JPH05341502A - ペリクル枠 - Google Patents

ペリクル枠

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JPH05341502A
JPH05341502A JP4173687A JP17368792A JPH05341502A JP H05341502 A JPH05341502 A JP H05341502A JP 4173687 A JP4173687 A JP 4173687A JP 17368792 A JP17368792 A JP 17368792A JP H05341502 A JPH05341502 A JP H05341502A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pellicle
frame
film
corners
mask
Prior art date
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Pending
Application number
JP4173687A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Sekimoto
謙一 関本
Takashi Yamamoto
隆 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Tosoh Corp filed Critical Tosoh Corp
Priority to JP4173687A priority Critical patent/JPH05341502A/ja
Publication of JPH05341502A publication Critical patent/JPH05341502A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ペリクル膜を接着する際に膜の切れが発生せ
ず、ペリクルの張り替え時にマスクを傷付けることがな
く、内側面の粘着剤層が均一に形成可能であるペリクル
枠を提供する。 【構成】 ペリクル膜接着面と外側面および内側面、マ
スク接着面と外側面および内側面によりそれぞれ形成さ
れる4つの角が面取りされており、かつ、外側面、内側
面のそれぞれ4つのコーナー部が曲面であるペリクル
枠。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路における
リソグラフィー工程で用いられるフォトマスクおよびレ
チクル(以下「マスク」と略す)の保護防塵体であるペ
リクルに使用される支持枠に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路の製造において、レジス
ト材を塗布した半導体ウエハーを露光によりパターニン
グする工程は、集積回路の歩留りを左右する重要な工程
である。この際パターン原板であるマスク上にキズや異
物が存在すると、パターンとともにキズや異物がウエハ
ー上に転写され、生産される回路の短絡、断線等の原因
となる。このため、マスクの保護および防塵は生産性向
上の上で極めて重要な課題である。特に、同一のレチク
ルを用いて一枚のウエハー上に繰り返しパターン形成を
行うステッパー方式では、レチクル上にキズや異物が存
在すると発生する欠陥がウエハー上のすべての回路に及
ぶため、レチクル上のキズや異物の付着は極力さけなく
てはならない。
【0003】そこで、マスクの保護、防塵を目的とし
て、マスクの片面または両面をカバーするペリクルが実
用化されている。ペリクルは、一般にアルミ製の支持枠
の一側面に透明な薄膜を張設してなり他側面に設けられ
た両面粘着テープまたは粘着剤によりマスク上に装着さ
れる。ペリクルの装着により異物がマスク表面に直接付
着することが防止でき、また、たとえペリクル膜上に異
物が付着しても露光装置の光学系の焦点からずれている
ため、異物はウエハー上には結像されない。
【0004】一般に、ペリクルはガラス等の平滑な基材
上に製膜した有機薄膜を剥し取り、ペリクル枠に貼り付
けた後、枠周囲の膜を切断することにより作製する。基
材から剥し取った有機薄膜は緊張した状態でペリクル枠
に貼り付けるため多少引っ張った状態で接着剤を塗布し
た枠に押し付けられる。この時、枠のペリクル膜接着面
と内側面により形成される角が直角になっていると接着
剤がはみ出し、膜が枠際で膨らむことがあった。また、
このような枠の場合、ペリクル膜をエアブローにより洗
浄する際、膜が枠の角で切れやすいという問題があっ
た。
【0005】そのため、このような問題を解決する目的
でペリクル膜接着面と内側面および外側面により形成さ
れる角を面取りした枠を使用したペリクルの製造方法が
提案されている(特開昭63−298245号)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ペリク
ル膜接着面の両側のみを面取りした枠ではペリクル膜接
着の際に、枠外側面の4つの直角コーナー部で膜が切れ
て均一に接着できず膜面にたるみが生じることがある。
さらに枠の一側面に設けられた両面粘着テープもしくは
粘着剤によりペリクルをマスクに装着する際、または、
膜の劣化、異物の発生等により貼り替える時、枠の角ま
たはコーナー部でマスクを傷付けることがある。
【0007】また、ペリクル枠内側面には枠内側面およ
び膜内側に付着した異物を捕捉しマスク表面に移動させ
ないようにするため粘着剤層を形成することがあり、枠
内側面の両端の角が直角の場合、枠際の粘着剤が盛上り
粘着剤層を均一に形成することが難しい。特に、ペリク
ル膜接着面と内側面により形成される角は膜と接するた
め面取りされていても面取りが小さいと形成した粘着剤
層端面が均一にならずペリクル膜を接着した際に膜面の
ゆがみを生じることがある。
【0008】本発明は以上のような問題点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的は、ペリクル膜を接着する際
に膜の切れが発生せず、ペリクルの張り替え時にマスク
を傷付けることがなく、内側面の粘着剤層が均一に形成
可能であるペリクル枠を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記した課
題を解決するためペリクル枠の形状について鋭意検討を
行なった。その結果、ペリクル枠における4つの角を面
取りし、コーナー部を曲面とすることによりこれらの問
題が解決し、さらに、ペリクル膜接着面と内側面により
形成される角を他の角より大きく面取りすることにより
これらの問題がより解決することを見出し、本発明を完
成するに至ったものである。すなわち、本発明は、ペリ
クル膜接着面と外側面および内側面、マスク接着面と外
側面および内側面によりそれぞれ形成される4つの角が
面取りされており、かつ、外側面、内側面のそれぞれ4
つのコーナー部が曲面であることを特徴とするペリクル
枠である。
【0010】以下、本発明についてさらに詳細に説明す
る。
【0011】本発明のペリクル枠においては、ペリクル
膜接着面と外側面および内側面、マスク接着面と外側面
および内側面によりそれぞれ形成される4つの角が面取
りされていることを特徴とする。ペリクル膜接着面と外
側面により形成される面を面取りしないと、ペリクル膜
接着の際に膜が切れて膜面にたるみを生じるおそれがあ
る。また、ペリクル膜接着面と内側面により形成される
面を面取りしないと、内側面に粘着剤層を形成した場合
に粘着剤が角の部分で盛上がりペリクル膜を接着した際
に膜面にゆがみを生じるおそれがある。さらに、マスク
接着面と外側面および内側面により形成される2つの角
を面取りしないと、ペリクルをマスクから剥がす際にマ
スクを傷付けるおそれがある。
【0012】ペリクル枠の角の面取りは、角に斜面をつ
けるかまたは曲面にすることにより行なわれる。面取り
を曲面とすると、枠側面と面取り部分の境界が明確でな
いため、内側面に粘着剤層を形成する場合には不利であ
るがペリクル貼り替え時のマスク傷付きに対しての効果
が大きい。このため、枠内側面に粘着剤層を形成する場
合は面取りを斜面とし、粘着剤層を形成しない場合には
曲面とすることが好ましい。
【0013】4つの角それぞれの面取り部分の幅は特に
限定するものではないが、ペリクル膜接着面およびマス
ク接着面の面積が接着強度に影響するため、1つの角の
面取り部分の幅は、枠幅の5〜15%であることが好ま
しい。
【0014】4つの角の面取り部分の幅はそれぞれ同じ
ぐらいでよいが、内側面に粘着剤層を形成する場合に
は、ペリクル膜接着面と内側面により形成される角の面
取りは、他の角の面取りより大きいことが好ましい。こ
の場合、ペリクル膜接着面と内側面から形成される角の
面取りは、他の3つの角の面取り幅の1.5〜4倍であ
ることが好ましい。1.5倍未満では枠内側面に粘着剤
を塗布する際、面取り部分が均一になりにくく十分な効
果が得られないおそれがある。一方、4倍を超える場合
には、ペリクル膜接着面の両端の角の面取り幅の合計が
膜接着面の50%以内であれば特に問題がないが、面取
り幅の合計が50%を超えると膜接着面積が不足し十分
な接着強度が得られないおそれがある。
【0015】本発明のペリクル枠においては、外側面、
内側面のそれぞれ4つのコーナー部が曲面であることを
特徴とする。4つのコーナー部が曲面でなければ、ペリ
クル膜接着の際に、膜が切れて均一に接着できず膜面に
たるみを生じるおそれがある。
【0016】本発明の枠のコーナー部は曲面で構成され
るが曲面は半径2〜5mmの円弧が適当であり、内側面
の曲面は外側面の曲面と同等またはより大きい半径の円
弧であることが必要である。内側面が外側面より小さい
半径の円弧からなる場合、コーナー部の枠幅が辺部分よ
り狭くなり強度不足により枠の変形がおこりやすくな
る。
【0017】本発明に用いられるペリクル枠は、一般に
アルミニウム製のものが使用されているが、これに限定
するものではなく、プラスチック等アルミニウム以外の
ものも使用できる。また、表面が黒色に処理されている
と目視による異物検査の際、異物を発見しやすく好まし
い。
【0018】本発明のペリクル枠において内側面、ペリ
クル膜接着面およびマスク接着面は平面であることが好
ましいが、外側面は必要に応じて溝等の凹みや突起等を
設けてもよい。
【0019】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
【0020】実施例1 ペリクル膜接着面と内側面からなる角を他の角の2倍面
取りし、4つのコーナー部の内側面、外側面が曲面から
なる図1のようなアルミ製ペリクル枠を使用し、内側面
以外の面を粘着テープによりマスキングして内側面に粘
着剤を塗布したところ粘着剤層は面取り部分まで均一に
形成された。この枠の膜接着面に接着剤を塗布し、ガラ
ス基材から剥離したペリクル膜を押し付けて接着した。
この時、ペリクル膜に切れは発生せず、接着後の膜にゆ
がみは見られなかった。
【0021】実施例2 実施例1と同様の枠を使用したペリクルを石英基材に両
面粘着テープにより貼り付けた後、剥離治具により剥離
した。この操作を10回くりかえした後、石英基材を目
視により観察した。基材上に傷は見られなかった。
【0022】比較例1 4つの角およびコーナーが直角からなる図3のようなペ
リクル枠を使用し、実施例1と同様に内側面に粘着剤層
を形成した後、接着剤を塗布しペリクル膜を押し付けて
接着した。接着の際、膜の一部が切れてたるみが発生し
た。また、たるみの発生していない部分の枠と膜の境界
部に粘着剤によるゆがみが見られた。
【0023】比較例2 比較例1と同様の枠を使用したペリクルを実施例2と同
様に石英基材に圧着、剥離を10回繰り返した後、石英
基材の目視観察をおこなった。基材上のペリクル接着部
付近に傷の発生が見られた。
【0024】比較例3 ペリクル膜接着面と外側面および内側面により形成され
る2つの角を同じ幅で面取りしたペリクル枠を使用し、
実施例1と同様に内側面に粘着剤層を形成した後、接着
剤を塗布しペリクル膜を押し付けて接着した。接着の
際、膜がコーナー部で切れてたるみが発生した。また、
たるみの発生していない部分の枠と膜の境界部に粘着剤
によるゆがみが見られた。
【0025】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によるとペリクル枠の4つの角を面取りし、4つのコー
ナーを曲面とすることによりペリクル膜接着時の膜切れ
およびマスク装着時、張替え時のマスクを傷付きが防止
できる効果を有するものである。さらに、ペリクル膜接
着面と内側面により形成される角の面取りを他の角より
大きくとることにより、テーパー部の粘着剤層が均一に
形成できるので粘着剤の膜への付着による膜のゆがみを
解消できる効果を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のペリクル枠の斜視図である。
【図2】本発明のペリクル枠の断面図である。
【図3】従来のペリクル枠の斜視図である。
【図4】従来のペリクル枠の断面図である。
【符号の説明】
1…ペリクル膜接着面 2…外側面 3…マスク接着面 4…内側面

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ペリクル膜接着面と外側面および内側
    面、マスク接着面と外側面および内側面によりそれぞれ
    形成される4つの角が面取りされており、かつ、外側
    面、内側面のそれぞれ4つのコーナー部が曲面であるこ
    とを特徴とするペリクル枠。
  2. 【請求項2】 1つの角の面取り部分の幅が枠幅の5〜
    15%であることを特徴とする請求項1記載のペリクル
    枠。
  3. 【請求項3】 4つの角のうちペリクル膜接着面と内側
    面から形成される角が、他の3つの角の面取り幅の1.
    5〜4倍の幅で面取りされていることを特徴とする請求
    項1記載のペリクル枠。
  4. 【請求項4】 外側面のコーナー部が半径2〜5mmの
    円弧からなり内側面のコーナー部が外側面の曲面と同等
    またはより大きい半径の円弧からなることを特徴とする
    請求項1記載のペリクル枠。
JP4173687A 1992-06-09 1992-06-09 ペリクル枠 Pending JPH05341502A (ja)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009251022A (ja) * 2008-04-01 2009-10-29 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィ用ペリクル
CN102033419A (zh) * 2009-10-02 2011-04-27 信越化学工业株式会社 防尘薄膜组件
JP2011095661A (ja) * 2009-11-02 2011-05-12 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクル
JP2014126569A (ja) * 2012-12-25 2014-07-07 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィ用ペリクル
JP2016177120A (ja) * 2015-03-20 2016-10-06 日本特殊陶業株式会社 ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法
JP2017122830A (ja) * 2016-01-07 2017-07-13 信越化学工業株式会社 ペリクル
WO2019172141A1 (ja) * 2018-03-05 2019-09-12 三井化学株式会社 ペリクル、露光原版、露光装置、及び半導体装置の製造方法

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2107421A3 (en) * 2008-04-01 2010-03-17 Shinetsu Chemical Co., Ltd. Lithographic pellicle
US8026023B2 (en) 2008-04-01 2011-09-27 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Lithographic pellicle
TWI392958B (zh) * 2008-04-01 2013-04-11 Shinetsu Chemical Co 微影用防護薄膜組件
JP2009251022A (ja) * 2008-04-01 2009-10-29 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィ用ペリクル
CN102033419A (zh) * 2009-10-02 2011-04-27 信越化学工业株式会社 防尘薄膜组件
TWI465840B (zh) * 2009-11-02 2014-12-21 Shinetsu Chemical Co 防塵薄膜組件
JP2011095661A (ja) * 2009-11-02 2011-05-12 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ペリクル
JP2014126569A (ja) * 2012-12-25 2014-07-07 Shin Etsu Chem Co Ltd リソグラフィ用ペリクル
JP2016177120A (ja) * 2015-03-20 2016-10-06 日本特殊陶業株式会社 ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法
JP2017122830A (ja) * 2016-01-07 2017-07-13 信越化学工業株式会社 ペリクル
CN111679550A (zh) * 2016-01-07 2020-09-18 信越化学工业株式会社 防尘薄膜组件
WO2019172141A1 (ja) * 2018-03-05 2019-09-12 三井化学株式会社 ペリクル、露光原版、露光装置、及び半導体装置の製造方法
KR20200106966A (ko) * 2018-03-05 2020-09-15 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 펠리클, 노광 원판, 노광 장치, 및 반도체 장치의 제조 방법
JPWO2019172141A1 (ja) * 2018-03-05 2021-02-12 三井化学株式会社 ペリクル、露光原版、露光装置、及び半導体装置の製造方法
US11852968B2 (en) 2018-03-05 2023-12-26 Mitsui Chemicals, Inc. Pellicle, exposure master, exposure device and method for manufacturing semiconductor device

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