JPS6118956A

JPS6118956A - マスク保護装置

Info

Publication number: JPS6118956A
Application number: JP59137939A
Authority: JP
Inventors: Kazunori Imamura; 今村　和則
Original assignee: Nikon Corp; Nippon Kogaku KK
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1984-07-05
Filing date: 1984-07-05
Publication date: 1986-01-27
Anticipated expiration: 2009-03-16
Also published as: JPH0619547B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野〕大発明は、集積回路の製造工程などで使用されるマスク
あるいはレチクル（以下「マスク」と総称する）に対す
る塵埃付着等？防止するマスク保護装置に関するもので
ある。

〔発明の背景〕

従来のマスク保護装置としては、例えば所定の基板上に
形成されたマスクパターン部分よリモ広い開口部を有す
る粋の一方の開口面に、ペリクルと称される透明な薄膜
を張設し、該粋の他方の開口面ン、パターン部分が枠内
に含まれるように基板に対して両面接着剤により接着し
たものがある。

この装置によれば、ペリクル膜は、マスク表面から一定
距離をもって枠により支持されることとなる。なお、必
要に応じてマスクの表裏いずれの面に対してもペリクル
膜の張設さねた枠が接着さね机この↓５な保護装置を設けたマスク（又はレチクル）ハ
、一般にペリクル付マスク（又はペリクル付レチクル］
と称されており、塵埃などのマスクへの付着を防止１−
、マスフケ保護する機能ケ有し、集積回路等の生産性向
上に寄与するものである。

ところで、ぺ１］クルなマスクに対して接着する際など
に塵埃などの異物がマスクあるいはぺ１】クルの内側に
付着した場合には、ぺ１１クルをマスクからはずしてマ
スクあるいはペリクルを再び洗浄する必要がある。しか
しながら従来のペリクル接着方法では、べ１１クルをマ
スクから容易に欧りはずすことができず、ペリクルの取
りはすしの際にマスクに傷を付けたり、あるいは取りは
ず］、たペリクルが再使用できなくなる等の不都合が生
ずる。

また、ぺ１１クルをマスクに接着する場合には、マスク
パターンがペリクル内に含まれる。Ｊ、５に位置決めす
る必要があるが、ペリクルの位置が所定の誤差範囲を超
えていた場合には、ペリクルヶ取りはずして再び適市な
位置に接着し直す必要がある。このような場合にも、ぺ
１１クルの取りはずしが困難なことから高価なペリクル
？損傷する等の不都合が生ずる。

〔発明の目的〕

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その
目的は、マスクから容易に取りはずすことができるマス
ク保護装置な提供することであム木発明の他の目的は、
マスクから散りはずした場合の再使用θ】可能性が向上
したマスク保護装置を提供することである。

〔発明の概要〕

本発明によれば、マスクの原画パターンを囲む工５に枠
部材（１１２Ａ、１１２Ｂ、２１２．３１２Ａ、３１２
Ｂ）の一方の縁部が基板上に当接するとともに他方の縁
部には膜手段（１１８Ａ、１１８Ｂ、２１Ｂ）が張設さ
れ、該枠は。

仮止め手段（磁石１２ＯＡ、１２０Ｂ、２２０．板）（
ネ６３６．板、くネ部４６０）によって着脱容易に基板
に仮止めされる。

本発明の主要な実施態様に工れば、仮止め手段は、磁力
にぶる吸引力が利用される。あるいは、バネ手段による
押王力が利用される。

本発明の他の主要な実施態様によれば、各部材と基板と
の当接部分には、緩衝部材（シート材１１４Ａ、１１４
Ｂ、２１４，３１４Ａ、３１４Ｂ、２３２，２５４，４
５２）が設けられる。

〔実施例〕

以下、添附図面ヶ参照しながら、本発明にかかるマスク
保護装置の実施例について説明する。

第１図ないし第３図には、本発明の第１実施例が示され
ている。、第１図は全体な示す斜視図であり、この図に
おけるＩ−１線に沿った断面が拡大して第２図に示され
ている。また、第３図には、第１図に示す装置の一部分
が拡大して示されてぃ孔これら第１図ないし第６図にお
いて、マスクのガラス基板１００は、表裏の両面な有し
ているが、その裏面には、所定のパターンがクロムなど
の材料によって形成さねている。この領域は、パターン
領域ＰＡとしてハツチングが施されて図示さねでいる。

なお、ガラス基板１００の表面をガラス面１０２といい
、反対側の裏面ケバターン而１０４トいうこととする。

マスク保護装置であるペリクルは、ガラス基板１００の
表裏両面に取りつけられるいわゆる両面ペリクルである
。以下の説明て゛は、ガラス面１０２側に戦りつけられ
るペリクル１０６に対して符号ｒＡＪ　ｙｘ用い、パタ
ーン面１０４側に嘔り付けられるぺ１】クル１０８に対
して符号ｒＢＪｖ用いることとする。また、以下におい
て、単にペリクルと呼ぶ場合は、べ１１クル膜とべ１）
クル枠とを一体にしたものを指し示すものとする。

ペリクル１０６　、１０８は、前述したパターン領域Ｐ
Ａを十分にカバーできる開口部１１０Ａ、１１０Ｂを有
するへ１１クル枠１１２Ａ、１１２Ｂ　’ｉｊ中心に構
成されている。

この実施例では、はぼ四角形状にペリクル枠１１２Ａ。

１１２Ｂが形成されている、これらのぺ１１クル枠１１２Ａ、　１１２Ｂ　（１３’
Ｓち、カラス基板１００に接する端部には、シート材１
１４Ａ、１１４Ｂが各々設けられている。これらのシー
）　材１１４Ａ−。

１１４Ｂは、例えばゴム、合成樹脂などの軟質の材料が
使用され、０．１ないし２１１１程度の厚さに形成さね
ている。第３図には、ぺ）】クル枠１１２Ｂトシート材
１１４Ｂとの接合部分の一部が拡大して示されている。

この図に示すよ）にシート材１１４Ｂの一部には。

切欠ぎ１１６が設けられている。この切欠き１１６は。

必要に応じて複数箇所に設けられている。シート材１１
４Ａについても同様である。これｆ−１を後述する工５
に、接着剤でへ１】クル枠１１２Ａ、１１２Ｂなガラス
基板１００に接着するとき、接着剤が切欠き１１６に入
り込むよ５にし、接着力を増大させるためのものである
が、必らずしも切り欠き１１６乞設けておく必要はない
。

へ１１　ｌ　ル枠１１２Ａ、１１２１１　ｏ〕うち、前
述したシート材１１４Ａ、１１４Ｂが形成さね、た端部
と反対側の端部には、ペリクル膜１１８Ａ、１１８Ｂが
各々張設されている。

また、ペリクル枠１１２Ａ、１１２Ｂの四隅の各隅部に
は。

各々磁石１２０Ａ、　１２０Ｂが設けられている。これ
らの磁石１２ＯＡ、１２０Ｂ　ｌ’：ｉ　、ペリクルｉ
ｏ６．ｉｎｓをガラス基板１００に対して取り付けたと
きに、ガラス基板１００娶介して対峙する工５になって
おり、また対峙する磁極間に吸引力が働らく工うに設定
されている。

また、磁石１２ＯＡ、、　１２０Ｂは、かかるをり付は
状態においてパターン領域ＰＡ以外の部分に位置する工
５にその大ぎさおるいはペリクル枠１１２Ａ、１１２Ｂ
（７）形状寸法が定められでいる。また、べ１１クル枠
１１２Ａ、１１２Ｂの形状寸法のうち、開口部１１０Ａ
、１１０Ｂの深さＤＡ、ＤＢ　（第２図参照）は、ガラ
ス基板１００の厚さｔに対して、　ＤＡ＋ｔ＝Ｉ）Ｂと
なる工５にし、ペリクル［１１８Ａ、１１８Ｂがガラス
基板１００のパターン而１０４に対して等間隔の位置に
あることが好ましい。このよ）な間隔を必要とするのは
、縮小投影型露光装置等においてレチクルな装着使用す
る際。

投影レンズの焦点深度が極めて浅いため、レチクル上の
異物（１５ないし１０μｍの犬ぎさでもウェハ土に結像
さオフたものが、前述したＤＡ、ＤＢ離れた位置（２な
いし１［’１ｍｍ］では、５ないし１０μ乳程度の大き
さのゴミはデフォーカスし、解像されないからである。

次に、上記実施例の全体的作用について説明する。まず
、マスクのパターン領域ＰＡがペリクル枠１１２Ａ、１
１２Ｂの端部あるいは磁石１２０Ａ　、　１２［ＩＢに
よって隠さｔ１５ることかないよ５べ１１クル枠１１２
Ａ１１１２Ｂ　の位置決めケ行い、ガラス基板１００の
表裏からガラス基板１００ヲ挾む工）にべ１１クル１０
６゜１［］８’に各々取り付ける。このと芦、磁石１２
０Ａ、１２０Ｂによる吸引力が働らいて、ペリクル１０
６，１０８はガラス基板１００に仮止めされた状態とな
る。

この状態において１位置合せが適当でない場合には、ペ
リクル１０６，１０８　Ｙガラス基板１００から取りは
すす。この掃作は、磁石１２ＯＡ、、　１２０Ｂの吸引
力に工っでべυクル１０６，１０８がガラス基板１００
に固定されているのみ↑あるから容易に行うことができ
る。次に、欧ねはずしたぺ１１クル１［１６，１０８は
再度位置決め？行ってガラス基板１００に磁石１２ＯＡ
、。

１２０Ｂの吸引力に工り取り付ける。なお、以上の操作
において、べ１１クル枠１１２Ａ、１１２Ｂの端部には
シート材１１４Ａ、１１４Ｂが各々設けらオフているた
め、損傷の発生が防止されることとなる。

次に１以上の取付は状態において、ガラス、ｌＪ［１０
０及びペリクル１０６，１０８によって１用まねた空間
内に塵埃等があるか否か乞貞検する。このめ検において
は、前述したよ５に、露光時に解像さねないものは必ず
しも考慮する必要がない。ゴミ点検の方法としては、　
１／−ザビームのスボツ）Ｙマスク上あるいはべりクル
上で走査し、異物による散乱光等を光電検出する方法が
好適である。また、手間と時間は多くなるが、べ１１ク
ル付のガラス基板１００をそのまま露光装置に装着して
、感光剤の塗布されたウェハ等にテスト露光２行ない、
異物るいはペリクルを洗浄する。そして洗浄の後に乾燥
２行って、再びガラス基板１００にペリクル１０６゜１
０８ケ敞り付ける。

そして適切な位置でぺＩＪクル１０６　、１０８をガラ
ス基板１００に取り付けた後に、取り付は状態なより強
固にするためには、前述したシート材１１４Ａ、１１４
Ｂの切欠ぎ１１６に接着剤ケ充填する。この接着剤によ
る固定は必らずしも必要でない。

以上のように、木実施例では、磁石による吸引力を利用
してペリクル１０６．１［］８　Ｙマスクに対し仮止め
することとしているので１位置合せあるいは塵埃等の除
去のためのペリクル１０６　、１０８の着脱ヲきわめで
容易に行へことができる。また、ペリクル１０６，１０
８とガラス基板１００との接合部分に、シート材１１４
Ａ、１１４８　ｉ’２設けているの千１ペリクル着脱時
の損傷の発生が防止されるとともに、仮止めの状態にお
いてもぺ１１クル１０６，１０８とガラス基板１００と
の密着性が向上し、ペリクル１０６，１０８のずれの発
生や異物の入り込みも防止される。なお。

ヘリクル１０６，１０８ノ仮止メハ、ｍ　石１２０Ａ、
１２０Ｂ　ニよって行なわれるが、磁力による吸引力が
働らく工）であれば、必ずしも磁石である必要Ｃズなく
、磁石１２ＯＡ、、１２０Ｂのいずれか一方を鉄、ニッ
ケルなどの磁性材料で形成する。ｃ５にしてもよい。ま
た。

必要に応じて磁石１２ＯＡ、１２０Ｂの部分にもシート
材を設けるよ）にしてもよい。以下の実施例についても
同様である。

更に、木実施例では、ペリクル１０６，１０８の内ｆｌ
ｉ＋に磁石１２０Ａ、１２０８　Ｖ設けているので、枠
１１２ん１１２Ｂの外形は、従来の枠形状と何ら変るこ
とがない。

従って、ペリクル付マスク（又はレチクル）に対応でき
る露光装置、検査装置などに対し、従来と同様に自動搬
送することが可能となる。

次に、第４図を参照しながら、本発明の第２実施例につ
いて説明する。なお、上述した第１実施例と同様の構成
部分については、同一の符号ケ用いることとする。この
実施例は、等倍投影式の露光装置において使用する場合
であるから、ベリクルは、マスクの片面にのみ取付けら
れる。第４図は、第２図に対応する断面図である。

この第４図において、ペリクル２０６は、ガラス基板１
００のパターン面１０４側に取りつけられている。この
例では、枠２１２の外側適宜位置に磁石２２０が保持部
材２３０ヲ介して着脱自在に設けられている。保持部材
２３０としては、接着テープ、接着布（而）了スナー）
などが使用される。枠２１２のうち、ガラス基板１００
と接する部分には、シート材２１４が設けられており、
また、反対側Ｉとは、ペリクル膜２１８が張設されてい
る。シート材２１４ト同様のシート材２３２は、磁石２
２０のガラス基、板１００と接する部分にも設けられて
いる。

ガラス基板１００のうち、ガラス面１０２側には。

べ１】クル２１８の枠２１２の開口２１０の大きさに対
応する矩形開口２５０ヲ有する磁性材料から成る板Ｂが
シート材２５４ケ介して取付けられている。なお。

べ１１クル２０６の枠２１２の開口２１０及び板２５２
の開口２５０の大ぎさは、第１図に示すパターン領域Ｐ
Ａを十分にカバーできる大きさとなっている。なお。

シート材２１４には、必要ｌこ応じて第３図に示す切欠
ぎ１１６が形成される、次に、上記実施例の全体的作用について説明する。まず
、ぺ１１クル２０６ヲガラス基板１００に対して取り付
ける場合について説明する、この場合。

ガラス基板１００Ｃま、まず、板２５２上にシート材２
５４ケ介して載置さねる。このとき、パターン領域ＰＡ
が開口２５０からはずねることがない工５位置合せケ行
へ。次に、ペリクル２０６ヲガラス基板１００に対し、
パターン領域ＰＡが開口２１０からはずれる力が働うい
て、ペリクル２０６は仮止めさね、た状態となる。位置
決めが適当でない場合、あるいはゴミなどが付着してい
る場合には、前述した第１実施例と同様の操作が行なわ
れ、ゴミ等が除去された後、適当な位置にペリクル２０
６を付は直す。べ１】クル２０６の暇付け、取りはずし
は、磁石２２０と一体に行なわれる。

そしてぺ１］クル２０６の取付は後、シート材２１４に
設けられでいる切欠ｔ１１６又はシート材２１４とパタ
ーン而１０４の境界部分に接着剤が流し込まね。

ペリクル２０６の枠２１２とガラス基板１００とが接着
される、この接着後、磁石２２０は、シート材２３２も
含めて、枠２１２から取りはずわる。このとき、必要に
応じて保持部材２３０も除去される。

以上のよ）に、木実施例によれば、第１実施例における
効果の他に、磁石２２０を再利用できるとい５効果があ
る。なお、板２５２についても同様である。

第５図は、本発明の第３実施例な示すもので、第２図あ
るいは第４図に対応する断面図である。

この第５図において、ペリクル３０６　、３０８の枠３
１２Ａ。

６１２Ｂの側部には、四部３３０Ａ、３３０Ｂが各々設
けられている。これらの四部３３０Ａ、３３０Ｂに臨む
ガラス基板１００の端縁には、ブロック３３２が各々設
けらねでいる。このブロック３３２には、溝３３４が形
成されており、この溝３６４にガラス基板１００の端部
が挿入さね、る工）になっている。このブロック３３２
は、ガラス基板１００ヲ損傷しない工うに例えば合成樹
脂性の材料によって形成さねており、上下面には、板バ
ネ３３６が各々設けられている。この板バネ３３６は、
べ１１クル３（１６，３０８のを付は状態において、そ
の一端が前記凹部３３［］Ａ、３３０Ｂに係合し。

ペリクル３０６，３０８　ｗマスクの方に抑圧付勢する
作用を奏する。すなわち、ぺ１１クル３０６．３０８は
、板バネ３３６によってガラス基板１００に仮止めされ
る工）になっている。

板バネ３３６は、枠３１２Ａ、３１２Ｂの凹部３３０Ａ
、３３０Ｂに先端部がわずかに係合さねているのみであ
るから、容易に欧りはずすことかでと、ペリクル３０６
３０８の着脱が簡単に行い得る。

次に、板バネ３３乙に１ってガラス基板１００にぺ１】
クル５０６　、３（）８馨を付けた後、シート材３１４
Ａ、３１４Ｂの部分に外側から接着剤３３８Ａ、３３８
Ｂ　ｗ塗布し、ぺＩＩクル３０６，３０８の枠３１２Ａ
、３１２Ｂ　ｖガラス基板１００１こ接着するとともに
、ブロック３６２及び板バネ島を取りはずす。

なお、ブロック３３２及び板バネ３３６は、好ましくは
枠３１２Ａ、３１２Ｂの周囲に対称に設ける。ｃ５にす
る。また、板バネ３３６が係合する凹部３３０Ａ、３３
０Ｂのかわりに突起を設け、これに板バネ３３６を係合
させるようにしても、板バネ３３６の作用によりレチク
ル３０６，３０８　ｗガラス基板１００の方向に押圧す
凹部３３０Ａ、　３３０Ｂに各々係合するよ５になって
いるので、枠３１２Ａ、３１２Ｂの位置決め用の治具と
しても利用できる。

次に、第６図ケ参照しながら、本発明の第４実施例につ
いて説明する。この実施例は、第５図に示すブロック３
６２及び板バネ３６６から成るクリップを更に改良した
ものである。ガラス基板１００に係合されるブロック４
３２の溝４５０には、ガラス基板１００の損傷を防止す
るため、シート材４５２が設けられている。好ましくは
、シート材４５２とガラス基板１００との摩擦によりブ
ロック４３２が容易にガラス基板１００から抜けること
がない工）にすａブロック４６２の上面には、ビン４５
４によって略Ｌ字状の板部材４５６が回動自在に軸止さ
れていａこの板部材４５６のうち、枠３１２八方向に延
設された部分は、板バネとしての作用ケ奏するものであ
り、他の方向に延設された部分は、板部材４５６ヲ回動
させるためのレバーとしての作用を奏する。

ブロック４６２レガラス基板１００の端部に係合して板
部材４５６のレバ一部４５８ケ矢印Ｆと反対の方向に操
作すると、板部材４５６の板バネ部４６０が枠３１２Ａ
の四部３３ＯＡと係合することとなる。このため、板バ
ネ部４６０の作用により、枠６１２Ａがガラス基板１０
０の方向に押圧されることとなる。また、ペリクル３０
６ヲガラス基板１００から散りはずすとぎは、レバ一部
４５８を矢印Ｆの方向に操作すればよい。なお、両面ぺ
１１クルの場合には、ブロック４３２の下側にも、板部
材４５６ケ同様に設ける工）にしてもよい。以上の工へ
な第５図及び第６図に示すり１１ツブは、いずれも再利
用が回部である。

なお、本発明は、何ら上記実施例に限定されるものでは
なく、構造９寸法、形状等は、必要に応じて適宜変更す
る↓へにしてよい。例えば、枠は円形であっても工いし
、磁石な枠内に埋設するよ５にしてもよく、あるいは枠
自体を磁石あるいは磁性部材としてもよい。

また、上記各実施例において、ペリクル枠１１久１１２
Ｂ、２２０，３１２Ａ、＋１２Ｂの側面に、べ１１クル
膜の内部と外気とを連通ずる空気孔？設け、ぺ１１クル
膜の内部圧力と大気圧とに差圧が生じない工５にすると
よい。

これは、例えば大気圧変動による差圧によってペリクル
膜の平面性の悪化（たわみ等）を防止するのに効果的で
ある。平面性が悪化すると光学特性に影響を与えるだけ
でなく、自動搬送の場合等、ふくらんだペリクル膜が搬
送路中の機械部材にひっかかり、ペリクル膜ン破損する
といった思わぬ事故も起しかねない。従って、空気孔ケ
設けておけば、これらの問題点が解決される。ただし、
単に空気孔を開けただけでは、そこからゴミが混入する
恐れもあるので、その空気孔には例えば０．１μｍ程度
の大きさのゴミも通さないｘ５なフィルターを設けるこ
とが望ましい。

りりｎ　−−で　　　りにり　−帽　　　χｚｎＡ　ズ
スｎロ　−、ｎｎ蝕　　　ススリ〔発明の効果〕以上説明したように、本発明によるマスク保護装置によ
れば、マスクに対してべ】ノクルを仮止めする手段を設
けることとした０】で、マスクに対するぺ１１クルの着
脱が容易となり１着脱時における損傷の発生が低減され
るとともに、ペリクルの再使用の可能性も向上するとい
）効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明にかかるマスク保護装置の第１実施例な
示す斜視図、第２図は第１図のＮ−１線に沿った断面を
示す断面図、第６図は第１図の一部分を拡大して示す斜
視図、第４図は本発明の第２実施例を示す断面図、第５
図は本発明の第３実施例を示す断面図、第６図は本発明
の第４実施例ケ示す主要部の斜視図である。〔主要部分の符号の説明〕１００・・ガラス基板−１０６，１０８，２０６，３０
６，３０８・・ペリクル、１ｔ２Ａ、、１１２Ｂ、２１
２，３１２Ａ、３１２Ｂ・・枠、１１４Ａ、１１４Ｂ２
１４．３１４Ａ、３１４Ｂ、２３２，２５４，４５２・
・シート劇、１１６・・切欠き、１１８Ａ、１１８Ｂ、
２１８・・ペリクル膜、１２ＯＡ、１２０Ｂ。（２Ｄ）

Claims

【特許請求の範囲】

（１）マスク基板に形成された原画パターンを含むパタ
ーン領域を塵埃等から保護するマスク保護装置において
、前記パターン領域を含むように前記マスク基板上に一
方の縁部が当接する枠部材と、前記マスク基板の表面に
対して一定の間隔を有するように前記枠部材の他方の縁
部に張設された膜手段と、前記枠部材を着脱容易に前記
マスク基板に対して仮止めする仮止め手段とを含むこと
を特徴とするマスク保護装置。
（２）前記枠部材は、緩衝部材を介して基板に当接する
特許請求の範囲第１項記載のマスク保護装置。
（３）前記仮止め手段は、緩衝部材を介して基板に当接
する特許請求の範囲第１項又は第２項記載のマスク保護
装置。
（４）前記仮止め手段は、磁力による吸引力を利用した
手段である特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれ
かに記載のマスク保護装置。
（５）前記仮止め手段は、前記枠部材の内壁側に設けら
れている特許請求の範囲第１項ないし第４項のいずれか
に記載のマスク保護装置。
（６）前記仮止め手段は、前記枠部材の外壁側に設けら
れている特許請求の範囲第１項ないし第４項のいずれか
に記載のマスク保護装置。
（７）前記仮止め手段は、枠部材をバネ手段によつて基
板に押圧する手段である特許請求の範囲第１項ないし第
３項のいずれかに記載のマスク保護装置。
（８）前記仮止め手段は、枠部材に対して着脱自在であ
る特許請求の範囲第６項又は第７項記載のマスク保護装
置。