JP2011075662A - ペリクル、フォトマスク、および半導体デバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、マスク基板に圧着して貼り付けるペリクルフレームと、前記ペリクルフレームに張られたペリクル膜と、を備え、前記ペリクルフレームは、前記マスク基板に貼り付けることで歪応力を発生し、前記歪応力は、前記マスク基板の自重たわみを相殺することを特徴とするペリクルであり、前記マスク基板の自重たわみを相殺することから、マスク基板の平坦度を改善することが出来る。
【選択図】図1
Description
を特徴とするペリクルである。
12…ペリクルフレーム
13…ペリクル膜
14…接着層
15…マスク基板
16…マスク基板保持部
17…ペリクル基板保持部
18…押し当てプレート
21…レーザー照射器
22…光強度計
23…ペリクル付マスク基板
24…ステージ
25…駆動部
26…変換装置
27…データ保持部
28…レーザー光
Claims (8)
- マスク基板に圧着して貼り付けるペリクルフレームと、
前記ペリクルフレームに張られたペリクル膜と、を備え、
前記ペリクルフレームは、前記マスク基板に貼り付けることで歪応力を発生し、
前記歪応力は、前記マスク基板の自重たわみを相殺し、
前記ペリクルフレームは、前記マスク基板に貼り付ける側の該ペリクルフレームにより囲まれた面が曲面を成したペリクルフレームであり、
前記歪応力は、前記ペリクルフレームにより囲まれた面が平面を成すように圧着することにより発生すること
を特徴とするペリクル。 - 前記ペリクルフレームは、ペリクルフレーム側面の厚みが一様でないペリクルフレームであること
を特徴とする請求項1に記載のペリクル。 - 前記ペリクルフレームは、高さが中央部にいくにしたがって、高くなるような形状に形成された枠構造を有するペリクルフレームであること
を特徴とする請求項2に記載のペリクル。 - 前記ペリクルフレームは、高さが中央部にいくにしたがって、低くなるような形状に形成された枠構造を有するペリクルフレームであること
を特徴とする請求項2に記載のペリクル。 - 前記ペリクルフレームは、ペリクルフレーム側面の厚みが一様であること
を特徴とする請求項1に記載のペリクル。 - 前記マスク基板と前記ペリクルフレームの間に接着層と、を備え、
前記接着層は、厚みが一様ではない接着層であり、
前記歪応力は、厚みが一様ではない前記接着層により前記ペリクルフレームがマスク基板に圧着されることにより発生すること
を特徴とする請求項1に記載のペリクル。 - 請求項1から6のいずれかに記載のペリクルが貼り付けられたフォトマスク。
- 請求項7に記載のフォトマスクを用いて製造された半導体デバイス。
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