TW201626102A - 防塵薄膜組件框架以及使用該防塵薄膜組件框架的防塵薄膜組件 - Google Patents

Abstract

一種易於製造以及處理的同時，在將防塵薄膜組件貼附於光遮罩時，可以將曝光中保持水平的光遮罩的形變抑制到很小的防塵薄膜組件框架以及使用該防塵薄膜組件框架的防塵薄膜組件。所述防塵薄膜組件框架，具有長邊和短邊的矩形，其特徵在於，對至少一對的邊賦予翹曲，在所述的一對邊的中央部，所述翹曲的大小，在與防塵膜面垂直的方向上，相對於邊的邊長為0.01~1%。

Description

防塵薄膜組件框架以及使用該防塵薄膜組件框架的防塵薄膜組件

本發明涉及在半導體裝置、IC封裝、印刷基板、液晶面板或有機EL面板等的製造中作為防塵器使用的防塵薄膜組件框架以及使用該防塵薄膜組件框架的防塵薄膜組件。

LSI、超LSI等的半導體或液晶顯示器等的製造中，要向半導體晶片或液晶用玻璃板照射紫外光進行圖案的製作，此時，如果所用的光遮罩上有灰塵附著，該灰塵會遮擋或反射紫外光，從而就會發生轉印的圖案的變形、短路等，從而帶來品質的降低。

因此，這些作業，通常在無塵室中進行，即使如此也難以總是保持光遮罩清潔。因此，要在光遮罩表面貼附作為防塵器的防塵薄膜組件後再進行曝光。在該場合，異物不會在光遮罩的表面上直接附著，而是附著在防塵薄膜組件上，因此，在光刻時只要將焦點對在光遮罩的圖案上，防塵薄膜組件上的異物就與轉印沒有關係了。

一般說來，防塵薄膜組件，是通過將由光可以良好透過的硝酸纖維素，醋酸纖維素或氟樹脂等製成的透明的防塵膜貼附於由鋁合金、不銹鋼、工程塑料等製成的防塵薄膜組件框架的上端面而構成。再者，防塵薄膜組件框架的下端，具有為了安裝光遮罩的由聚丁烯樹脂，聚醋酸乙烯基樹脂，丙烯酸樹脂，有機矽樹脂等形成的黏著層以及根據必要設置以保護黏著層為目的離型層(分離片)。

近年，伴隨著曝光圖案的細微化，由於貼附防塵薄膜組件而造成的光遮罩的形變成了問題。在光遮罩和防塵薄膜組件框架藉由遮罩黏著劑結合在一起時，防塵薄膜組件框架的形狀會影響光遮罩的形狀，使光遮罩表面描繪的圖案由原本的變形，所以期望有一種對安裝後的光遮罩形狀的影響極小的防塵薄膜組件。

作為其解決方案，有人提議，例如可以使遮罩黏著材變得柔軟，或將防塵薄膜組件框架的平面度提高。在這些的提案中，雖然可以降低防塵薄膜組件框架對光遮罩形狀的影響，但是不充分。這是由於防塵薄膜組件框架以及光遮罩的平面度，都不完全理想，如將它們組合，其影響會有大有小。

因此，也有這樣的提議，即更本質地，使防塵薄膜組件框架的剛性盡可能地變小，使其良好地對光遮罩的形狀進行追從，例如，使用樹脂等的剛性的低的材質，再者，使防塵薄膜組件框架的高度變低，使截面積減小，從而使剛性降低等(專利文獻1，2以及3參照)。

另一方面，在幾乎所有的曝光裝置中，光遮罩在曝光中都要進行水平支持，所以使用中的光遮罩由於其自重會發生撓曲的問題。如果光遮罩發生過大的撓曲，其表面描繪的曝光圖案就會形變，不能按最初設計的那樣進行圖案曝光。為了防止該問題，通常有根據光遮罩的大小來使板厚增加，使自重撓曲的大小降低到期望值以下的方法(專利文獻4參照)，再者，還有，特別是在大模型的曝光機中，用負壓等來對光遮罩的撓曲進行補正的方法(專利文獻5參照)，另外，還有對光遮罩的自重撓曲用光學系統進行補正的方法(專利文獻6參照)等。

防塵薄膜組件以及防塵薄膜組件框架，通常以光遮罩具有理想的平面為前提，進行平面製作，其平面度越高(高平坦)越好，但是與使用中(曝光中)的光遮罩的形狀並一定相合。因此，為了使他們良好的一致，可以進一步採取將光遮罩的厚度增加，使自重撓曲的大小變小的對策，但是該對策，由於光遮罩素材為價格高的合成石英，所以具有越增加板厚，成本以及重量越増加的問題。

再者，作為另一對策，是將防塵薄膜組件框架的剛性變得極小，使其對光遮罩形狀的追從性進一步提高。但是，在對防塵膜的張貼狀況進行維持的同時，為了不使其從製造到貼附的作業中產生變形以及防塵膜的褶皺的問題，防塵薄膜組件框架的剛性要越高越好，由此如果防塵薄膜組件框架的剛性降低過大，會在製造以及處理中產生問題。所以該對策，在實際上，難以使防塵薄膜組件框架的剛性大幅度地降低。

如此，曝光中的光遮罩會由於自重而發生的撓曲，另一方面，在該光遮罩上將防塵薄膜組件安裝時，曝光中的光遮罩的形狀受自重撓曲影響而產生的形狀變化和對此變化進行抵抗的防塵薄膜組件的形狀變化夾雜在一起，從而會呈現複雜的形狀，但是至今為止，對防塵薄膜組件框架以及防塵薄膜組件在曝光中的撓曲給光遮罩形狀帶來的形變加以考慮後，再進行防塵薄膜組件製作的例子還不存在。 [先行技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2011-7933號 [專利文獻2]日本特開2011-7934號 [專利文獻3]日本特開2011-7935號 [專利文獻4]日本特開2007-176782號 [專利文獻5]日本特開平10-198039號 [專利文獻6]日本特開2000-47390號

[發明所欲解決之課題]

如此，本發明就是鑒於上述情況而完成的。即本發明的目的是，提供一種在易於製造以及操作的同時，可以在防塵薄膜組件貼附於光遮罩時對曝光中保持水平的光遮罩的形變進行抑制的防塵薄膜組件框架以及使用該防塵薄膜組件框架的防塵薄膜組件。 [解決課題之手段]

本發明的發明人，為了達到上述目的進行了深入地研究，發現如將與光遮罩由於自重而產生撓曲的大小為同等程度且同方向的翹曲預先賦予至防塵薄膜組件框架的至少一對邊的中央部，然後將用該防塵薄膜組件框架製作的防塵薄膜組件貼附於光遮罩時，就可以將該防塵薄膜組件在其貼附前後對光遮罩的形變的影響抑制在小的範圍，從而完成了本發明。

即，本發明的防塵薄膜組件框架為具有長邊和短邊的矩形，其特徵在於：對至少一對的邊上賦予翹曲，在所述的一對邊的中央部，所述翹曲的大小，在與防塵膜面垂直的方向上，相對於所述邊的邊長為0.01~1%。

再者，優選所述形變的大小與防塵薄膜組件框架的邊長的比要處於，防塵薄膜組件貼附領域的最大自重撓曲的大小與適用的光遮罩的邊長的比加或減30%的範圍，該防塵薄膜組件框架的翹曲的方向為，在貼附於光遮罩時，向著光遮罩自重造成的撓曲方向為凸狀，進一步，優選該防塵薄膜組件框架的高度為2mm~10mm。

本發明的防塵薄膜組件的特徵為用這樣賦予了翹曲的防塵薄膜組件框架來構成。     [發明的效果]

根據本發明，在將用被賦予了翹曲的防塵薄膜組件框架構成的防塵薄膜組件貼附於光遮罩時，可以將帶給使用中的光遮罩的形變的變動抑制在很小。

以下，對本發明的實施方式進行說明，本發明以所有在曝光機內因自重而產生撓曲的光遮罩上安裝的防塵薄膜組件框架以及防塵薄膜組件為對象，其大小以及用途沒有限定。具體的說，本發明的防塵薄膜組件框架，於從光遮罩的形變特別重要的尖端半導體製造中使用的邊長為150mm左右的防塵薄膜組件，到光遮罩的自重撓曲的大小特別大的邊長為500mm~2000mm的液晶以及有機EL顯示器製造用途的防塵薄膜組件都可以應用。

圖1、圖2以及圖3為本發明的防塵薄膜組件框架的一實施方式的圖。圖1為平面圖，圖2為正面圖，圖3為右側面圖。

防塵薄膜組件框架10，為具有長邊和短邊的矩形，在至少一對的邊上，與防塵膜接著的面垂直的方向上有翹曲。在該實施方式中，如圖3所示，翹曲被賦予短邊，翹曲的大小d，優選為相對於短邊的全長L的0.01~1%的範圍。所給予的翹曲的大小d，可以如後述那樣，可與應用的光遮罩的撓曲的大小相對應來進行決定，但是，相對於邊長的0.01%以下的小的翹曲，效果不能充分發揮，並且加工的大小過少，不能製造安定的框架。另一方面，對於邊長賦予超過1%那樣大的翹曲的場合，在防塵薄膜組件的製造工程中，會由於翹曲，使黏著劑、接著劑的塗布以及膜的接著作業發生困難，故不優選。

該翹曲的方向，優選向著貼附於光遮罩基板貼附時的光遮罩的自重造成的撓曲方向成凸狀。圖4為安裝了本發明的防塵薄膜組件的光遮罩的曝光中的截面圖。如圖4所顯示的那樣，光遮罩41，被遮罩支持部42在2個邊支持，由於其自重，發生了撓曲。圖4中的43，為連接光遮罩的兩端部的假想直線，所以光遮罩41，向下方呈凸狀撓曲。此時，如果構成防塵薄膜組件80的防塵薄膜組件框架10的翹曲形狀也呈向著光遮罩41自重撓曲的方向(圖4中的向下方向)為凸狀的話，貼附於光遮罩41的防塵薄膜組件80就可以將其給予光遮罩41的形變的影響抑制到很小。

該翹曲的大小和翹曲的形狀，相對於光遮罩41的由自重造成的撓曲的大小和撓曲形狀越近似，防塵薄膜組件80的影響就越小。但是，對每個不同的光遮罩基板的撓曲形狀都進行嚴格地管理在工業上是困難的，所以實用上優選只對翹曲的大小進行管理。

翹曲的大小與防塵薄膜組件框架10的邊長的比(翹曲的大小/防塵薄膜組件框架10的邊長)特別優選為，處於防塵薄膜組件貼附領域的最大自重撓曲的大小與適用的光遮罩41的邊長的比(最大自重撓曲的大小/光遮罩的邊長)加或減(±)30%以內的範圍。因此，光遮罩41的支持方式在長邊和短邊不同的場合，賦予防塵薄膜組件框架10的翹曲的大小在長邊和短邊也不同。翹曲的大小與防塵薄膜組件框架10的邊長的比(翹曲的大小/防塵薄膜組件框架10的邊長)比防塵薄膜組件貼附領域的最大自重撓曲的大小與應用的光遮罩41的邊長的比(最大自重撓曲的大小/光遮罩的邊長)-30%小的場合，賦予防塵薄膜組件框架的翹曲的效果變小，不充分。另一方面，翹曲的大小與防塵薄膜組件框架10的邊長的比(翹曲的大小/防塵薄膜組件框架10的邊長)比防塵薄膜組件貼附領域的最大自重撓曲的大小與應用的光遮罩41的邊長的比(最大自重撓曲的大小/光遮罩的邊長)+30%大的場合，向光遮罩的自重撓曲増加的方向的作用變大，特別是在邊的中央的場合，遮罩黏著層的從光遮罩的剝離力變大，也不優選。

光遮罩41，如圖4所示的那樣，一般二邊被支持情況為多，但是，即使其他的支持方式，例如全邊支持或者僅角部支持的方式，應用方法也是相同的。

圖5，為表示本發明的防塵薄膜組件框架10的翹曲測定方法的圖。使防塵薄膜組件框架10的測定邊被配置在上方，該框架沿著在基準面52上安裝的支持裝置51垂直站立的場合，防塵薄膜組件框架10的翹曲的大小d，可以藉由對從端部53之間的連接直線到防塵薄膜組件框架10的邊的中央部的中點54的距離進行計測的大小來得到。

另外，雖然在圖5中被省略了，但是在垂直配置的邊上，具有事先接觸配置的鉤子形狀等的防止防塵薄膜組件框架10的歪倒的裝置。翹曲的大小d的計測裝置，雖然可用卡尺等，但是優選雷射距離傳感器等的非接觸的計測機器。一條邊的測定完了後，變更防塵薄膜組件框架10樹立方式，用同樣的方法對其他的邊進行測定。

防塵薄膜組件框架10的材質可以使用金屬，樹脂，纖維強化樹脂等公知的各種材料，但是其中優選鋁合金，黃銅，鋼鐵，不銹鋼等的金屬。防塵薄膜組件框架10的材質為樹脂材料的場合，作為賦予翹曲方法，可以在成形加工時預先考慮翹曲來決定模型的形狀，或者成形後加熱加壓賦予翹曲等的方法，但是由於對溫度濕度等不安定，翹曲的大小的調整困難，所以不太應用。防塵薄膜組件框架10的材質為金屬材料的場合，可以用加壓等的塑性變形裝置賦予翹曲，該方法將在後面敘述。

防塵薄膜組件框架10的表面，為了進行粗化，優選用噴砂等的表面處理裝置將Ra1μm以下的粗化加工。鋁合金的場合，優選進行氧化膜處理以及化成處理，其他的金屬材料的場合，優選進行電鍍等的處理來進行防銹，防塵處理，再者，優選黒色。進一步，也優選不用這些的無機被膜，而用使用具有耐光性的氟樹脂、丙烯酸樹脂、有機矽樹脂等的塗裝，進一步，也可以在上述無機被膜的上面疊加樹脂被膜層。

防塵薄膜組件框架10，根據需要，可以如圖2那樣，設置使防塵薄膜組件內外通氣的通氣孔13、操作用的非貫通的夾具孔14以及溝(未圖示)等。再者，優選在表面進行機械刻印以及雷射刻印，印上模型號，製造號以及條形碼等。進一步，本實施方式中的防塵薄膜組件框架10的外形，為矩形，但是在角部設置短斜邊的八角形狀等的多角形狀也屬於本發明的範圍。防塵薄膜組件框架10的截面形狀，在本實施方式的矩形截面之外，也可以為梯形以及一部分有切角的形狀。

另外，高度方向的剛性低的防塵薄膜組件框架10，對貼附的光遮罩的變形，防塵薄膜組件框架10容易追從，即使使用本發明用其效果也小。作為該高度方向的剛性低的防塵薄膜組件框架10，例如有，樹脂等的彈性係數小的材料、以及防塵薄膜組件框架10的高度低之物。剛性低的防塵薄膜組件框架10的場合，在賦予翹曲時，其變形的大小的控制困難，難以製作所希望的翹曲形狀。本發明中，優選防塵薄膜組件框架10的高度為2mm以上10mm以下的範圍。在此，防塵薄膜組件框架的“高度”，在圖2中指11和12之間的尺寸。

防塵薄膜組件框架10的翹曲賦予的方法，可以例舉各種各樣的方式，沒有特別的限定。作為其中一例，為對在沒有翹曲狀態下加工的防塵薄膜組件框架10，在後加工時賦予翹曲。

圖6，為賦予翹曲的一個實施方式的圖。其為可以賦予所希望的彎曲形狀的翹曲加工模模型61，將防塵薄膜組件框架62押附在其上，用在其兩端配置的加壓裝置63施加負荷得到塑性變形。該方法，具有加工負荷小的優點。作為其加壓裝置，在油壓、空氣加壓等之外，也可以利用螺釘等的推壓機構以及根據需要也可以用手工作業來加工。加壓裝置63，不僅僅可以在防塵薄膜組件框架62的兩端，在內側配置也可。

在該加工中，變形加工後有回彈，所以，加工用的模型形狀，優選通過反復實驗，預先對回彈加以考慮，來決定設定值。再者，由於加工是在變為與最終產品相近形狀後進行的，所以要考慮接觸部分的表面處理等，以便不會產生由於傷痕等帶來的外觀品質的降低。

然後，圖7，為另一個加工方法的圖。圖7所示的那樣，本方法為對板材71預先賦予翹曲，從該狀態加工至防塵薄膜組件框架的方法。具體為將具有翹曲的板材71在機床上的檯子75上平放，用螺栓74等固定，將其用切削刀72切削加工。然後，加工後將固定的螺栓74卸下，得到具有翹曲的防塵薄膜組件框架73。

如圖6那樣，為將板材進行塑性加工賦予翹曲，所以需要大的負荷，即有使用大型加壓機等的大設備的場合。但是，圖7所示的加工方法，除素材的不同之外，可以用與通常的防塵薄膜組件框架完全同樣加工即可，故不繁雜，對大量生產而言這種方法是理想的。

圖8，為用防塵薄膜組件框架10構成防塵薄膜組件80時的斜視圖。遮罩黏著層81，在防塵薄膜組件框架10的一個面設置，其用丙烯酸系黏著劑，橡膠系黏著劑，有機矽黏著劑，熱熔性黏著劑等的黏著劑進行直接塗布形成，或者使用在發泡體等的具有柔軟性的基材的兩面設置薄的黏著層的兩面膠帶也可以。

遮罩黏著層81，優選，即使基礎防塵薄膜組件框架10成撓曲的形狀，只要在從防塵薄膜組件框架10基礎以一定的厚度(高度)被設置的同時，在該黏著層81的表面，進行平坦加工，使其平面度變高即可。通常，在遮罩黏著層81的表面上，為了進行保護，設置厚度為50μm~300μm左右的PET製薄膜等的表面賦予剝離性的分離片82，但是根據改良防塵薄膜組件的保管、收納方法，該分離片82也可以省略。

再者，防塵薄膜組件框架10的寬，可以根據需要自由設定。在長邊和短邊不同也沒問題，但是，優選遮罩黏著層81的寬度，在長邊和短邊相同。這是由於如果遮罩黏著層81的寬度在長邊和短邊不同的話，防塵薄膜組件貼附時的加壓力的管理會變得複雜的緣故。

防塵薄膜組件框架10的內面，為了對異物進行捕捉，優選塗布丙烯酸系黏著劑，有機矽系黏著劑等的黏著性物質(未圖示)。再者，為了防止發生灰塵，也優選僅在在防塵薄膜組件框架10的內面或者全面形成丙烯酸系樹脂，氟系樹脂等的非黏著性樹脂的被膜(未圖示)。這些黏著性樹脂，非黏著性樹脂的被膜的形成，可以通過噴霧、浸漬、粉體塗裝、電塗裝等的公知的方法來進行。

作為防塵膜84的材料，根據使用的曝光光源，優選從纖維素系樹脂，氟系樹脂等的材料選擇最合適之物，再者，作為其膜厚，從透過率，機械的強度等的觀點優選0.1μm~10μm程度的最適的膜厚。進一步，根據需要，賦予反射防止層也可。然後，防塵膜接著層83，可以使用丙烯酸系接著劑，氟系接著劑，有機矽系接著劑等的公知的接著劑來構成。

再者，在通氣孔13被設置的場合，為了防止從其外側進入異物，有必要安裝過濾器85，這些通氣孔以及過濾器的位置以及個數，藉由考慮要求的通氣性以及操作的狀況等來進行決定。     [實施例]

以下，對本發明的實施例進行具體的說明，但是本發明並不局限於此。

首先，準備圖1~圖3所示的那樣的防塵薄膜組件框架10。防塵薄膜組件框架10，為將A5052鋁合金進行機械切削加工而成，其尺寸形狀為短邊1146mm，長邊1366mm，短邊的寬度12mm，長邊的寬度12mm，高度5.8mm。再者，防塵薄膜組件框架10的各長邊在設置直徑1.5mm的通氣孔13，角部附近設置操作用非貫通的夾具孔14的同時，在稜部進行C0.1mm~0.2mm程度的切角。

然後，將該防塵薄膜組件框架10，安裝在圖6所示的翹曲加工模61上，將兩端的加壓裝置63用螺栓(未圖示)向下壓，由此在2個短邊賦予翹曲。將加工後的短邊中央的翹曲用圖5所示的方法進行計測，得知二個短邊，其翹曲都為向著防塵膜接著的方向為0.72mm，與短邊長的比率為0.063%。然後，全面進行Ra0.6程度的噴砂後，進行黒色氧化膜處理。

實施例中，用所示防塵薄膜組件框架10，進行圖8所示的那樣的防塵薄膜組件80的製作，以下，對其製作的過程進行具體說明。

首先，將防塵薄膜組件框架10用界面活性劑和純水進行良好的洗滌、乾燥。然後，作為遮罩黏著劑，將有機矽黏著劑(商品名：KR3700，信越化學工業(株)製)用在3軸直交機器人上搭載的氣體加壓式分佈器進行塗布。然後，將塗布的遮罩黏著面的相反面在平面度10μm加工的夾具上密著固定，在該狀態進行遮罩黏著劑的壓碎加工，進行平坦化，使遮罩黏著層的高度為1.2mm，該表面的平面度為30μm。

然後，作為遮罩黏著面11的相反面的防塵膜接著面12上的防塵膜接著層83，是將氟系樹脂(商品名：CYTOP，旭硝子(株) 製)用在3軸正交機器人上搭載的空氣加壓式分佈器塗布的。然後，將防塵薄膜組件框架10加熱至130℃，在溶媒乾燥的同時，將有機矽黏著劑加熱固化，形成防塵膜接著層83和遮罩黏著層81。

再者，為了對遮罩黏著層81的表面進行保護，將厚度125μm的在PET製薄膜上塗布了離型劑的分離片82加以設置。進一步，將PTFE多孔質膜組成的過濾器85用丙烯酸兩面黏著膠帶接著，使其將長邊的通氣孔13覆蓋。

防塵膜84，用這樣的過程進行製作。即，首先，作為防塵膜材料，將氟系樹脂(商品名：CYTOP，旭硝子(株)製)在平滑研磨的石英基板上以金屬模型塗布法成膜。其後，使溶媒乾燥，將石英基板上的膜剝離，得到厚度約4μm的剝離膜，將該剝離膜作為防塵膜84，黏結在在防塵薄膜組件框架10上形成的防塵膜接著層83上，進一步，將防塵薄膜組件框架10的外側的剩餘的不需要的防塵膜84用刀切斷除去，得到防塵薄膜組件80。

圖9為防塵薄膜組件80的評價方法的概略圖，防塵薄膜組件80的評價，如以下的步驟進行。

首先，準備1220x1400x厚度13mm，平面度20μm(垂直狀態)的石英玻璃製光遮罩基板91，將從該光遮罩基板91的兩個長邊的端部算起10mm的範圍用不銹鋼製的支持台92支持，在平面度5μm的平板93上水平配置。然後，從光遮罩基板91的短邊的端部算起50mm長度的部分的內側，對從平板93到光遮罩基板91上面的距離用支柱94支持的刻度盤95進行計測，得知光遮罩基板91的短邊中央部的撓曲的大小，其中一個邊為0.632mm，其對邊為0.615mm。

然後，在相同的光遮罩基板91的中央，將上述製作的防塵薄膜組件80加以中央配置，將其在210kgf的加壓力下貼附，再一次，設置於相同的平板93上。然後，與光遮罩基板91的所述計測相同，在由光遮罩基板91的短邊的端部50mm的部分的內側，對從平板93開始到光遮罩基板91上面的距離用刻度盤95進行計測，得知光遮罩基板91的短邊中央部的撓曲的大小，為相對於貼附前的撓曲的大小的0.632mm，貼附後的撓曲的大小為0.635mm，其對邊為相對於貼附前的0.615mm，貼附後的撓曲的大小為0.610mm，防塵薄膜組件80的貼附前後，其撓曲的大小幾乎都沒有變動。

因此，如本實施例的那樣，可以確認到，將對2個短邊分別賦予0.72mm的翹曲的防塵薄膜組件框架10得到的防塵薄膜組件80，貼附在光遮罩基板91時，可以將光遮罩基板91的形變的變動抑制到很小。      [比較例]

在比較例中，與上述實施例完全同樣地，製作沒有實施翹曲加工的同尺寸的防塵薄膜組件框架，對該防塵薄膜組件框架，用與上述實施例完全同樣的工序，製作防塵薄膜組件。然後，準備與上述實施例同尺寸的另一個光遮罩基板，將該防塵薄膜組件貼附後，與上述同樣，進行撓曲的大小的計測，評價。

其結果，光遮罩基板的短邊中央部的撓曲的大小，在一邊上，相對於防塵薄膜組件的貼附前的撓曲的大小為0.603mm，貼附後的撓曲的大小為0.561mm，再者，在對邊上，相對於貼附前的撓曲的大小為0.595mm，貼附後的撓曲的大小為0.572mm，由此，可以確認到防塵薄膜組件的貼附帶來的變動大。

10‧‧‧防塵薄膜組件框架
11‧‧‧遮罩黏著面
12‧‧‧防塵膜接著面
13‧‧‧通氣孔
14‧‧‧夾具孔
15‧‧‧連接框架的端部和端部假想直線
41‧‧‧光遮罩
42‧‧‧光遮罩支持裝置
43‧‧‧連接光遮罩的端部和端部的假想直線
51‧‧‧支持裝置
52‧‧‧基準面
53‧‧‧框架端部
54‧‧‧框架中點
61‧‧‧翹曲加工模型
62‧‧‧防塵薄膜組件框架
63‧‧‧加壓裝置
71‧‧‧翹曲加工後的板材
72‧‧‧切削刀
73‧‧‧防塵薄膜組件框架
74‧‧‧固定螺栓
75‧‧‧檯子
80‧‧‧防塵薄膜組件
81‧‧‧遮罩黏著層
82‧‧‧分離片
83‧‧‧防塵膜接著層
84‧‧‧防塵膜
85‧‧‧過濾器
91‧‧‧光遮罩基板
92‧‧‧支持台
93‧‧‧平板
94‧‧‧支柱
95‧‧‧刻度盤
L‧‧‧邊長
d‧‧‧翹曲的大小

圖1為本發明的防塵薄膜組件框架的一實施方式的平面圖。 圖2為本發明的防塵薄膜組件框架的一實施方式的正面圖。 圖3為本發明的防塵薄膜組件框架的一實施方式的右側面圖。 圖4為本發明的防塵薄膜組件的使用中的一實施方式的圖。 圖5為本發明的防塵薄膜組件框架的翹曲測定方法的 圖6為本發明的防塵薄膜組件框架的翹曲加工方法的圖。 圖7為本發明的防塵薄膜組件框架的翹曲加工方法的圖。 圖8為本發明的防塵薄膜組件的斜視圖。 圖9為評價方法的概略圖。

15‧‧‧連接框架的端部和端部假想直線

L‧‧‧邊長

d‧‧‧翹曲的大小

Claims (5)

1. 一種防塵薄膜組件框架，其為具有長邊和短邊的矩形，其特徵在於：對至少一對的邊上賦予翹曲，在所述的一對邊的中央部，所述翹曲的大小，在與防塵膜面垂直的方向上，相對於所述邊的邊長為0.01~1%。
2. 如申請專利範圍第1項所述的防塵薄膜組件框架，所述翹曲的大小與防塵薄膜組件框架的邊長的比要處於，防塵薄膜組件貼附領域的最大自重撓曲的大小與適用的光遮罩的邊長的比加或減30%以內的範圍。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的防塵薄膜組件框架，所述翹曲的方向，在貼附於光遮罩時，向著光遮罩自重造成的撓曲方向，為凸狀。
4. 如申請專利範圍第1項至第3項的任一項所述的防塵薄膜組件框架，所述防塵薄膜組件框架的高度，為2mm~10mm的範圍。
5. 一種防塵薄膜組件，其特徵在於：其用如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述防塵薄膜組件框架。