JPS6238468A - ペリクル装着装置 - Google Patents

ペリクル装着装置

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Publication number
JPS6238468A
JPS6238468A JP60177010A JP17701085A JPS6238468A JP S6238468 A JPS6238468 A JP S6238468A JP 60177010 A JP60177010 A JP 60177010A JP 17701085 A JP17701085 A JP 17701085A JP S6238468 A JPS6238468 A JP S6238468A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pellicle
mask
frame
mounter
pusher
Prior art date
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Pending
Application number
JP60177010A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Sawai
沢井 和夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP60177010A priority Critical patent/JPS6238468A/ja
Publication of JPS6238468A publication Critical patent/JPS6238468A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体製造プロセスにおいて使用されるマス
クへの塵埃付着を防止するペリクルをマスクへ装着する
ペリクル装着装置に関するものである。
(従来の技術) ペリクルとは半導体製造プロセスにおけるマスクへの塵
埃付着を防止するためのものであり、第6図に示される
ように、ペリクル膜1とフレーム2と粘着剤塗布部3と
から成っており、このペリクル膜1は薄い透明材料であ
り、例えば、サブミクロンから1/2ミルの厚みのニト
ロセルロースかマイラー材料である。
フレーム2は金属、例えばアルミ類、又はプラスチック
製で、内径120〜150II11、フレームの厚み2
〜3InI11、高さ4〜6IIIII+の丸型又は角
型に形成されている。粘着剤としては例えば、MACT
AC粘着剤(スリーエム製)を用いることができ、厚み
約0.11である。
この粘着剤塗布部3が、第7図に示されるように、マス
ク4に固着されるようになっている。即ち、ペリクルP
+、Pgを洗浄した塵埃などの付着していないマスク4
に装着する。ペリクルP1、Pzとマスク4は上記した
粘着剤塗布部3の粘着剤により接着されるようになって
いる。
このようにマスク4上にはペリクルP+、Pgを装着す
ることにより、第8図に示されるように、ペリクルP+
、Pg上に塵埃5が付着したとL・てもディフォーカス
となリウエハ6には転写されることはない。
なお、第8図において、7はコンデンサレンズ、8は対
物レンズである。
ところで、従来、この種のペリクル装着装置は、第9図
乃至第11図に示されるような構成となっている。
第9図は、従来のペリクル装着装置のセット準備状態断
面図、第10図は第9図のA−A ’矢視図、第11図
は従来のペリクル装着装置によるペリクル装着前の状態
断面図である。
図中、4はマスク、P+、Pgはベリタル、11は基台
、12はシリンダ、12−1はブツシャ−113は下部
に設けられる第1のマウンタ、14は上部に設けられる
第2のマウンタ、15は枢支軸、16はガイドピン、1
7は位置決めピン、18はマウント固定アームである。
ペリクルpi、pgは第1のマウンタ13.第2のマウ
ンタ14にセットする。
ここで、マスク4はガイドピン16により位置決めされ
る。
ペリクルPgは真空バキュームにより第1のマウンタ1
3に固定される。ペリクルP2及びマスク4をセットし
た後、第2のマウンタ14を第9図に示される基台11
に設けられる枢支軸15を中心に回動させ、このマウン
タ14の下面を位置決めピン17により位置決めし、マ
ウンタ固定アーム1日をセットすることにより、第11
図に示されるように第2のマウンタ14は基台11に固
定される。このようにして、ペリクル装着の準備は終了
する。
この状態で、ペリクル装着装置はシリンダ12の駆動に
よりプッシャー12−1が上昇すると、第1のマウンタ
13とペリクルPtが押し上げられる。
この状態でプッシャー12−1が上昇し続けることによ
り、第12図に示されるように、ペリクルP。
、P2はその接着剤塗布部がマスク4と当接し、ペリク
ルP+、Pgはマスク4に接着される。プッシャー12
−1の上昇距離及び接着圧力は可変にすることができる
。また、シリンダ12及びプッシャー12−1の位置は
第10図に示されるように、ペリクルP、の中心線に位
置するように配設される。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、上記構成の装置では、ペリクルP2のフ
レームの高さが全周にわたって一定にならない。つまり
、機械加工によりフレームの高さが、例えば、±0.1
−  程度が生じるので、第12図に示されるように、
フレームの左側の高さlい右側の高さIt−とバラツキ
が生じる。すると、プッシャー12−1はマウンタ13
を水平状態にして押し上げるため、ペリクルP2のフレ
ームの高さにバラツキがあると、第12図に示されるよ
うに、ペリクルP2のマスク4にペリクルのフレームを
全周にわたり確実に密着状態に接着するのは困難である
。密着しないと、ペリクルBとマスク4との間にすき間
が生じ、このすき間から塵埃等が侵入するといった問題
があった。・ これを回避するために、無理にペリクルPtをマスク4
に密着状態に接着しようとしてプッシャー12−1のプ
レス圧を高くすると、マスク4は石英製であり、破損す
る恐れがある。
本発明は、上記問題点を除去し、塵埃等が侵入すること
のない、信顛性の高いペリクル装着が可能なペリクル装
着装置を提供することを目的とする。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、上記問題点を解決するために、ペリクルをマ
スクに押し当てるプッシャーをペリクルのフレームの端
面に複数配設するようにしたものである。
(作用) 本発明によれば、複数に配設されたプッシャーにより、
ペリクルのフレームはその全端面が均一にマスクに押し
当てられ密着状態で接着されることになり、ペリクル内
への塵埃等の侵入を防止することができる。
(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細
に説明する。
第1図は本発明に係るペリクル装着装置の断面図、第2
図はべりタル装着前の状態説明図、第3図は第2図のB
−B ’矢視図である。第4図は本発明に係るマウンタ
の斜視図、第5図はべりタルが装着されたマスクの斜視
図である。
本発明においては、ペリクルの接着塗布部が全面にわた
ってマスクに密着するようにマウンタ、シリンダ及びブ
ツシャ−の配置を工夫した点を特徴としている。
まず、このブツシャ−の構成について説明する。
本発明に係る第1のマウンタ19の下部には1例えば、
空気圧によって駆動される複数のシリンダが設けられ、
それらのシリンダには、該シリンダにバネ12aを介し
て連結するブツシャ−を有している。そして、第1のマ
ウンタ19の下面の中央部に位置し、このマウンタ19
を全体的に水平状態にして押し上げるブーシャー12−
1の外にペリクルP2のフレーム2の下端面に当接する
ように複数のプッシャーを配設する。
この実施例においては、第3図に示されるように、ペリ
クルP2のフレーム2の端面に対応するように8個のブ
ツシャ−12−2〜12−9を配設する。
一方、前記したマウンタ19は、例えばアルミ製のブロ
ックであり、第4図に示されるように、その底部には前
記したブツシャ−12−2〜12−9が対応して挿入さ
れる穴19−2〜19−9が穿設される。
次に、この装置の動作について説明する。
まず、第2図に示されるように、従来の装置と同様にプ
ッシャー12−1により、マウンタ19及びペリクルp
gを押し上げていき、第1図に示されるように、ペリク
ルP+、Piをマスク4に接着する。
そこで、プッシャー12−1はマスク4ヘペリクルP、
のフレームをプレスした状態を保持しておき、次に、プ
ッシャー12−2がペリクルの対応するフレームの端面
を、例えば、1秒間プレスする。
ブツシャ−12−2がプレスを終了すると、次に、ブツ
シャ−12−3が同時にペリクルの対応するフレーム2
の端面を1秒間プレスする。以下、同様に順次、ブツシ
ャ−12−4からブツシャ−12−9まで動作させる。
このように、ペリクルのフレームの端面の全周にわたり
、多点でプレスする。
このようにしてペリクルPは第5図に示されるようにマ
スク4に装着されることになる。即ち、フレームの高さ
が11と1.で異なる場合にも複数のブツシャ−による
多点プレスにより、ペリクルPをマスク4上に確実に密
着状態に装着することができる。
その他の点については、従来のペリクル装着装置の構成
と同様であり、重複するので説明は省略する。
なお、上記実施例においては、(1)ペリクルは四角形
としているが丸形であってもよい、(2)ブツシャ−の
配置はべりタルの形状に合わせて配置することができる
0例えば、光量の場合は円周状に配置することができる
。(3)プッシャーの数は8個に限定されるものではな
く、適宜増減することができる。(4)ブツシャ−の駆
動源は空気圧によるシリンダに限定さるものではなく、
プランジャ形の電磁装置を用いるようにしてもよい。
また、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
(発明の効果) 以上、詳細に説明したように、本発明によれば、ペリク
ルのフレームの一端面における接着剤塗布部をマスクへ
押圧してペリクルをマスクへ装着するペリクル装着装置
において、前記フレームの他端面に対応して複数のプッ
シャーを配設し、前記ペリクルを多点押圧するようにし
たので、マスクに対してペリクルのフレームの接着剤塗
布部の全端面を押圧することができ、ペリクルをマスク
へ密着状態に確実に接着させることができ、マスク上へ
の塵埃の侵入を防止することができる。
従って、本発明は、歩留まりのよい、信鯨性の高いウェ
ハの製造に寄与するところ大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るペリクル装着装置の断面図、第2
図はべりタル装着前の状態説明図、第3図は第2図のB
−B’矢視図、第4図は本発明に係るマウンタの斜視図
、第5図はべりタルが装着されたマスクの斜視図、第6
図はべりタルの断面図、第7図はべりタル装着状態側面
図、第8図はべりタルの使用態様説明図、第9図は従来
のペリクル装着装置の準備状態断面図、第10図は第9
図のA−A ’矢視図、第11は従来のペリクル装着装
置によるペリクル装着前の状態断面図、第12図は従来
のペリクル装着装置の問題点説明図である。 P+、Pi・・・ペリクル、l・・・ペリクル膜、2・
・・フレーム、3・・・粘着剤塗布部、4・・・マスク
、5・・・塵埃、6・・・ウェハ、7・・・コンデンサ
レンズ、8・・・対物レンズ、11・・・基台、12・
・・シリンダ、12−1〜12−9・・・プッシャー、
13.19・・・第1のマウンタ、14・・・第2のマ
ウンタ、15・・・枢支軸、16・・・ガイドビン、1
7・・・位置決めビン、18・・・マウンタ固定アーム

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ペリクルのフレームの一端面における接着剤塗布部をマ
    スクへ押圧してペリクルをマスクへ装着するペリクル装
    着装置において、前記フレームの他端面に対応して複数
    のプッシャーを配設し、前記ペリクルを多点押圧するよ
    うにしたことを特徴とするペリクル装着装置。
JP60177010A 1985-08-13 1985-08-13 ペリクル装着装置 Pending JPS6238468A (ja)

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