JPS6454044U - - Google Patents

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JPS6454044U
JPS6454044U JP1987149924U JP14992487U JPS6454044U JP S6454044 U JPS6454044 U JP S6454044U JP 1987149924 U JP1987149924 U JP 1987149924U JP 14992487 U JP14992487 U JP 14992487U JP S6454044 U JPS6454044 U JP S6454044U
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Japan
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pellicle
substrate
pellicle frame
protrusion
attached
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Pending
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JP1987149924U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例によるペリクルを基
板に装着した状態の斜視図、第2図は第1図のペ
リクルに使用される両面装着用ガイド部材の拡大
斜視図、第3図a及びbはそれぞれ第1図のペリ
クル枠の平面図及び側面図、第4図は第3図中の
X―X′線拡大断面図、第5図及び第6図はそれ
ぞれ装着ガイド部材の変形例を示した拡大斜視図
である。 10…ペリクル、1…フオトマスク基板、2…
ペリクル膜、3…ペリクル枠、4…装着ガイド部
材、31…穴、32…へこみ(係止用孔)、33
…凹部、41…棒、42…突出部。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ペリクル枠と、該ペリクル枠の一端開口面に張
    設されたペリクル膜とを有し、前記ペリクル枠の
    他端が基板に接触された状態で前記基板に装着さ
    れるペリクルにおいて、前記基板の周縁の少なく
    とも一部に嵌合する装着ガイド部材を備え、該装
    着ガイド部材は、その表面の一部に、突出部を有
    し、前記ペリクル枠は、その側面の一部に前記突
    出部を係止する係止用孔を有することを特徴とす
    るペリクル。
JP1987149924U 1987-09-30 1987-09-30 Pending JPS6454044U (ja)

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JPS6454044U true JPS6454044U (ja) 1989-04-04

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JP (1) JPS6454044U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011075662A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Toppan Printing Co Ltd ペリクル、フォトマスク、および半導体デバイス

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6118956A (ja) * 1984-07-05 1986-01-27 Nippon Kogaku Kk <Nikon> マスク保護装置
JPS6250758A (ja) * 1985-08-29 1987-03-05 Fujitsu Ltd パタ−ン形成方法
JPS6258455B2 (ja) * 1981-12-11 1987-12-05 Nippon Electron Optics Lab

Patent Citations (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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