JP2016105120A - ペリクルフレームおよびこれを用いたペリクル - Google Patents
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- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 17
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 12
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 6
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 3
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 3
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- -1 LSI and VLSI Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
本発明の目的は、製造および取り扱いが容易であるとともに、ペリクルをフォトマスクに貼り付けた際に、露光中に水平保持されたフォトマスクに与える歪の変動を小さく抑えることができるペリクルフレームおよびこれを用いたペリクルを提供することである。
【解決手段】
本発明は、長辺と短辺を有する矩形のペリクルフレームであって、少なくとも一対の辺に反りが付与され、その反りの大きさは、一対の辺の中央部において、ペリクル膜面と垂直な方向に辺の辺長に対して0.01〜1%であることを特徴とするペリクルフレームおよびこれを用いて構成されるペリクルである。
【選択図】図3
Description
11 マスク粘着面
12 ペリクル膜接着面
13 通気孔
14 治具孔
15 フレームの端部と端部を結ぶ仮想直線
41 フォトマスク
42 フォトマスク支持手段
43 フォトマスクの端部と端部を結ぶ仮想直線
51 支持手段
52 基準面
53 フレーム端部
54 フレーム中点
61 変形加工型
62 ペリクルフレーム
63 加圧手段
71 反り加工済み板材
72 切削刃物
73 ペリクルフレーム
74 固定ボルト
75 テーブル
80 ペリクル
81 マスク粘着層
82 セパレータ
83 ペリクル膜接着層
84 ペリクル膜
85 フィルタ
91 フォトマスク基板
92 支持台
93 定盤
94 スタンド
95 ダイヤルゲージ
L 辺長
d 反り量
Claims (5)
- 長辺と短辺を有する矩形のペリクルフレームであって、少なくとも一対の辺に反りが付与され、該反りの大きさは、前記一対の辺の中央部において、ペリクル膜面と垂直な方向に前記辺の辺長に対して0.01〜1%であることを特徴とするペリクルフレーム。
- 前記反りの大きさは、適用するフォトマスクの辺長に対するペリクル貼り付け領域における最大自重撓み量に対して、±30%の範囲であることを特徴とする請求項1に記載のペリクルフレーム。
- 前記反りの方向は、フォトマスクに貼り付けられた際に、フォトマスクが自重で撓む方向に向かって凸であることを特徴とする請求項1または2に記載のペリクルフレーム。
- 前記ペリクルフレームの高さは、2〜10mmの範囲であることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のペリクルフレーム。
- 前記請求項1〜4の何れかに記載のペリクルフレームを用いたことを特徴とするペリクル。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014242786A JP6293041B2 (ja) | 2014-12-01 | 2014-12-01 | ペリクルフレームおよびこれを用いたペリクル |
KR1020150158790A KR102461618B1 (ko) | 2014-12-01 | 2015-11-12 | 펠리클 프레임 및 이것을 사용한 펠리클 |
US14/941,804 US9766538B2 (en) | 2014-12-01 | 2015-11-16 | Pellicle frame and a pellicle |
EP15194993.0A EP3029522B1 (en) | 2014-12-01 | 2015-11-17 | A pellicle frame and a pellicle |
CN201510802587.2A CN105652587B (zh) | 2014-12-01 | 2015-11-19 | 防尘薄膜组件框架以及使用该防尘薄膜组件框架的防尘薄膜组件 |
TW104138361A TWI585516B (zh) | 2014-12-01 | 2015-11-20 | A pellicle frame, and a pellicle assembly using the pellicle frame |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014242786A JP6293041B2 (ja) | 2014-12-01 | 2014-12-01 | ペリクルフレームおよびこれを用いたペリクル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016105120A true JP2016105120A (ja) | 2016-06-09 |
JP6293041B2 JP6293041B2 (ja) | 2018-03-14 |
Family
ID=54548085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014242786A Active JP6293041B2 (ja) | 2014-12-01 | 2014-12-01 | ペリクルフレームおよびこれを用いたペリクル |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9766538B2 (ja) |
EP (1) | EP3029522B1 (ja) |
JP (1) | JP6293041B2 (ja) |
KR (1) | KR102461618B1 (ja) |
CN (1) | CN105652587B (ja) |
TW (1) | TWI585516B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101889876B1 (ko) * | 2016-11-18 | 2018-09-28 | 주식회사 네오세미텍 | 마스크 패턴의 보정 방법 |
CN108123671A (zh) * | 2017-11-29 | 2018-06-05 | 北京创昱科技有限公司 | 一种框架压缩装置及薄膜拉伸方法 |
JP7061288B2 (ja) * | 2018-08-28 | 2022-04-28 | 日本軽金属株式会社 | フラットパネルディスプレイ用ペリクル枠体及びその製造方法 |
JP6975702B2 (ja) * | 2018-11-30 | 2021-12-01 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレームおよびペリクル |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011075662A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Toppan Printing Co Ltd | ペリクル、フォトマスク、および半導体デバイス |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10198039A (ja) | 1997-01-09 | 1998-07-31 | Adtec Eng:Kk | 露光装置 |
JP2000047390A (ja) | 1998-05-22 | 2000-02-18 | Nikon Corp | 露光装置およびその製造方法 |
US6885436B1 (en) * | 2002-09-13 | 2005-04-26 | Lsi Logic Corporation | Optical error minimization in a semiconductor manufacturing apparatus |
JP4362732B2 (ja) | 2005-06-17 | 2009-11-11 | 信越化学工業株式会社 | フォトマスク用大型ガラス基板及びその製造方法、コンピュータ読み取り可能な記録媒体、並びにマザーガラスの露光方法 |
CN102944973B (zh) * | 2008-09-12 | 2015-01-21 | 旭化成电子材料株式会社 | 表膜构件框体、表膜构件和表膜构件框体的使用方法 |
US8202671B2 (en) * | 2009-04-28 | 2012-06-19 | Nikon Corporation | Protective apparatus, mask, mask forming apparatus, mask forming method, exposure apparatus, device fabricating method, and foreign matter detecting apparatus |
JP5481106B2 (ja) | 2009-06-24 | 2014-04-23 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
JP5411595B2 (ja) | 2009-06-24 | 2014-02-12 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
JP5411596B2 (ja) | 2009-06-24 | 2014-02-12 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
JP5940283B2 (ja) * | 2011-11-04 | 2016-06-29 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
JP5746662B2 (ja) * | 2012-05-11 | 2015-07-08 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム |
JP5822401B2 (ja) * | 2012-12-25 | 2015-11-24 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィ用ペリクル |
CN105051604B (zh) * | 2013-03-15 | 2019-07-23 | 旭化成株式会社 | 表膜用膜和表膜 |
-
2014
- 2014-12-01 JP JP2014242786A patent/JP6293041B2/ja active Active
-
2015
- 2015-11-12 KR KR1020150158790A patent/KR102461618B1/ko active IP Right Grant
- 2015-11-16 US US14/941,804 patent/US9766538B2/en active Active
- 2015-11-17 EP EP15194993.0A patent/EP3029522B1/en active Active
- 2015-11-19 CN CN201510802587.2A patent/CN105652587B/zh active Active
- 2015-11-20 TW TW104138361A patent/TWI585516B/zh active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011075662A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Toppan Printing Co Ltd | ペリクル、フォトマスク、および半導体デバイス |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3029522A1 (en) | 2016-06-08 |
TWI585516B (zh) | 2017-06-01 |
KR102461618B1 (ko) | 2022-11-01 |
US20160154300A1 (en) | 2016-06-02 |
CN105652587B (zh) | 2019-12-06 |
US9766538B2 (en) | 2017-09-19 |
CN105652587A (zh) | 2016-06-08 |
KR20160065741A (ko) | 2016-06-09 |
JP6293041B2 (ja) | 2018-03-14 |
EP3029522B1 (en) | 2020-01-01 |
TW201626102A (zh) | 2016-07-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170901 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170830 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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