液晶表示装置などの性能が悪化し、製造の歩留りが低下するという問題があった。これを防止するため、一般に、フォトマスク基板に形成されたパターンを、ペリクルにより保護する方法が採られている。

通常、フォトマスク基板に形成されたパターン領域の外側を囲むように配置されたペリクルフレームにペリクルが張設されている。ペリクルフレームはフォトマスク基板の形状に対応しており、矩形の外周を有する枠状に設けられている。ペリクルは、ペリクルフレームにより保持され、フォトマスク基板のパターン形成面と所定の間隔を置いて張設される。この場合、異物はフォトマスク基板のパターン面に直接付着することなく、ペリクル膜上に捕らえられる。露光時に、焦点をフォトマスク基板上に合わせておけば、ペリクル膜上の異物はウエハ上で結像することがなく、転写とは無関係になる。

フォトマスクに対してペリクルを装着する工程について簡単に説明する。額縁状のペリクルフレームのフォトマスク側の面には接着層が設けられている。そして、ペリクルが張設されたペリクルフレームをフォトマスクに対して仮貼りした状態とする。この状態で、ペリクルフレームをフォトマスクに対して押し当てる。これにより、ペリクルフレームに設けられた接着層がフォトマスクとを接着する。従って、ペリクルをフォトマスクに装着することができる。

ペリクルを装着する工程では、ペリクルフレーム全体をマスクに対して均一に押し当てる必要がある。すなわち、一定の押圧で、ペリクルフレームをフォトマスクに対して押し付ける。また、フレームの端面に複数のプレッシャーを配設し、多点押圧するペリクル装着装置が開示されている（特許文献１）。

半導体装置や表示装置の露光工程では、複数のパターンを形成するため、複数枚のフォトマスクが用いられる。これらのフォトマスクは、大きさや厚みが異なる場合がある。さらには、外形の同じフォトマスクであっても、形成パターン領域の形状が異なる場合がある。従って、フォトマスクに応じてペリクルフレームの大きさや、厚さが異なるものとなる。

このような異なるサイズのフォトマスクに対してペリクルを装着する場合、ペリクル装着装置に対して複数種類の押圧板が必要となってしまう。さらに、異なるペリクルフレーム毎に押圧板を交換する必要があり、作業効率が低下するという問題点がある。この問題対するペリクル貼付装置が開示されている（特許文献２）。この、ペリクル貼付装置では、矩形フレームの大きさに応じて押圧領域を変更させる変更機構を有している。
特開昭６２−３８４６８号公報 特開平１０−９０８７７号公報

しかしながら、上記のペリクル貼付装置では、押圧領域を変化させているため、押圧領域を広範囲に変化させようとした場合、構造が複雑になってしまうという問題点があった。さらには、液晶表示装置の製造工程では、近年の液晶表示装置の基板サイズの大型化に伴い、１辺が１ｍ以上のフォトマスクが用いられるようになっている。このような大型のマスクに対して、ペリクルを貼り付ける場合、装置が大型化してしまうという問題点があった。よって、フォトマスクの大型化に伴い、装置の構造がよる複雑化するという問題点があった。

上記のように、従来のペリクル装着装置では、様々な大きさのフォトマスクを装着する場合、装置構成が複雑化、大型化するという問題点があった。
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであって、フォトマスク又はペリクルフレームのサイズが異なる場合であっても、簡易な構成でマスクに対してペリクルを装着することができるペリクル装着装置及びペリクル装着方法並びにそれを用いてパターン基板の製造方法を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様にかかるペリクル装着装置は、枠状のペリクルフレームに設けられたペリクルを、前記ペリクルフレームに設けられた接着層を介して、マスクに装着するペリクル装着装置であって、ベースプレートと、前記ベースプレートに対して脱着可能な脱着フレームであって、前記ペリクルフレームに対応した形状を有し、前記フォトマスクが載置される脱着フレームと、前記脱着フレームが取り付けられた前記ベースプレートを回転させる回転機構と、前記脱着フレームの外側に配置され、前記ペリクルフレームの少なくとも１辺において前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧する押圧機構と、前記押圧機構を前記脱着フレームに対して近づけるよう移動させる移動機構とを備えるものである。これにより、マスク又はペリクルフレームのサイズが異なる場合であっても、簡易な構成でペリクルを装着することができる。

本発明の第２の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着装置であって、前記押圧機構が前記ペリクルフレームの対向する２辺に対してそれぞれ設けられているものである。これにより、ペリクルの装着時間を短縮することができ、生産性を向上することができる。

本発明の第３の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着装置であって、
前記押圧機構が前記脱着フレーム側の側面に設けられた位置決めパッドを備え、前記位置決めパッドが前記脱着フレームに対して当接している状態で前記押圧機構が前記ペリクルフレームを押圧するものである。これにより、確実のペリクルを装着することができる。

本発明の第４の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着装置であって、
前記押圧機構が、前記ペリクルフレームの上から当該ペリクルフレームを前記マスクに対して押圧する押圧パッドを有する押圧ブロックと、前記押圧ブロックに取り付けられ、前記ペリクルフレームの外側において前記ベースプレート上の吸着面に対して吸着する吸着パッドとを備え、前記吸着パッドの内外の圧力差に基づいて前記押圧パッドが前記ペリクルフレームを押圧するものである。これにより、簡易な構成で確実にペリクルを装着することができる。

本発明の第５の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着装置であって、
枠状のペリクルフレームに設けられたペリクルを、前記ペリクルフレームに設けられた接着層を介して、マスクに装着するペリクル貼付装置であって、ベースプレートと、前記ベースプレートに対して脱着可能な脱着フレームであって、前記ペリクルフレームに対応した形状を有し、前記フォトマスクが載置される脱着フレームと、前記ベースプレート上に移動可能に設けられた押圧ブロックであって、前記ペリクルフレームの上から当該ペリクルフレームを前記マスクに対して押圧する押圧パッドを有する押圧ブロックと、前記押圧ブロックに取り付けられ、前記ペリクルフレームの外側において前記ベースプレート上の吸着面に対して吸着する吸着パッドと、前記吸着パッドと前記吸着面との間の空間を排気する排気手段とを備え、前記吸着パッドの内外の圧力差に基づいて前記押圧パッドが前記ペリクルフレームを押圧するものである。これにより、マスク又はペリクルフレームのサイズが異なる場合であっても、簡易な構成でペリクルを確実に装着することができる。

本発明の第６の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着装置であって、押圧ブロックが前記ペリクルフレームの辺に沿って複数配列され、前記複数の押圧ブロックを連結する連結部材をさらに備えるものである。これにより、ペリクルフレームや接着層の厚みが不均一である場合でも、確実に装着することができる。

本発明の第７の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着装置であって、前記ベースプレートに前記脱着プレートを位置決めする位置決め手段が形成され、前記位置決め手段が前記複数の押圧ブロックの前記吸着パッドの間に対応する位置に設けられているものである。これにより、様々なサイズの脱着フレームを用いた場合でも、吸着パッドでのリークを防ぐことができるため、確実に装着することができる。

本発明の第８の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着装置であって、前記吸着パッドの内側の圧力が、前記ペリクルフレームの角部に対応する押圧ブロックと他の押圧ブロックとで異なるように圧力を制御する圧力制御手段をさらに備えるものである。これにより、接着圧力を一定にすることができるため、確実に装着することができる。

本発明の第９の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着装置であって、前記ペリクルフレームの外側に配置された押圧ブロックに対しては、前記吸着パッドの内外で圧力差がなくなるように前記圧力制御手段が圧力を制御するものである。これにより、ベースプレートに余分な負荷がかかるのを防ぐことができる。

本発明の第１０の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着装置であって、前記押圧パッドが前記ペリクルフレームの辺に沿った柱状に形成され、前記柱状の押圧パッドの側面で前記ペリクルフレームを押圧し、前記柱状の押圧パッドが設けられている方向と垂直な方向における当該押圧パッドの断面が前記ペリクルフレーム側において円弧状となっているものである。これにより、異物の発生を防ぐことができるとともに、接着圧力を一定にすることができる。

本発明の第１１の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着装置であって、前記脱着フレームの前記ベースプレート側の面に、当該脱着フレームを前記ベースプレートに対して吸着するための吸着溝が形成され、前記ベースプレートに、前記吸着溝を排気するための配管が通る貫通口が設けられ、前記脱着フレームの内側側面に設けられたコネクタを介して前記配管と前記吸着溝とが連通されているものである。これにより、脱着フレームの着脱時において、ペリクル又はマスクに異物が付着するのを防ぐことができる。

本発明の第１２の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着装置であって、前記ベースプレートが鉛直方向に対して１５°〜３０°傾斜して設けられているものである。これにより、重力によって装置に加わる負荷を軽減することができ、装置を簡易な構成にすることができる。

本発明の第１３の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着装置であって、前記ペリクルフレームを介してペリクルを保持するペリクル保持具をさらに備え、前記脱着フレームに載置されたマスクに対向する位置に、前記ペリクルが保持されたペリクル保持具を移動させ、前記ペリクルフレームの接触層と前記マスクとを接触させ、前記マスクに前記ペリクルフレームを仮貼りすることを特徴とするものである。これにより、ペリクルフレームを仮貼りすることができる。

本発明の第１４の態様にかかるペリクル装着方法は、枠状のペリクルフレームに設けられたペリクルを、前記ペリクルフレームに設けられた接着層を介して、マスクに装着するペリクル装着方法であって、ベースプレートに、前記ペリクルフレームに対応した形状を有する脱着フレームを取り付けるステップと、前記脱着フレームに前記ペリクルフレームが設けられた前記マスクを載置するステップと、前記ペリクルフレームの第１の辺に沿って設けられた押圧パッドを前記ペリクルフレームの前記第１の辺の押圧位置に移動させるステップと、前記押圧パッドによって、前記ペリクルフレームの前記第１の辺において前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップと、前記ペリクルフレームの前記第１の辺の隣の第２の辺が前記押圧パッドに沿う角度まで前記脱着フレームが設けられたベースプレートを回転させ、前記押圧パッドを前記ペリクルフレームの前記第２の辺の押圧位置に移動させるステップと、前記押圧パッドによって、前記ペリクルフレームの前記第２の辺において前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップとを備えるものである。マスク又はペリクルフレームのサイズが異なる場合であっても、容易にペリクルを装着することができる。

本発明の第１５の態様にかかるペリクル装着方法は、上記のペリクル装着方法であって、前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップでは、吸着面に対して吸着可能に設けられた吸着パッドと前記吸着面との間の空間を排気して、前記吸着パッドの内外の圧力差に基づいて押圧するものである。これにより、確実なペリクルの装着を容易に行うことができる。

本発明の第１６の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着方法であって、前記第２の辺において前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップの後に、前記ベースプレートを回転させ、前記押圧パッドを前記ペリクルフレームの前記第１の辺の押圧位置に移動させるステップと、前記第１の辺において前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップでの圧力よりも高い圧力で、前記第１の辺において前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップとをさらに備えるものである。これにより、確実にペリクルを装着することができる。

本発明の第１７の態様にかかるペリクル装着方法は、枠状のペリクルフレームに設けられたペリクルを、前記ペリクルフレームに設けられた接着層を介して、マスクに装着するペリクル貼付方法であって、ベースプレートに、前記ペリクルフレームに対応した形状を有する脱着フレームを取り付けるステップと、前記脱着フレームに前記ペリクルフレームが設けられた前記マスクを載置するステップと、前記ペリクルフレームの辺に沿って設けられた押圧パッド及び前記ベースプレート上の吸着面に対して吸着する吸着パッドを備える押圧ブロックを押圧位置に移動させるステップと、前記ペリクルフレームの外側に配置されている前記吸着パッドを前記吸着面に対して吸着するステップと、前記吸着パッドの内外の圧力差に基づいて前記押圧パッドにより前記ペリクルフレームを押圧するステップとを備えるものである。これにより、異なるサイズのペリクルフレーム又はマスクを用いた場合であっても、確実なペリクルの装着を容易に行うことができる。

本発明の第１８の態様にかかるペリクル装着装置は、上記のペリクル装着方法であって、 前記脱着フレームに前記マスクを載置するステップの後に、前記ペリクルフレームをペリクル保持具によって保持するステップと、前記ペリクル保持具を前記脱着フレームと対向する位置に移動するステップと、前記ペリクルフレームの前記接着層と前記マスクとを接触させて、前記マスクに前記ペリクルフレームを仮貼りするステップとを備え、前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップでは、前記マスクに仮貼りされた前記ペリクルフレームを前記押圧パッドで前記マスクに押圧するものである。これにより、ペリクルフレームを仮貼りすることができる。

本発明の第１９の態様にかかるパターン基板の製造方法は、上記のペリクル装着方法によってペリクルをマスクに装着するステップと、前記ペリクルが装着されたマスクを用いて基板を露光するステップと、前記露光された基板を現像するステップとを備えるものである。これにより、生産性を向上することができる。

本発明によれば、マスク又はペリクルフレームのサイズが異なる場合であっても、簡易な構成でペリクルを装着することができるペリクル装着装置及びペリクル装着方法を提供することができる。

以下に、本発明を適用可能な実施の形態が説明される。以下の説明は、本発明の実施形態を説明するものであり、本発明が以下の実施形態に限定されるものではない。説明の明確化のため、以下の記載及び図面は、適宜、省略及び簡略化がなされている。又、当業者であれば、以下の実施形態の各要素を、本発明の範囲において容易に変更、追加、変換することが可能である。尚、各図面において、同一要素には同一の符号が付されており、説明の明確化のため、必要に応じて重複説明は省略する。

本発明にかかるペリクル装着装置は、ペリクルフレームに張設されたペリクルをフォトマスクに装着するための装置である。通常、ペリクルフレームは、矩形状のフォトマスクに形成されたパターン領域の外側を囲むように配置されている。ペリクルフレームはフォトマスク基板の形状に対応しており、矩形の外周を有する枠状に設けられている。ペリクルは、ペリクルフレームにより保持され、フォトマスクのパターン形成面と所定の間隔を置いて張設されている。このような、枠状のペリクルフレームの下面、すなわち、フォトマスク側の面には、粘着性の接着層が設けられている。本実施の形態にかかるペリクル装着装置では、フォトマスク上に配置されたペリクルフレームを上から押圧している。これにより、粘着層を介してフォトマスクとペリクルフレームが貼り付けられる。よって、フォトマスクにペリクルを装着することができる。

本実施の形態にかかるペリクル装着装置について図１を用いて説明する。図１は、本実施の形態にかかるペリクル装着装置１００の構成を模式的に示す正面図であり、図１（ｂ）はペリクル装着装置の構成を模式的に示す側面図である。ペリクル装着装置１００は、架台１と、キャスター２と、ベースプレート３と、脱着フレーム４と、押圧機構５と、押圧ブロック６と、位置決め穴７と、ガイドプレート８と、スライド機構９と、回転機構１０と、連結部材１２と、浮上機構１４と、スライドレール１５とを備えている。

ベースプレート３は、例えば、正方形状の平板であり、例えば、１辺が約１６００ｍｍの大きさである。ベースプレート３は鉛直方向から傾いて配置されている。このペリクル装着装置１００では、例えば、１辺が５００ｍｍ〜１５００ｍｍまでのフォトマスクにペリクルを装着することができる。ここで、鉛直方向に対するベースプレート３の傾斜角度は１０°〜３０°とすることが好ましく、１５°することがさらに好ましい。このベースプレート３の正面側には、額縁状の脱着フレーム４が取り付けられる。脱着フレーム４の内側に、ペリクルフレームが仮貼りされたフォトマスクを配置する。例えば、フォトマスクと脱着フレーム４とを嵌合し、フォトマスクを固定する。あるいは、フォトマスクを脱着フレーム４の中に載置して、その上からペリクルフレームを仮貼りしてもよい。フォトマスクも鉛直方向に対して１５°〜３０°傾いて配置される。本発明では、ペリクルを貼り付けるフォトマスクの大きさに応じて異なる大きさの脱着フレーム４が用いられる。ここで、ベースプレート３の鉛直方向における中心線を１１とする。水平方向に沿って設けられた中心線１１がフォトマスクの中心高さとなる。

ベースプレート３の正面側には、脱着フレーム４を位置決めするための位置決め穴７が形成されている。脱着プレート４に設けた位置決めピンと、ベースプレート３に設けた位置決め穴７とが嵌合して、脱着フレーム４が固定される。これにより、この位置決め穴７によって脱着フレーム４を正確な位置に配置することができる。位置決め穴７は、フォトマスクのサイズに応じて複数設けられている。図１では１２つの位置決め穴７が示されている。具体的には、ベースプレート３の中心線１１上に４つの位置決め穴７が図示されている。中心線１１の下方に８つの位置決め穴７が図示されている。中心線１１上の４つの位置決め穴７は、水平方向、すなわち横方向に沿って配設されている。また、中心線１１よりも下側に配設された８つの位置決め穴７のうちの４つの位置決め穴７が鉛直方向、すなわち、縦方向に沿って配置されている。従って、中心線１１の下側では、位置決め穴７が縦２列に配置されている。さらに、位置決め穴７は脱着フレーム４により隠れた位置にも配置されている。各列の位置決め穴７は等間隔に配置、形成されている。従って、本実施の形態にかかるペリクル装着装置１００のベースプレート３には、各列５個、全１５個の位置決め穴７が形成されている。このように、本実施の形態では、ベースプレート３には、縦方向の２列と、横方向の１列との計３列の位置決め穴７が形成されている。

ここで、異なる大きさのフォトマスクに対しては、異なる大きさの脱着フレーム４が用いられる。すなわち、フォトマスクのサイズに応じて異なる脱着フレーム４をベースプレート３に載置する。脱着フレーム４の背面側には位置決め穴７に嵌合する位置決めピンが形成されている。本実施の形態では、脱着フレーム４に３つの位置決めピンが形成されている。この３つの位置決めピンは各列１つずつの位置決め穴７と嵌合する。すなわち、額縁状の脱着フレーム４の下辺部分に２つ、左辺部分に１つの位置決めピンが形成されている。これにより、３箇所で位置決めを行なうことができる。よって、正確に脱着フレーム４の位置合わせを行なうことができる。３つの位置決め穴７に位置決めピンをそれぞれ挿入することで、ベースプレート３に対する脱着フレーム４の位置合わせを行なうことができる。

例えば、本発明にかかるペリクル装着装置で装着可能なフォトマスクサイズで最も大きいフォトマスクに対しては、最も大きい脱着フレーム４が用いられる。そして、最も大きい脱着フレーム４は、最も外側の３つの位置決め穴７により位置決めされる。すなわち、中心線１１上に設けられた位置決めピンのうち最も左側に配置された位置決め穴７と、中心線１１より下側に設けられた位置決めピンのうち最も下側に配置された２つの位置決め穴７によって位置決めされる。換言すると、最大の脱着フレーム４の背面側には、この３つの位置決め穴７に対応する位置に３つの位置決めピンが形成されている。一方、最も小さいフォトマスクには、最も内側の位置決め穴７に対応する大きさの脱着フレーム４が用いられる。このように、位置決め穴７を複数形成することで、フォトマスクの大きさに応じたサイズの脱着フレーム４をベースプレート３に載置することができる。すなわち、ベースプレート３には想定されるマスクサイズに対応する脱着フレーム４を装着できるよう、位置決め穴７を複数形成する。位置決め穴７の位置は、ペリクル装着装置１００で装着可能なフォトマスクのサイズに応じて設定する。なお、位置決め穴７の構成は上記の位置に限られるものではない。また、１つの脱着フレームに対する位置決め穴の数は３つに限られるものでない。すなわち、位置決めを行なう箇所は２箇所でもよく、４箇所以上でもよい。

ベースプレート３の背面側にはガイドプレート８が設けられている。ガイドプレート８の幅は、ベースプレート３の幅よりも広くなっている。すなわち、ベースプレート３の左右両側に、ガイドプレート８がはみ出す構成となる。ガイドプレート８は矩形状の平板であり、ベースプレート３と平行に配置される。

さらに、ガイドプレート８の背面側には、フォトマクスの各辺に対して操作するためにフォトマスクを回転するため、ベースプレート３の回転機構１０が設けられている。回転機構１０は、背面側に設けられた架台１に取り付けられている。回転機構１０の回転軸は、ベースプレート３の中心に位置し、ペースプレートの前面に対して垂直である。この回転機構１０はベースプレート３を少なくとも９０°回転させる。例えば、ガイドプレート８の中央部分には、貫通口が設けられており、ベースプレート３に回転機構１０が直接取り付けられる。回転機構１０には架台１に固定された固定板及び固定板とベースプレート３の間に配置されたベアリングなどを備えている。そして、モータ等の駆動手段（図示せず）を駆動することによって、ベースプレート３を回転させることができる。

回転機構１０が設けられた架台１には、キャスター２が取り付けられている。これにより、ペリクル装着装置１００を自在に移動させることができる。これにより、建屋内の任意の場所でペリクルを装着することができる。なお、キャスター２をロックすることにより、ペリクル装着装置１００の位置を固定することも可能である。

ガイドプレート８のベースプレート３からはみ出した部分、すなわち、図２の左右両端の領域には、押圧機構５が設けられている。すなわち、このはみ出した部分が、押圧機構５を退避させる箇所となる。換言すると、ベースプレート３を回転させるときには、押圧機構５と脱着フレーム等とが干渉しないよう、押圧機構５を外側に退避させる。押圧機構５はベースプレート３の左右両側にそれぞれ設けられる。すなわち、ガイドプレート８の右側の端部近傍と、左側の端部近傍にそれぞれ押圧機構５が配置される。従って、脱着フレーム４は、２つの押圧機構５の間に配置される。押圧機構５は、脱着フレーム４の右辺及び左辺に沿って設けられている。押圧機構５のそれぞれは縦方向に沿って配置された複数の押圧ブロック６と、複数の押圧ブロック６を連結する連結部材１２とを備えている。また、複数の押圧ブロック６はそれぞれ離間して配置されている。押圧機構５の長さは、装着可能なペリクルフレームのうち最大のペリクルフレームの辺の長さよりも長くなっている。換言すると、押圧ブロック６で押圧することができる領域は、ペリクルフレーム４１の辺の長さよりも長くなっている。

なお、本実施の形態では、それぞれの押圧機構５には、１２個の押圧ブロック６が設けられている。すなわち、縦方向に沿って１２個の押圧ブロック６が配列されている。そして、１２個の押圧ブロック６が連結部材１２によって連結されている。連結部材１２は、例えば、ロッド状又は板状の部材である。連結部材１２は、水平方向における１２個の押圧ブロック６の位置が同じ位置になるように、押圧ブロック６を連結している。これにより、横方向における、押圧ブロック６の内側の位置、すなわち、脱着フレーム４側の位置は一定となる。複数の押圧ブロック６はそれぞれ同じ構成を有している。押圧機構５の各押圧ブロック６はペリクルフレームを上から押圧する。これにより、ペリクルフレームに張設されたペリクルをフォトマスクに対して装着することができる。押圧ブロック６の構成については後述する。

押圧機構５の上端及び下端には、押圧機構５を移動させるためのスライド機構９が設けられている。スライド機構９は押圧機構５と脱着フレーム４の距離を変化させるよう、押圧機構５をスライドさせる。スライド機構９は、例えば、浮上機構１４を介して押圧機構５の連結部材１２と接続される。さらに、スライド機構９はスライドレール１５を介して、ガイドプレート８の背面側に取り付けられている。このスライド機構９をモータやシリンダーなどの駆動手段（図示せず）を用いて動作させることによって、押圧機構５が横方向にスライドする。すなわち、押圧機構５がベースプレート３の表面と平行な方向にスライドする。具体的には、図１に示す位置から、左側の押圧機構５が右側に移動し、右側の押圧機構５が左側に移動する。すなわち、押圧機構５がスライド機構９によって脱着フレーム４に近づく方向に移動する。

また、スライド機構９に固定された浮上機構１４は押圧ブロック６をベースプレート３から浮上させることができる。浮上機構１４によって押圧ブロック６が浮上した状態で押圧機構５が移動する。これにより、押圧ブロック６がベースプレート３から離間した状態で、押圧機構５がスライドする。そして、押圧機構５によって押圧するときには、浮上機構１４による浮上を停止して、押圧ブロック６をベースプレート３に接触させる。

ここで、押圧機構５が水平方向に移動した状態を図２に示す。図２は、押圧機構５が水平方向に移動した状態のペリクル装着装置１００の構成を模式的に示す正面図である。押圧機構５は図２に示すように、脱着フレーム４に対応する位置まで、移動する。すなわち、脱着フレーム４の外側に配置された押圧機構５を脱着フレーム４に近づくよう移動させる。このとき、浮上機構１４によって、押圧ブロック６を浮上した状態で、押圧機構５を移動させる。そして、押圧機構５を押圧位置まで移動したら浮上を停止する。その後、浮上機構１４による浮上を停止して、押圧ブロック６をベースプレート３に接触させる。この状態で、押圧機構５はペリクルフレームに対する押圧動作を行なう。これにより、ペリクルフレームの対向する２辺、具体的には左辺と右辺とを一定の圧力で押圧することができる。

この押圧機構５を用いたペリクル装着の手順について説明する。まず、図１に示すように、押圧機構５をベースプレート３の外側に退避した状態で、フォトマスクサイズに応じた脱着フレーム４をベースプレート３に載置する。そして、脱着フレーム４にペリクルフレームが仮貼りされたフォトマスクを載置する。そして、浮上機構１４によって押圧機構５を浮上させた状態で、押圧機構５を内側にスライド移動すると、図２に示す状態となる。そして、浮上機構１４による浮上を停止して、押圧ブロック６をベースプレート３に接触させる。この状態で、押圧機構５の押圧動作を行なう。これによって、ペリクルフレームの対向する２辺、具体的には左辺と右辺とを一定の圧力で押圧することができる。ペリクルフレームをフォトマスクに対して圧着することができる。そして、押圧動作が終了したら、押圧ブロック６を浮上させる。この状態で押圧機構５を水平方向に移動する。すなわち、押圧機構５がスライド機構９によって脱着フレーム４に離れる方向に移動する。これにより、押圧機構５がベースプレート３の外側に退避され、再び、図１に示す状態になる。

図１に示す状態で、ベースプレート３を９０°回転させる。ここでは、ベースプレート３の中心を回転中心として回転させている。また、半時計周りに、ベースプレート３を９０°回転させている。これにより、図３に示す状態になる。中心線１１上に配置されていた位置決め穴７が中心線１１の下側に配置され、中心線１１より下側に配置されていた位置決め穴７が右側半分に配置される。すなわち、１５個の位置決め穴７は、縦１列、横２列に配置される。ここでは、押圧機構５を退避させているため、ベースプレート３を回転させても、押圧機構５と脱着フレーム等とが接触しない。

この状態で、押圧機構５をペリクルフレームに近づけるよう移動する。すなわち、スライド機構９によって、右側の押圧機構５を左方向に移動し、左側の押圧機構５を右方向に移動する。これにより、図４に示す状態となる。この状態では、図２に示す状態と同様に、脱着フレーム４に対応する位置まで、移動する。そして、浮上機構１４による浮上を停止して、押圧ブロック６をベースプレート３に接触させる。その後、押圧機構５によってペリクルフレームに対する押圧動作を行なう。これにより、ペリクルフレームの対向する２辺を一定の圧力で押圧することができる。なお、図２の状態と図４の状態では、ベースプレート３が９０°回転している。すなわち、図２に示す状態では、上側と下側に配置されたペリクルフレームの上辺と下辺が、図４に示す状態になると、右側と左側に配置される。よって、図２に示す状態で押圧される２辺と図４に示す状態で押圧される２辺は異なる２辺である。換言すると、ベースプレート３を９０°回転させているため、ペリクルフレームの隣の辺が押圧される。２回の押圧動作でペリクルフレームの全４辺を押圧することができる。これにより、ペリクルフレームの全周に対して均一な圧力を加えることができる。そして、再度、押圧機構５を外側に移動させて、図３に示す状態とする。これにより、ペリクルが装着されたフォトマスクを取り出すことができる。

このように、２辺ずつ押圧する構成を用いることによって、装置構成を簡易なものとすることができる。特に、１辺が１ｍ以上になるような大型のフォトマスクに対して好適である。また、フォトマスクを傾斜した状態で貼り合わせているため、フォトマスクの大型化に伴う装置の設置スペースの増大を低減することができる。

なお、発塵を防ぐため、脱着フレーム４をベースプレート３に対して真空吸着により固定することが好ましい。これにより、固定時の発塵によるペリクル及びフォトマスクの汚染を防ぐことができる。すなわち、ネジ等を用いて機械的な接触により固定した場合、脱着フレームの取付時及び取り外し時に、接触部から発塵が生じてしまうおそれがある。このような発塵が生じた場合、フォトマスク及びペリクルに異物が付着してしまう。これを防ぐため、本実施の形態では、真空吸着によって脱着フレーム４を固定することができる。また、真空吸着によって固定することにより、脱着時間を短縮することができる。これにより、処理時間を短縮することができ、生産性を向上することができる。

次に、脱着フレーム４を真空吸着でベースプレート３に取り付けるための構成について図５及び図６を用いて説明する。図５は、脱着フレーム４を取付面側の構成、すなわち、ベースプレート３側から見た時の構成を示す平面図である。図６はベースプレート３に取り付けられた脱着フレーム４の構成を示す断面図である。２１は位置決めピン、２２は吸着溝、２３はＯリング、２５は配管接続部、２６は接続配管、２７は配管接続部、２８は真空配管、２９はバルブ、３０は真空ポンプ、３２は貫通口である。

脱着フレーム４の取付面側には真空吸着を行なうための吸着溝２２が形成されている。吸着溝２２は額縁状の脱着フレーム４の上側、下側、左側及び右側にそれぞれ設けられている。それぞれの吸着溝２２の周りには、吸着溝２２を囲むようにＯリング２３が配設されている。Ｏリング２３は脱着フレーム４に設けられたＯリング溝に嵌め込まれる。脱着フレーム４には、吸着溝２２及びＯリング２３がそれぞれ４つ設けられている。

図６に示すように脱着フレーム４の上面側には段差が設けられている。脱着フレーム４はその内側が低い下段になっており、外側が高い上段になっている。下段の上面にフォトマスクが載置される。従って、内側の下段の上面がフォトマスクの載置面となる。また、上段の側面によって、フォトマスクの横方向の位置が規制される。すなわち、脱着フレーム４の上段の内周面の位置は、フォトマスク４０の大きさに応じて設定される。なお、図５に示すように上段の側面をテーパ形状としてもよい。

また、枠状の脱着フレーム４の内側側面には、配管接続部２５が配設されている。そして、４つの内側側面には、それぞれ２つの配管接続部２５が設けられている。それぞれの吸着溝２２からその近傍の配管接続部２５までの間が、脱着フレーム内部において連通している。そして、各配管接続部２５は隣の側面の配管接続部２５と接続配管２６を介して接続されている。これにより、４つの吸着溝２２の全てが接続配管２６を介して連通する。

さらに、脱着フレーム４の内側側面には、配管接続部２７が設けられている。配管接続部２７はフォトマスクを載置する載置面よりもベースプレート３側に設ける。これにより、配管接続部２７がフォトマスクに干渉するのを防ぐことができる。脱着フレーム４の内部において、吸着溝２２から配管接続部２７までの間が連通している。配管接続部２７には、真空配管２８が接続されている。配管接続部２７には、真空配管２８に対する取付、取り外しを容易に行うことができるものを用いる。これにより、脱着フレーム４の脱着時の真空配管８の取り付け及び取り外しを容易に行うことができる。よって、脱着フレーム４を容易に脱着することができ、作業性を向上することができる。ベースプレート３には、真空配管２８を通すための貫通口３２が設けられている。貫通口３２はベースプレート４の中央近傍に形成され、脱着フレーム４の内側に配置する。また、貫通口３２は、どの大きさの脱着プレート４に対しても内側になる位置に形成する。すなわち、貫通口３２は位置決め穴７よりも内側に形成する。また、貫通口３２を回転軸の中央近傍に形成することによって、ベースプレート３の回転時において真空配管２９に発生する張力を低減することができる。ベースプレート３の背面側から表面側に真空配管２８を配設することができる。貫通口３２を通過した真空配管２８は、バルブ２９を介して真空ポンプ３０と接続されている。バルブ２９を開けることによって、吸着溝２２からエアが排気される。

脱着フレームの取付手順及び取外し手順について説明する。図６に示すように、ベースプレート３の位置決め穴７と脱着フレームの背面側に設けられた位置決めピン２１とを嵌合させる。これにより、ベースプレート３に対する脱着フレームの位置合わせが行なわれる。位置決めピン２１と位置決め穴７とを嵌合させた状態で、配管接続部２７に真空配管２８を取り付ける。真空配管２８を取り付けたらバルブ２９を開けて真空ポンプ３０で排気する。これにより、吸着溝２２の空気が排気され、脱着フレーム４をベースプレート３に吸着させることができる。これにより、脱着フレーム４がベースプレート３に対して固定される。そして、吸着したまま、ペリクルの装着を行なう。

ペリクルの装着が終了したら、バルブ２９を閉めて、吸着を停止する。そして、吸着溝２２を大気圧として、真空配管２８を配管接続部２７から取り外す。これにより、脱着フレーム４をベースプレート３から取り外すことができる。さらに、異なるサイズの脱着フレーム４を用いる場合は、同じ手順で、異なるサイズの脱着フレーム４を取り付ける。このようにして、脱着フレーム４の着脱が行なわれる。

本実施の形態では、吸着溝２２を４箇所に設けているため、脱着フレーム４をベースプレート３に対して均一に吸着することができる。これにより、脱着フレーム４のフォトマスクを載置する載置面を平坦にすることができ、ペリクルフレームの高さを均一にすることができる。よって、ペリクルフレーム全体を均一に加圧することができる。さらに、ベースプレート３に貫通口を設けることによって、真空配管２８をフォトマスクの背面側から通すことができる。よって、脱着フレーム４の内側に真空配管２８を設けた場合でも、背面側から排気することができる。この構成では、ペリクルの前面側に吸着するための構造物が配置されないため、ペリクルに異物が付着するのを防ぐことができる。

なお、位置決めピン２１と位置決め穴７との接触による発塵を防ぐため、位置決めピン２１は、位置決め穴７よりも若干小さくする。すなわち、位置決めピン２１と位置決め穴７との間にクリアランスを設ける。また、位置決め穴７には、ベースプレート３よりも硬い材質からなるブッシュを埋め込んでもよい。もちろん、上記の構成以外の構成で、脱着フレーム４を固定してもよい。

次に、押圧機構５に設けられた押圧ブロック６の構成について図７及び図８を用いて説明する。図７は、押圧ブロック６の構成を示す側面断面図である。図７では、押圧ブロック６がペリクルフレームを押圧するときの構成を示している。また、図７は浮上機構１４による浮上を停止した状態を示している。図８は押圧ブロック６のベースプレート側の構成を示す平面図である。すなわち、図８は背面側から押圧ブロック６を見た時の構成を示している。

上記のように、ベースプレート３の上には、脱着フレーム４が取り付けられている。この脱着フレーム４には、フォトマスク４０が載置されている。脱着フレーム４上のフォトマスク４０には、接着層４２を介してペリクルフレーム４１が仮貼りされている。ペリクルフレーム４１の上面には、ペリクル４３が張設されている。すなわち、ペリクルフレーム４１の下面には接着層４２、上面にはペリクル４３が設けられている。ペリクルフレーム４１はフォトマスク４０のパターン形成領域の外側に配設されている。

押圧ブロック６は、本体ブロック５１と、本体ブロック５１に固定された吸着パッド５２と、支点パッド５３と、吸引コネクタ５４と、吸引配管５５と、吸引口５６と、位置決めブロック５８と、位置決めパッド５９、押圧パッド６０とを備えている。

本体ブロック５１はペリクルフレーム４１の外側に設けられた脱着フレーム４の上をまたぐように配置されている。すなわち、本体ブロック５１は脱着フレーム４の外側から内側に突出している。この本体ブロック５１の突出した部分の先端の下側には、押圧パッド６０が取り付けられている。すなわち、本体ブロック５１の内側には、押圧パッド６０が設けられている。押圧パッド６０は例えば、テフロン（登録商標）からなる半円柱状の部材である。また、押圧パッド６０は、直径１０ｍｍの半円柱状とすることができる。本体ブロック５１の突出した部分の先端の下側には、押圧パッド６０を嵌め込むための凹部が形成されている。押圧パッド６０は、ペリクルフレーム４１の上に位置する。そして、押圧パッド６０の下面が、ペリクルフレーム４１に設けられたペリクル４３と接触している。この押圧パッド６０がペリクル４３が設けられたペリクルフレーム４１をフォトマスク４０に対して押圧する。押圧パッド６０は、約１２５ｍｍの長さである。すなわち、一つの押圧ブロック６がペリクルフレーム４１の約１２５ｍｍの領域を押圧する。もちろん、押圧パッド６０の形状は半円柱状に限られるものではなく、例えば、円柱状であってもよい。すなわち、柱状の押圧パッド６０が設けられている方向と垂直な方向における当該押圧パッド６０の断面がペリクルフレーム側において円弧状となっていればよい。

そして、脱着フレーム４１の外側において本体ブロック５１には、位置決めパッド５９を有する位置決めブロック５８が設けられている。位置決めブロック５８及び位置決めパッド５９は、押圧パッド６０よりも下に配置されている。位置決めパッド５９及び位置決めブロック５８はベースプレート３と離間して形成されている。位置決めブロック５８は脱着フレーム４の外側に位置するように設けられている。そして、位置決めパッド５９の内側側面が脱着フレーム４の外側側面に当接するように配置されている。すなわち、位置決めパッド５９の内側側面が脱着フレーム４と当接する当接面となる。押圧機構５の移動時には、位置決めパッド５９が脱着フレーム４の外側側面と当接するまで移動させる。換言すると、押圧機構５の移動中に位置決めパッド５９の当接面が脱着フレーム４の外側側面と当接すると移動が停止する。そして、当接している状態で押圧動作を行なう。これにより、押圧ブロック６を正確に位置決めしていた状態で、押圧動作を行なうことができる。すなわち、位置決めパッド５９の当接面から押圧パッド６０までの横方向の距離は一定であるので、この距離に基づいて脱着フレーム４の外形を設定する。これにより、ペリクルフレーム４１上に押圧パッド６０を配置することができる。よって、枠状のペリクルフレーム４１の幅方向の中心を押圧することができる。位置決めパッド５９は、例えば、ウレタンなどの弾性体としてもよい。これにより、位置決めパッド５９が脱着フレーム４との衝突による衝撃を緩和するためのクッション層として機能する。

このように脱着フレーム４の外周面の位置はペリクルフレーム４１の大きさに応じて変化する。脱着フレーム４の内周面の位置は、フォトマスク４０の大きさに応じて変化する。従って、脱着フレーム４を複数用意することにより、様々な大きさのフォトマスク４０に対してペリクルフレーム４１を貼着することができる。さらに、脱着フレーム４の外周面の位置を変化させることにより、同じ大きさのフォトマスク４０であっても、異なる位置にペリクルフレーム４１を貼着することができる。すなわち、同じ大きさのフォトマスク４０であっても、形成パターンが異なる場合、フォトマスク上の異なる位置にペリクルフレーム４１を貼着する必要がある。この場合、ペリクルフレーム４１の貼着位置に応じて脱着フレーム４の外形を異なる大きさにすればよい。これにより、押圧ブロック６が静止する位置が変化するため、フォトマスク４０の端辺から押圧パッド６０までの距離が変化する。従って、同じ大きさのフォトマスク４０に対して、ペリクルフレーム４１を異なる位置に貼着することができる。脱着フレーム４の枠の幅をフォトマスク４０のペリクルフレーム装着位置に応じて変化させる。

さらに、ベースプレート３から、押圧パッド６０までの高さは一定であるため、フォトマスク４０及びペリクルフレーム４１の厚みに応じて、脱着フレーム４の厚みを変化させる。すなわち、フォトマスク４０とペリクルフレーム４１との厚みの和が大きくなった場合、脱着フレーム４の下段の高さを低くする。これにより、載置面が下がり、ベースプレート３の上面からペリクルフレーム４１までの高さを一定にすることができる。よって、様々な厚みのフォトマスク４０及びペリクルフレーム４１に対して、ペリクル４３を装着することができる。

このようにフォトマスク４０の大きさに応じて、脱着フレーム４の内側の大きさを設定し、ペリクルフレーム４１の大きさに応じて、脱着フレーム４の外側の大きさを設定し、フォトマスク４０及びペリクルフレーム４１の厚みの合計に応じて、脱着フレーム４の厚みを設定する。これにより、様々なタイプのフォトマスク４０及びペリクルフレーム４１に対して、ペリクル４３を装着することができる。

脱着フレーム４１の外側において本体ブロック５１の下方には、吸着パッド５２が設けられている。吸着パッド５２は、位置決めブロック５８の外側に位置する。すなわち、吸着パッド５２は、ペリクルフレーム４１及び脱着フレーム４の外側に配置される。吸着パッド５２は、例えば、ゴムなどからなる吸盤状のパッドである。また、吸着パッド５２は直径１１０ｍｍ程度の円形とすることができる。吸着パッド５２は、ベースプレート３に対して略接触している。吸着パッド５２の上側には、本体ブロック５１に吸引口５６が設けられている。吸引口５６は吸着パッド５２と連通している。さらに吸引口５６の上には、吸引コネクタ５４が取り付けられている。吸引コネクタ５４は吸引配管５５に接続されている。また、吸引コネクタ５４は外側からの吸引配管５５を接続するため、Ｌ字型に設けられている。吸引配管５５は、押圧機構５の移動を阻害にしないようにたわみを持って設けられている。吸引配管５５の一端は、真空ポンプ（図示せず）に接続されている。従って、吸引配管５５から、吸引コネクタ５４及び吸引口５６を介して、吸着パッド５２とベースプレート３の間の空間を排気することができる。これにより、吸着パッド５２が変形して、ベースプレート３上の吸着面に対して吸着する。なお、隣接する吸着パッド５２の間に、図１に示す位置決め穴７が配置されるようにする。これにより、吸着パッド５２が設けられている領域と設けられていない領域の境界に位置決め穴７が配置されるのを防ぐことができる。よって、吸引時に、位置決め穴７からの空気のリークを防ぐことができ、所定の圧力で押圧することができる。

本体ブロック５１の下側には支点パッド５３が設けられている。すなわち、支点パッド５３は、吸着パッド５２の外側に配置される。すなわち、支点パッド５３と押圧パッド６０の間に、吸着パッド５２が配置される。支点パッド５３の下面は、ベースプレート３と接触している。支点パッド５３は、図８に示すように、本体ブロック５１の角近傍の２点に設けられている。すなわち、支点パッド５３は本体ブロック５１の両端に配置されるよう、離間して設けられている。ここで、本体ブロック５１に設けられた２つの支点パッド５３と吸着パッド５２とがベースプレート３と接触する。また、押圧パッド６０はペリクルフレーム４１の上に張設されたペリクル４３と接触する。

このように、外側から支点パッド５３、吸着パッド５２、押圧パッド６０の順番で配置する。そして、支点パッド５３及び吸着パッド５２は下面がベースプレート３と接触し、押圧パッド６０は下面がペリクルフレーム上のペリクル４３と接触する。ここで、吸着パッド５２とベースプレート３との間の空気を排気して、吸着パッド５２をベースプレート３に吸着させた場合について考える。本体ブロック５１の吸着パッド５２の上の位置には、大気圧によって矢印の方向に力が加わる。従って、大気圧によって本体ブロック５１が上から押圧される。すなわち、押圧ブロック６がベースプレート３に対して押し付けられる。

ここで、ベースプレート３と接する支点パッド５３は、高さが略一定であるため、支点パッド５３の位置が支点となる。吸着パッド５２の上に力が加わるため、吸着パッド５２の位置が力点となる。これにより、押圧パッド６０の位置が作用点となる。従って、押圧パッド６０には、ペリクルフレーム４１を押す力が発生する。このように、真空吸引することにより、大気の力を利用して、ペリクルフレームを押圧することができる。すなわち、吸着パッド５２の内外の圧力差に基づいて押圧する。具体的には、吸着パッド５２の外側は、雰囲気の圧力、すなわち、大気圧となっており、吸着パッド５２の内側は、排気により減圧状態となっている。従って、吸着パッド５２と吸着面との間の空間と、大気圧との圧力差に基づいて押圧パッド６０に力が加わる。このように、大気圧を利用して押圧することができる。よって、圧縮気体によるプレッシャーで押圧した場合に比べて、より高い接着圧力を容易に得ることができる。さらには、大型のフォトマスク４０に対しても、簡易な構成で押圧することができる。また、支点パッド５３を２つ設けることにより、均一に押圧することができる。例えば、接着層４２に段差がある場合でも、均一に押圧することができる。

上記のように吸着パッド５２を吸着して、押圧動作を行なう。押圧動作が終了したら、吸着パッド５２を大気圧に戻す。そして、浮上機構１４によって、ペリクル４３及びペリクルフレーム４１から押圧パッド６０を離間させる。そして、スライド機構９によって押圧機構５を移動して、押圧機構５をベースプレート３の外側に退避させる。そして、ベースプレート３を９０°回転させ、ペリクルフレーム４１の隣の辺に対して同様に押圧動作を行なう。

押圧ブロック６が下方向に押される力は、吸着パッド５２の大きさと圧力差によって決まる。また、押圧パッド６０がペリクルフレーム４１を押す力は、支点から力点までの距離及び支点から作用点までの距離によって変化する。さらには、押圧ブロック６の下側に配置されるペリクルフレーム４１の長さ及び幅によって、接着圧力が変化する。よって、所望の接着圧力を得ることができるよう、これらの値を考慮して設計する。例えば、支点から力点までの距離と、支点から作用点までの距離の比を１：２とする。また、真空吸着パッドと大気との圧力差を−９０ｋＰａとする。このようにすることにより、所望の圧力で押し付けることができる。もちろん、圧力及び距離は、上記の値に限るものではない。

押圧パッド６０は、半円柱の側面、すなわち、断面が半円状の曲面でペリクルフレーム４１と接触する。これにより、押圧パッド６０をペリクル４３に対して線接触させることができる。すなわち、押圧パッド６０とペリクルフレーム４１上のペリクル４３とが接触する領域は、押圧パッド６０に沿った線状となる。さらに、押圧することにより接着層４２が薄くなった場合でも、線接触のまま、押圧している。すなわち、押圧によって接着層４２の高さが変わり、本体ブロック５１の傾きが変わった場合でも、押圧パッド６０は線状にペリクル４３と接触する。よって、本体ブロック５１の傾きが変わった場合でも、ペリクル４３上で、押圧パッド６０が滑るのを防ぐことができる。これにより、ペリクル４３が破損し、フォトマスク４０やペリクル４３に異物が付着するのを防ぐことができる。

このように１２個の押圧ブロック６にセグメントされた押圧機構５によって、ペリクルフレーム４１を押圧している。これにより、ペリクルフレームや、接着層の厚みの非均一性からくる歪みがあった場合でも、容易に一定の圧力で押し付けることができる。

本発明では、様々な大きさのペリクルフレーム４１を分割された押圧ブロック６によって押圧している。従って、押圧ブロック６によって押圧している領域が異なる。そのため、本発明では、押圧ブロック６毎に異なる圧力で押し付けるための構成を有している。このための構成について図９を用いて説明する。図９は吸着パッド５２の圧力を調整するための圧力調整手段の構成を模式的に示す図である。７１は真空ポンプ、７２はレギュレータ、７３はバルブである。

本実施の形態では、ペリクルフレーム４１の１辺に対応する押圧機構５が１２個の押圧ブロック６にセグメントされている。そして、各押圧ブロック毎に、２系統の排気ラインを設けられている。すなわち、吸引配管５５は、途中で、吸引配管５５ａと吸引配管５５ｂに分岐されている。そして、吸引配管５５ａは、バルブ７３ａを介して、レギュレータ７２ａに接続されている。一方、吸引配管５５ｂはバルブ７３ｂを介して、レギュレータ７２ｂに接続されている。バルブ７３は、例えば電磁弁であり、独立して開閉制御することができる。また、レギュレータ７２ａ、７２ｂは、真空用のレギュレータであり、吸引圧力を所定の値に設定することができる。また、レギュレータ７２ａとレギュレータ７２ｂは異なる圧力に設定する。レギュレータ７２ａ及びレギュレータ７２ｂは、真空ポンプ７１に接続されている。従って、バルブ７３ａ、７３ｂの開閉を切り替えることにより、レギュレータ７２ａ又はレギュレータ７２ｂで設定された圧力で、吸引することができる。

ここで、ペリクルフレーム４１の角部に対応する押圧ブロック６を押圧ブロック６ａとする。また、押圧ブロック６ａよりも内側の押圧ブロック６を押圧ブロック６ｂとし、押圧ブロック６ａよりも外側の押圧ブロック６を押圧ブロック６ｃとする。すなわち、上から１、２、１１、１２番目の押圧ブロック６が押圧ブロック６ｃとなり、上から３、１０番目の押圧ブロック６が押圧ブロック６ａとなり、上から４−９番目の押圧ブロック６が押圧ブロック６ｂとなる。押圧ブロック６ｂの下には、ペリクルフレーム４１の角部と角部の間の部分が配置される。すなわち、押圧ブロック６ｂの下には枠状のペリクルフレーム４１の直線状の部分が配置される。押圧ブロック６ｃの下には、ペリクルフレーム４１が配置されない。押圧機構５の長さは、装着可能なペリクルフレームのうち最も大きいペリクルフレームよりも長くなっているため、押圧ブロック６のうちの一部の押圧ブロック６ｃはペリクルフレーム４１の外側にはみ出している。

ペリクルフレーム４１を均一に押圧するため、押圧ブロック６ａに対しては、バルブ７３ａを開けて、バルブ７３ｂを閉じる。一方、押圧ブロック６ｂについては、バルブ７３ｂを開けて、バルブ７３ａを閉じる。これにより、押圧ブロック６ａの吸着パッド５２は、レギュレータ７２ａで設定される圧力で吸引され、押圧ブロック６ｂの吸着パッド５２はレギュレータ７２ｂで設定される圧力で吸引される。ペリクルフレーム４１のコーナー部分では、その他の部分と下側に配置される形状が異なる。従って、押圧ブロック６ａと押圧ブロック６ｂとでは、下側に配置されるペリクルフレーム４１の面積が異なる。接着圧力を均一にするため、ペリクルフレーム４１のコーナー部分に対応する押圧ブロック６ａは、押圧ブロック６ｂと異なる吸引圧力を設定する。これにより、押圧ブロック６ａ及び押圧ブロック６ｂを同じ押圧にすることができる。すなわち、角部分に対応する押圧ブロック６ａの接着圧力と辺部分に対応する押圧ブロック６ｂの接着圧力とを同じにするため、吸引圧力を別々に設定する。なお、押圧ブロック６ｃの下にはペリクルフレーム４１が配置されないので、押圧ブロック６ｃに対しては、バルブ７３ａ及びバルブ７３ｂを閉じる。すなわち、押圧ブロック６ｃに設けられた吸着パッド５２は大気圧となる。これにより、ベースプレートに余分な負荷がかかるのを防ぐことができる。

次に上記のレギュレータ７２ａ及びレギュレータ７２ｂの圧力の設定について図１０を用いて説明する。図１０はペリクルフレーム４１上に配置された押圧ブロック６ａ及び押圧ブロック６ｂの構成を模式的に示す上面図である。例えば、図１０に示すように押圧ブロック６ａの下側に配置されるペリクルフレーム４１の長さをＡとし、押圧ブロック６ｂの下側に配置されるペリクルフレーム４１の長さをＢとする。ここで、ペリクルフレーム４１の長さは、押圧ブロック６ｂの下に配置されているペリクルフレーム４１の方向に沿った方向の長さとする。すなわち、押圧ブロック６ａの押圧パッド６０がペリクルフレーム４１と接する長さがＡとなり、押圧ブロック６ｂの押圧パッド６０がペリクルフレーム４１と接する長さがＢとなる。

ここで、レギュレータ７２ａ、７２ｂの圧力は、長さＡと長さＢの比に基づいたものとする。具体的には、大気圧と吸引配管５５ｂとの差圧が、大気圧と吸引配管５５ａとの差圧のＢ／Ａ倍になるようにする。よって、吸引配管５５ｂの圧力は、吸引配管５５ａよりも大気圧に近くなるよう設定される。これにより、押圧ブロック６の押圧をペリクルフレーム４１の位置によらず一定にすることができる。このように、ペリクルフレーム４１の角部に対応する押圧ブロック６ａの吸着パッド５２の吸引力を他の押圧ブロック６ｂの吸着パッド５２の吸引力よりも弱くすることで、ペリクルフレーム４１の対向する２辺での押圧を均一にすることができる。よって、確実にペリクルを装着することができる。

さらに、レギュレータ７２を用いることによって、容易に接着圧力を調整することができる。すなわち、自由に接着圧力を変化させることができる。よって、接着圧力を例えば、０．３ＭＰａに容易に設定することができる。さらに、接着層の材質が変わった場合でも、適切な接着圧力で接着することができる。

本発明では、押圧機構５をスライド移動させる際に、押圧ブロック６をベースプレート３から離間することが好ましい。これにより、移動時の摺動によって生じる発塵を防ぐことができる。このための構成について図１１を用いて説明する。図１１は押圧ブロック６に取り付けられた浮上機構１４の構成を示す側面図である。図１１（ａ）は、押圧ブロック６をベースプレート３に接触させた状態を示しており、図１１（ｂ）は押圧ブロック６を浮上させた状態を示している。なお、押圧ブロック６の構成については、図７及び図８に示したものと同様の構成であるため、説明を省略する。また、吸引配管５５及び吸引コネクタ５４の構成については省略して図示している。

図１１（ａ）に示すように、平行リンク機構８１とロータリーシリンダ８４とを備えている。平行リンク機構８１は２枚の板バネ８２を備えている。２枚の板バネ８２は互いに平行になるように連結されている。さらに板バネ８２は、押圧ブロック６の上部に固定された支柱８３に取り付けられている。すなわち、押圧ブロック６には、支柱８３を介して平行リンク機構８１が取り付けられている。さらに、支柱８３には、連結部材１２が取り付けられている。連結部材１２は例えば、複数の押圧ブロック６を連結する円柱状の連結シャフトである。

連結部材１２には、スライド機構９に取り付けられたロータリーシリンダ８４が接続されている。そして、ロータリーシリンダ８４は、連結部材１２を所定の角度だけ回転させることができる。例えば、ロータリーシリンダ８４を矢印の方向に回転させると、図１１（ｂ）に示す状態となる。ここで、ロータリーシリンダ８４はスライド機構９に取り付けられているため、回転の前後で、ベースプレート３の表面とロータリーシリンダ８４の回転軸との距離は一定となる。また、板バネ８２の支柱８３と反対側の端部と、ベースプレート３の表面との距離も一定になっている。したがって、ロータリーシリンダ８４を回転させると、連結部材１２を上方向、すなわち、ベースプレート３から離す方向に力が加わる。これにより、押圧ブロック６がベースプレート３から浮上する。すなわち、押圧ブロック６の支点パッド５３及び吸着パッド５２がベースプレート３から離間する。さらに、平行リンク機構８１が設けられているため、ベースプレート３の表面と平行になっている。このように、押圧機構５の移動時には、浮上機構１４によって、押圧ブロック６をベースプレート３から浮上させることができる。なお、図１１に示した構成は、浮上機構１４の一例であり、押圧ブロック６を浮上させるための構成は上記のものに限られるものではない。

本実施の形態では、脱着フレーム４に載置されたフォトマスク４０の上からペリクルフレーム４１を仮貼りすることも可能である。すなわち、ペリクルフレーム４１が設けられていないフォトマスク４０を脱着フレーム４上に載置して、ペリクル装着装置１００において、ペリクルフレーム４１を仮貼りすることも可能である。このための構成について図１２を用いて説明する。図１２は、本発明にかかるペリクル装着装置１００において、脱着フレーム４上のフォトマスク４０に対してペリクルフレーム４１を仮貼りするときの構成を示す斜視図である。

図１２に示すようにペリクルフレーム４１が仮貼りされていないフォトマスク４０を脱着フレーム４に載置する。脱着フレーム４の上側には、枠状のペリクル保持具９１が配置されている。ペリクル保持具９１はペリクル４３が張設されたペリクルフレーム４１を保持している。すなわち、ペリクル保持具９１はペリクルフレーム４１を介してペリクル４３を保持している。ペリクル保持具９１は、脱着フレーム４と略同じ大きさで設けられている。ペリクル保持具９１は、ペリクルフレーム４１に対応した大きさの開口を備えている。この開口の内側にペリクル４３が張設されたペリクルフレーム４１が配設される。フレーム状のペリクル保持具９１は、ペリクルフレーム４１の側面を把持する。例えば、ペリクル保持具９１はペリクルフレーム４１の外側側面に設けられた溝に挿入するためのフック等を備えている。このフックをペリクルフレームの対向する２側面に設けられた溝に挿入して、ペリクルフレームを係止する。これにより、ペリクルフレーム４１が、ペリクル保持具９１によって保持される。あるいは、ペリクルフレーム４１の外側側面に突起を設け、ペリクル保持具９１でこの突起を把持することによって、ペリクルフレーム４１を保持してもよい。

この状態で、ペリクル保持具９１を脱着フレーム４と対向する位置に移動させる。ペリクル保持具９１の脱着プレート側の面には、位置決めピン９２が設けられている。位置決めピン９２はペリクル保持具９１の四隅近傍にそれぞれ設けらている。また、脱着フレーム４の表面側には、この位置決めピン９２に対応する位置に位置決め穴９３が設けられている。すなわち、位置決め穴９３は脱着フレーム４の４つの角の近傍にそれぞれ設けられている。位置決め穴９３と位置決めピン９２とを嵌合することにより、ペリクル保持具９１を脱着フレーム４に対して位置決めすることができる。これにより、ペリクルフレーム４１をフォトマスク４０と対向する位置に移動することができる。そして、位置決めピン９２を位置決め穴９３に挿入することで、ペリクルフレーム４１の接着層がフォトマスク４０の表面に接触する。これにより、ペリクルフレーム４１がフォトマスク４０に対して仮貼りされる。

そして、上述の手順で、ペリクルフレーム４１をフォトマスク４０に対して押圧し、ペリクル４０を装着する。なお、ペリクル保持具９１の開口をペリクルフレーム４１よりも大きくすることによって、ペリクル保持具９１をペリクルフレーム４１に取り付けたまま、ペリクル４０を装着することができる。この場合、ペリクル保持具９１は、押圧機構５等と接触しないような形状として、押圧の妨げにならないようにする。なお、脱着フレーム４に位置決めピン９２を設け、ペリクル保持具９１に位置決め穴９３を設けてもよい。このように、位置決めピン９２又は位置決め穴９３を形成することで、正確に位置合わせを行なうことができる。よって、正確に仮貼りすることができる。このように、本発明にかかるペリクル装着装置１００によって、ペリクルフレーム４１の仮貼りから、押圧までを行なうことができる。

本発明にかかるペリクル装着装置１００は、フォトマスク及びペリクルフレームに応じた脱着フレーム４を回転するベースプレートに取り付け、押圧機構５によって対向する２辺毎にペリクルフレーム４１をフォトマスク４０に対して押圧している。このため、簡易な構成で様々なタイプのフォトマスクに対しペリクルを装着することができる。これにより、大きさの異なるペリクルフレームのみならず、厚みが異なるフォトマスク及びペリクルフレームに対しても利用することができる。さらには、接着層の厚みが異なる場合についても利用することができる。すなわち、フォトマスク４０とペリクルフレーム４１の大きさ、並びに、ペリクルフレーム４１、フォトマスク４０及び接着層４２の合計の厚さに応じて、脱着フレーム４の形状を変化させればよい。このように、様々なタイプのフォトマスク４０に対してペリクル４３を装着することができる。

さらに、本発明にかかるペリクル装着装置１００は、ベースプレート３上に配置される吸着パッド５２を備えている。そして、吸着パッド５２によってベースプレート３との間の空気を吸引し、大気の力によってペリクルフレーム４１を押圧している。すなわち、大気圧と吸引圧力との圧力差によって、ペリクルフレーム４１を押圧している。これにより、簡易な構成で高い接着圧力を得ることができる。すなわち、圧縮空気あるいは、機械的な力等によって押圧する場合に比べて、単純な構成で高い接着圧力を得ることができる。よって、装置の低コスト化を図ることができる。

また、本発明にかかるペリクル装着装置１００では、人手を介さずに、ペリクル４３を装着することができる。よって、ペリクル装着時においてフォトマスク４０やペリクル４３に付着する異物の数を低減することができる。よって、異物の付着等による生産性の低下を防ぐことができる。

なお、図１では押圧機構５が対向する２辺に設けられている構成について説明したが、本発明は、これに限られるものではない。例えば、ベースプレートを２７０°以上回転可能とすることにより、１つの押圧機構５で全周を押圧することができる。もちろん、押圧機構５は、脱着フレーム４の上側又は下側に設けても良い。しかしながら、押圧機構５は、横方向に配置することが好ましい。すなわち、押圧機構５を上方向に移動させる場合、重力によって負荷がかかるため、大きな駆動力が必要となる。この場合、押圧機構５をスライドさせるために、より大型のモータ等が必要となってしまう。従って、押圧機構５を脱着フレーム４の横方向に配置して、水平方向にスライド移動させることにより、装置のコストを低減することができる。

さらに、各辺の押圧を２回以上に分けることも可能である。例えば、所望の押圧力を０．３ＭＰａとした場合、図２に示す状態で、まず０．１５ＭＰａで押圧し、次に、ベースプレート３を９０°回転させて図３に示す状態とする。そして、押圧機構５を移動して、図４に示す状態とし、０．１５ＭＰａで押圧する。これにより、全周が０．３ＭＰａの半分の０．１５ＭＰａで押圧される。そして、今度は、図２に示す状態で、０．３ＭＰａで押圧する。さらに。図４に示す状態で０．３ＭＰａで押圧する。このように、一つに辺に対して、１回目の押圧では弱い接着圧力と、２回目の押圧では、高い接着圧力として押圧する。これにより、ペリクルフレーム４１をより均一に押圧することができる。よって、確実にペリクルを装着することができる。

また、ベースプレート３を傾斜させることで、装置の床面に対する投影面積を小さくすることができる。よって、フットプリントを小さくすることができる。また、ベースプレート３を傾斜させることによって、ベースプレート３の回転時や、フォトマス４０の載置時において、フォトマスクが前面側に倒れるのを防ぐことができる。傾斜させることによって、重力による各構造物のたわみを低減することができる。例えば、重力による連結部材１２やベースプレート３などのたわみが低減される。これにより、重力による装置の変形を軽減することができ、装置の軽量化、小型化を図ることができる。

なお、上記の構成では、ベースプレート３に位置決め穴７を設け、脱着フレーム４に位置決めピン２１を設けて位置決めを行なったが、これに限るものではない。例えば、ベースプレートに位置決めピン２１を設け、脱着プレート４に位置決め穴７を設けれも良い。この場合も、位置決めピン２１が隣接する吸着パッド５２の間に配置されるようにする。すなわち、脱着フレーム４を位置決めするための位置決めピンや位置決め穴などの位置決め手段を吸着パッド５２の間に対応する位置に配置する。これにより、吸着パッド５２のリークや、移動時の接触等を防ぐことができる。よって、確実に吸着することができ、圧力を安定させることができる。

上記のペリクル４３付きフォトマスク４０は半導体あるいは液晶表示装置などの表示装置に用いられるパターン基板の製造に好適である。例えば、上記のペリクル４３付きフォトマスク４０を用いて感光性樹脂が塗布された基板を露光する。そして、現像を行い、感光性樹脂をパターニングする。これにより、感光性樹脂パターンが形成されたパターン基板を製造することができる。さらに、感光性樹脂をレジストとして、感光性樹脂層の下側に形成された導電層などをエッチングする。これにより、配線パターンを形成することができる。もちろん、これ以外の既知の方法でパターン基板を製造することも可能である。よって、生産性よくパターン基板の生産性を向上することができる。

本発明にかかるペリクル装着装置の構成を示す図である。 本発明にかかるペリクル装着装置の構成を示す正面図である。 本発明にかかるペリクル装着装置の構成を示す正面図である。 本発明にかかるペリクル装着装置の構成を示す正面図である。 本発明にかかるペリクル装着装置の脱着フレームの構成を示す背面図である。 本発明にかかるペリクル装着装置の脱着フレームの構成を示す側面断面図である。 本発明にかかるペリクル装着装置の押圧ブロックの構成を示す側面断面図である。 本発明にかかるペリクル装着装置の押圧ブロックの構成を示す背面図である。 本発明にかかるペリクル装着装置の押圧ブロックの排気系の構成を模式的に示す図である。 本発明にかかるペリクル装着装置の押圧ブロックとペリクルフレームの構成を示す上面図である。 本発明にかかるペリクル装着装置の押圧ブロックの浮上機構の構成を示す側面図である。 本発明にかかるペリクル装着装置において、脱着フレーム上のフォトマスクに対してペリクルフレームを仮貼りするときの構成を示す斜視図である。

符号の説明

１ 架台、２ キャスター、３ ベースプレート、４ 脱着フレーム、５ 押圧機構、
６ 押圧ブロック、７ 位置決め穴、８ ガイドプレート、９ スライド機構、
１１ 中心線、１２ 連結部材、１４ 浮上機構、２１ 位置決めピン、２２ 吸着溝、
２３ Ｏリング、２５ 配管接続部、２６ 接続配管、２７ 配管接続部、
２８ 真空配管、２９ バルブ、３０ 真空ポンプ、３２ 貫通口、
４０ フォトマスク、４１ ペリクルフレーム、４２ 接着層、４３ ペリクル、
５１ 本体ブロック、５２ 吸着パッド、５３ 支点パッド、５４ 吸引コネクタ、
５５ 吸引配管、５６ 吸引口、５８ 位置決めブロック、５９ 位置決めパッド、
６０ 押圧パッド、７１ 真空ポンプ、７２ レギュレータ、７３ バルブ、
８１ 平行リンク機構、８２ 板バネ、８３ 支柱、８４ ロータリーシリンダ
９１ ペリクル保持具、９２ 位置決めピン、９３ 位置決め穴

Claims (19)

1. 枠状のペリクルフレームに設けられたペリクルを、前記ペリクルフレームに設けられた接着層を介して、マスクに装着するペリクル装着装置であって、
   ベースプレートと、
   前記ベースプレートに対して脱着可能な脱着フレームであって、前記ペリクルフレームに対応した形状を有し、前記マスクが載置される脱着フレームと、
   前記脱着フレームが取り付けられた前記ベースプレートを回転させる回転機構と、
   前記脱着フレームの外側に配置され、前記ペリクルフレームの少なくとも１辺において前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧する押圧機構と、
   前記押圧機構を前記脱着フレームに対して近づけるよう移動させる移動機構とを備えるペリクル装着装置。
2. 前記押圧機構が前記ペリクルフレームの対向する２辺に対してそれぞれ設けられている請求項１に記載のペリクル装着装置。
3. 前記押圧機構が前記脱着フレーム側の側面に設けられた位置決めパッドを備え、前記位置決めパッドが前記脱着フレームに対して当接している状態で前記押圧機構が前記ペリクルフレームを押圧する請求項１又は２に記載のペリクル装着装置。
4. 前記押圧機構が、
   前記ペリクルフレームの上から当該ペリクルフレームを前記マスクに対して押圧する押圧パッドを有する押圧ブロックと、
   前記押圧ブロックに取り付けられ、前記ペリクルフレームの外側において前記ベースプレート上の吸着面に対して吸着する吸着パッドとを備え、
   前記吸着パッドの内外の圧力差に基づいて前記押圧パッドが前記ペリクルフレームを押圧する請求項１、２又は３に記載のペリクル装着装置。
5. 枠状のペリクルフレームに設けられたペリクルを、前記ペリクルフレームに設けられた接着層を介して、マスクに装着するペリクル貼付装置であって、
   ベースプレートと、
   前記ベースプレートに対して脱着可能な脱着フレームであって、前記ペリクルフレームに対応した形状を有し、前記マスクが載置される脱着フレームと、
   前記ベースプレート上に移動可能に設けられた押圧ブロックであって、前記ペリクルフレームの上から当該ペリクルフレームを前記マスクに対して押圧する押圧パッドを有する押圧ブロックと、
   前記押圧ブロックに取り付けられ、前記ペリクルフレームの外側において前記ベースプレート上の吸着面に対して吸着する吸着パッドと、
   前記吸着パッドと前記吸着面との間の空間を排気する排気手段とを備え、
   前記吸着パッドの内外の圧力差に基づいて前記押圧パッドが前記ペリクルフレームを押圧するペリクル装着装置。
6. 押圧ブロックが前記ペリクルフレームの辺に沿って複数配列され、
   前記複数の押圧ブロックを連結する連結部材をさらに備える請求項４又は５に記載のペリクル装着装置。
7. 前記ベースプレートに前記脱着プレートを位置決めする位置決め手段が形成され、
   前記位置決め手段が前記複数の押圧ブロックの前記吸着パッドの間に対応する位置に設けられている請求項６に記載のペリクル装着装置。
8. 前記吸着パッドの内側の圧力が、前記ペリクルフレームの角部に対応する押圧ブロックと他の押圧ブロックとで異なるように、圧力を制御する圧力制御手段をさらに備える請求項６又は７に記載のペリクル装着装置。
9. 前記ペリクルフレームの外側に配置された押圧ブロックに対しては、前記吸着パッドの内外で圧力が等しくなるように前記圧力制御手段が圧力を制御する請求項８に記載のペリクル装着装置。
10. 前記押圧パッドが前記ペリクルフレームの辺に沿った柱状に形成され、前記柱状の押圧パッドの側面で前記ペリクルフレームを押圧し、前記柱状の押圧パッドが設けられている方向と垂直な方向における当該押圧パッドの断面が前記ペリクルフレーム側において円弧状となっている請求項４乃至９のいずれかに記載のペリクル装着装置。
11. 前記脱着フレームの前記ベースプレート側の面に、当該脱着フレームを前記ベースプレートに対して吸着するための吸着溝が形成され、
    前記ベースプレートに、前記吸着溝を排気するための配管が通る貫通口が設けられ、
    前記脱着フレームの内側側面に設けられたコネクタを介して前記配管と前記吸着溝とが連通されている請求項１乃至１０のいずれかに記載のペリクル装着装置。
12. 前記ベースプレートが鉛直方向に対して１５°〜３０°傾斜して設けられている請求項１乃至１１のいずれかに記載のペリクル装着装置。
13. 前記ペリクルフレームを介してペリクルを保持するペリクル保持具をさらに備え、
    前記脱着フレームに載置されたマスクに対向する位置に、前記ペリクルが保持されたペリクル保持具を移動させ、前記ペリクルフレームの接触層と前記マスクとを接触させ、前記マスクに前記ペリクルフレームを仮貼りすることを特徴とする請求項1乃至１２のいずれかに記載のペリクル装着装置。
14. 枠状のペリクルフレームに設けられたペリクルを、前記ペリクルフレームに設けられた接着層を介して、マスクに装着するペリクル装着方法であって、
    ベースプレートに、前記ペリクルフレームに対応した形状を有する脱着フレームを取り付けるステップと、
    前記脱着フレームに前記マスクを載置するステップと、
    前記ペリクルフレームの第１の辺に沿って設けられた押圧パッドを前記マスクに設けられた前記ペリクルフレームの前記第１の辺の押圧位置に移動させるステップと、
    前記押圧パッドによって、前記ペリクルフレームの前記第１の辺において前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップと、
    前記ペリクルフレームの前記第１の辺の隣の第２の辺が前記押圧パッドに沿う角度まで前記脱着フレームが設けられたベースプレートを回転させ、前記押圧パッドを前記ペリクルフレームの前記第２の辺の押圧位置に移動させるステップと、
    前記押圧パッドによって、前記ペリクルフレームの前記第２の辺において前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップとを備えるペリクル装着方法。
15. 前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップでは、吸着面に対して吸着可能に設けられた吸着パッドと前記吸着面との間の空間を排気して、前記吸着パッドの内外の圧力差に基づいて押圧する請求項１４に記載のペリクル装着方法。
16. 前記第２の辺において前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップの後に、前記ベースプレートを回転させ、前記押圧パッドを前記ペリクルフレームの前記第１の辺の押圧位置に移動させるステップと、
    前記第１の辺において前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップでの圧力よりも高い圧力で、前記第１の辺において前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップとをさらに備える請求項１４又は１５に記載のペリクル装着方法。
17. 枠状のペリクルフレームに設けられたペリクルを、前記ペリクルフレームに設けられた接着層を介して、マスクに装着するペリクル貼付方法であって、
    ベースプレートに、前記ペリクルフレームに対応した形状を有する脱着フレームを取り付けるステップと、
    前記脱着フレームに前記ペリクルフレームが設けられた前記マスクを載置するステップと、
    前記ペリクルフレームの辺に沿って設けられた押圧パッドと、前記ベースプレート上の吸着面に対して吸着する吸着パッドとを備える押圧ブロックを押圧位置に移動させるステップと、
    前記ペリクルフレームの外側において前記吸着パッドを前記吸着面に対して吸着するステップと、
    前記吸着パッドの内外の圧力差に基づいて前記押圧パッドにより前記ペリクルフレームを押圧するステップとを備えるペリクル装着方法。
18. 前記脱着フレームに前記マスクを載置するステップの後に、
    前記ペリクルフレームをペリクル保持具によって保持するステップと、
    前記ペリクル保持具を前記脱着フレームと対向する位置に移動するステップと、
    前記ペリクルフレームの前記接着層と前記マスクとを接触させて、前記マスクに前記ペリクルフレームを仮貼りするステップとを備え、
    前記ペリクルフレームを前記マスクに押圧するステップでは、前記マスクに仮貼りされた前記ペリクルフレームを前記押圧パッドで前記マスクに押圧する請求項１４乃至１７のいずれかに記載のペリクル装着方法。
19. 請求項１４乃至１８のいずれかに記載のペリクル装着方法によってペリクルをマスクに装着するステップと、
    前記ペリクルが装着されたマスクを用いて基板を露光するステップと、
    前記露光された基板を現像するステップとを備えるパターン基板の製造方法。

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