JPH1197327A - 露光装置のマスク取付機構 - Google Patents
露光装置のマスク取付機構Info
- Publication number
- JPH1197327A JPH1197327A JP25191797A JP25191797A JPH1197327A JP H1197327 A JPH1197327 A JP H1197327A JP 25191797 A JP25191797 A JP 25191797A JP 25191797 A JP25191797 A JP 25191797A JP H1197327 A JPH1197327 A JP H1197327A
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- JP
- Japan
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- mask
- holder
- positioning
- side face
- positioning pin
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- Pending
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、露光すべきパターンが形成された
マスクを保持するマスクホルダを具備する露光装置にお
いて、マスクサイズの異なるマスクへの変更を、マスク
ホルダをそのままにしてマスクを変更するだけで行い得
るようにすることにより、焦点などの調整作業をできる
だけ削減することを課題とする。 【解決手段】 本発明のマスク取付機構は、マスクホル
ダ１上面に設けられた位置決めピン３にマスク位置合わ
せ用補助部材５を介在させてマスク４を所定の位置に取
り付けるようにする。
マスクを保持するマスクホルダを具備する露光装置にお
いて、マスクサイズの異なるマスクへの変更を、マスク
ホルダをそのままにしてマスクを変更するだけで行い得
るようにすることにより、焦点などの調整作業をできる
だけ削減することを課題とする。 【解決手段】 本発明のマスク取付機構は、マスクホル
ダ１上面に設けられた位置決めピン３にマスク位置合わ
せ用補助部材５を介在させてマスク４を所定の位置に取
り付けるようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置のマスク
取付機構に関し、特に半導体装置等の製造プロセスに用
いられる露光装置におけるマスクの取付機構に関する。
取付機構に関し、特に半導体装置等の製造プロセスに用
いられる露光装置におけるマスクの取付機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、半導体装置の製造プロセスで用
いられる露光装置は、一般に図２に示すように、照明光
学系（図示せず）、マスク１１を保持するマスクホルダ
１２、ステージ１３の上面に設置され、半導体ウエハ１
４を保持するウエハホルダ１５、及び前記マスクホルダ
１２と前記ウエハホルダ１５との間に配置される投影光
学系１６を具備する。即ち、露光は、露光すべきパター
ンが描かれたマスク１１をマスクホルダ１２上に設置
し、該マスク１１に前記照明光学系からの光束を照射
し、マスク１１を透過した光束を投影光学系１６を介し
てウエハホルダ１５上に設置され表面にレジスト等の感
光層が設けられた半導体ウエハ１４上に露光して行われ
る。
いられる露光装置は、一般に図２に示すように、照明光
学系（図示せず）、マスク１１を保持するマスクホルダ
１２、ステージ１３の上面に設置され、半導体ウエハ１
４を保持するウエハホルダ１５、及び前記マスクホルダ
１２と前記ウエハホルダ１５との間に配置される投影光
学系１６を具備する。即ち、露光は、露光すべきパター
ンが描かれたマスク１１をマスクホルダ１２上に設置
し、該マスク１１に前記照明光学系からの光束を照射
し、マスク１１を透過した光束を投影光学系１６を介し
てウエハホルダ１５上に設置され表面にレジスト等の感
光層が設けられた半導体ウエハ１４上に露光して行われ
る。
【０００３】前記マスク１１は、ガラス板等からなり、
半導体ウエハ１４のサイズに対応したサイズのものが使
用され、更にこのマスク１１のサイズに対応したマスク
ホルダ１２が使用される。そして、図３に示すように、
マスク１１は、マスクホルダ１２上に設けられた３本の
マスク位置決めピン１７に水平方向に押し当てられて装
着される。前記３本のマスク位置決めピン１７は、矩形
状のマスク１１の一辺に２ヶ所と該一辺と隣接する他の
一辺の１ヶ所との計３ヶ所にそれぞれ当接してマスク１
１の位置決めを行う。
半導体ウエハ１４のサイズに対応したサイズのものが使
用され、更にこのマスク１１のサイズに対応したマスク
ホルダ１２が使用される。そして、図３に示すように、
マスク１１は、マスクホルダ１２上に設けられた３本の
マスク位置決めピン１７に水平方向に押し当てられて装
着される。前記３本のマスク位置決めピン１７は、矩形
状のマスク１１の一辺に２ヶ所と該一辺と隣接する他の
一辺の１ヶ所との計３ヶ所にそれぞれ当接してマスク１
１の位置決めを行う。
【０００４】また、露光に際しては、マスク１１と半導
体ウエハ１４とは相対的に精密に位置合わせされ、精度
高く焦点等の調整作業が行われる。特に、最近の微細化
の進んだ半導体装置の製造プロセスにおいては、極めて
高精度の調整作業が必要となり、なかでも半導体ウエハ
１４及び投影光学系１６に対するマスクホルダ１２の平
坦度等の垂直方向は数マイクロメーターレベルの精度で
焦点合わせが要求されている。
体ウエハ１４とは相対的に精密に位置合わせされ、精度
高く焦点等の調整作業が行われる。特に、最近の微細化
の進んだ半導体装置の製造プロセスにおいては、極めて
高精度の調整作業が必要となり、なかでも半導体ウエハ
１４及び投影光学系１６に対するマスクホルダ１２の平
坦度等の垂直方向は数マイクロメーターレベルの精度で
焦点合わせが要求されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の露光装置においては、サイズの異なるマスク
に変更して露光を行う場合、マスクホルダをそのままに
して、マスクをこれとは異なるサイズのマスクに変更し
たとすると、マスク位置決めピンが固定であるためにマ
スクの設置位置がマスクホルダの所定位置（中央）から
偏心してしまうために、必然的にマスクホルダーをも変
更するマスクサイズに応じて変更しなければならないの
が現状である。即ち、マスクサイズに応じた専用のマス
クホルダが必要となる訳で、マスクホルダを変更すると
なると、焦点合わせ等の調整作業が必要となってくるの
である。特に、前述したようにマスクホルダの平坦度は
数マイクロメーターレベルでの調整を必要とし、従っ
て、マスクサイズの変更は、製造工程を長時間にし、生
産効率を低下させる要因となっているのである。
うな従来の露光装置においては、サイズの異なるマスク
に変更して露光を行う場合、マスクホルダをそのままに
して、マスクをこれとは異なるサイズのマスクに変更し
たとすると、マスク位置決めピンが固定であるためにマ
スクの設置位置がマスクホルダの所定位置（中央）から
偏心してしまうために、必然的にマスクホルダーをも変
更するマスクサイズに応じて変更しなければならないの
が現状である。即ち、マスクサイズに応じた専用のマス
クホルダが必要となる訳で、マスクホルダを変更すると
なると、焦点合わせ等の調整作業が必要となってくるの
である。特に、前述したようにマスクホルダの平坦度は
数マイクロメーターレベルでの調整を必要とし、従っ
て、マスクサイズの変更は、製造工程を長時間にし、生
産効率を低下させる要因となっているのである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような現
状に鑑み、マスクサイズの異なるマスクへの変更を、マ
スクホルダをそのままにしてマスクを変更するだけで行
い得るようにすることにより、焦点などの調整作業をで
きるだけ削減することを目的とするものである。即ち、
本発明は、露光すべきパターンが形成されたマスクを保
持するマスクホルダを具備する露光装置における前記マ
スクホルダに矩形状のマスクを取り付けるマスク取付機
構であって、前記マスクホルダ上面に設けられた位置決
め突起部と、該位置決め突起部に取り外し自在に当接さ
れるマスク位置合わせ用補助部材とを有し、該マスク位
置合わせ用補助部材を取り付けることにより異なる規格
のマスクを位置決め可能であることを特徴とする露光装
置のマスク取付機構を提供するものである。
状に鑑み、マスクサイズの異なるマスクへの変更を、マ
スクホルダをそのままにしてマスクを変更するだけで行
い得るようにすることにより、焦点などの調整作業をで
きるだけ削減することを目的とするものである。即ち、
本発明は、露光すべきパターンが形成されたマスクを保
持するマスクホルダを具備する露光装置における前記マ
スクホルダに矩形状のマスクを取り付けるマスク取付機
構であって、前記マスクホルダ上面に設けられた位置決
め突起部と、該位置決め突起部に取り外し自在に当接さ
れるマスク位置合わせ用補助部材とを有し、該マスク位
置合わせ用補助部材を取り付けることにより異なる規格
のマスクを位置決め可能であることを特徴とする露光装
置のマスク取付機構を提供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ、本発明
の特徴とするところをより詳細に説明する。図１は、本
発明の一実施形態の概略であるマスクホルダへのマスク
取付機構を示す平面図である。このマスク取付機構が適
用され得る露光装置の基本的な構成としては、例えば図
２に示したような、従来の露光装置と同様であり、マス
クホルダ上にマスクを取り付けて使用する機構を有する
露光装置に広く用いることができる。
の特徴とするところをより詳細に説明する。図１は、本
発明の一実施形態の概略であるマスクホルダへのマスク
取付機構を示す平面図である。このマスク取付機構が適
用され得る露光装置の基本的な構成としては、例えば図
２に示したような、従来の露光装置と同様であり、マス
クホルダ上にマスクを取り付けて使用する機構を有する
露光装置に広く用いることができる。
【０００８】マスクホルダ１上面には、例えば、８イン
チ半導体ウエハに用いる比較的サイズの大きいガラス製
のほぼ正方形状の第１のマスク２（破線で示す）に対応
する位置決めピン３が３ヶ所に突出するように設けられ
ている。前記位置決めピン３は、マスクホルダ１の上面
端部寄りの２ヶ所（位置決めピン３ａ，３ｂ）、及びこ
れら２ヶ所（位置決めピン３ａ，３ｂ）を結ぶ直線の延
長線に対し直角に交わる直線上の１ヶ所（位置決めピン
３ｃ）の３ヶ所に配置されている。そして、このマスク
ホルダ１上に前記第１のマスク２を取り付ける場合は、
該マスク２を水平方向に移動させて、その一辺の側面の
両端側に前記位置決めピン３ａ，３ｂが当接し、前記一
辺と連続する他の一辺の前記位置決めピン３ｂ側寄り側
面にもう一つの位置決めピン３ｃが当接するように押し
付けられて、第１のマスク２がマスクホルダ１上の所定
の取付位置（ほぼ中央）に装着される。
チ半導体ウエハに用いる比較的サイズの大きいガラス製
のほぼ正方形状の第１のマスク２（破線で示す）に対応
する位置決めピン３が３ヶ所に突出するように設けられ
ている。前記位置決めピン３は、マスクホルダ１の上面
端部寄りの２ヶ所（位置決めピン３ａ，３ｂ）、及びこ
れら２ヶ所（位置決めピン３ａ，３ｂ）を結ぶ直線の延
長線に対し直角に交わる直線上の１ヶ所（位置決めピン
３ｃ）の３ヶ所に配置されている。そして、このマスク
ホルダ１上に前記第１のマスク２を取り付ける場合は、
該マスク２を水平方向に移動させて、その一辺の側面の
両端側に前記位置決めピン３ａ，３ｂが当接し、前記一
辺と連続する他の一辺の前記位置決めピン３ｂ側寄り側
面にもう一つの位置決めピン３ｃが当接するように押し
付けられて、第１のマスク２がマスクホルダ１上の所定
の取付位置（ほぼ中央）に装着される。
【０００９】前記マスクホルダ１上面に設けられる位置
決めピン３は、矩形状のマスクの２次元方向の位置決め
を行い得るように配置されていればよく、よって、少な
くとも、所定の取付位置におけるマスクの一辺と平行と
なる線上の２ヶ所（３ａ，３ｂ）と、該２ヶ所を結ぶ直
線の延長線と直交する線上の１ヶ所（３ｃ）との３ヶ所
において３点でマスクと当接すればよい。従って、前記
マスクの一辺と平行となる線上の２ヶ所の位置決めピン
３ａ，３ｂを、線又は面接触によりマスク側面と当接で
きるような形状としても構わないし、もう１ヶ所の位置
決めピン３ｃを上記同様にマスクの側面に対して線又は
面接触できるような形状としても良い。
決めピン３は、矩形状のマスクの２次元方向の位置決め
を行い得るように配置されていればよく、よって、少な
くとも、所定の取付位置におけるマスクの一辺と平行と
なる線上の２ヶ所（３ａ，３ｂ）と、該２ヶ所を結ぶ直
線の延長線と直交する線上の１ヶ所（３ｃ）との３ヶ所
において３点でマスクと当接すればよい。従って、前記
マスクの一辺と平行となる線上の２ヶ所の位置決めピン
３ａ，３ｂを、線又は面接触によりマスク側面と当接で
きるような形状としても構わないし、もう１ヶ所の位置
決めピン３ｃを上記同様にマスクの側面に対して線又は
面接触できるような形状としても良い。
【００１０】次に、前記マスクホルダ１をそのままにし
てマスクを第１のマスク２より小さいサイズ、例えば６
インチ半導体ウエハに用いる比較的小さいサイズの正方
形状の第２のマスク４に変更する場合、ここでは前記位
置決めピン３と第２のマスク４との間に板状のマスク位
置合わせ用補助部材５を介在させて第２のマスク４をウ
エハホルダ１上に装着する。このマスク位置合わせ用補
助部材５は、前記位置決めピン３ａ，３ｂを結ぶ直線と
平行な側面５ａ、該側面５ａと平行して対向する側面５
ｂ、前記位置決めピン３ｃが配置される前記位置決めピ
ン３ａ，３ｂを結ぶ直線の延長線に対し直角に交わる直
線と平行な側面５ｃ及び該側面５ｃと平行して対向する
側面５ｄを有する略Ｌ字状をなしている。そして、マス
ク位置合わせ用補助部材５及び第２のマスク４を水平方
向に移動させて、マスク位置合わせ用補助部材５はその
側面５ａをマスクホルダ１の位置決めピン３ａ，３ｂ
に、また前記側面５ｃを位置決めピン３ｃにそれぞれ当
接して装着され、一方第２のマスク４はその一辺の側面
をマスク位置合わせ用補助部材５の側面５ｂに、前記一
辺と連続する他の一辺の側面をマスク位置合わせ用補助
部材５の側面５ｄにそれぞれ当接して装着され、結果第
２のマスク４は、ウエハホルダ１の所定の位置（ほぼ中
央）に取り付けられる。
てマスクを第１のマスク２より小さいサイズ、例えば６
インチ半導体ウエハに用いる比較的小さいサイズの正方
形状の第２のマスク４に変更する場合、ここでは前記位
置決めピン３と第２のマスク４との間に板状のマスク位
置合わせ用補助部材５を介在させて第２のマスク４をウ
エハホルダ１上に装着する。このマスク位置合わせ用補
助部材５は、前記位置決めピン３ａ，３ｂを結ぶ直線と
平行な側面５ａ、該側面５ａと平行して対向する側面５
ｂ、前記位置決めピン３ｃが配置される前記位置決めピ
ン３ａ，３ｂを結ぶ直線の延長線に対し直角に交わる直
線と平行な側面５ｃ及び該側面５ｃと平行して対向する
側面５ｄを有する略Ｌ字状をなしている。そして、マス
ク位置合わせ用補助部材５及び第２のマスク４を水平方
向に移動させて、マスク位置合わせ用補助部材５はその
側面５ａをマスクホルダ１の位置決めピン３ａ，３ｂ
に、また前記側面５ｃを位置決めピン３ｃにそれぞれ当
接して装着され、一方第２のマスク４はその一辺の側面
をマスク位置合わせ用補助部材５の側面５ｂに、前記一
辺と連続する他の一辺の側面をマスク位置合わせ用補助
部材５の側面５ｄにそれぞれ当接して装着され、結果第
２のマスク４は、ウエハホルダ１の所定の位置（ほぼ中
央）に取り付けられる。
【００１１】前記マスク位置合わせ用補助部材５は、第
２のマスク４の一辺の側面の大部分と面接触し、この一
辺と連続する他の一辺の側面の一部分と面接触する側面
を有する形状となっているが、これに限らず、矩形状の
マスクの一辺に少なくとも２点以上で、この一辺と連続
する他の一辺に少なくとも１点以上で当接する側面があ
ればよい。
２のマスク４の一辺の側面の大部分と面接触し、この一
辺と連続する他の一辺の側面の一部分と面接触する側面
を有する形状となっているが、これに限らず、矩形状の
マスクの一辺に少なくとも２点以上で、この一辺と連続
する他の一辺に少なくとも１点以上で当接する側面があ
ればよい。
【００１２】また、本発明においてマスクホルダに設け
られる位置決めピンの配置は、使用する最も大きいサイ
ズのマスクの位置決めを行えるようにしておくことが好
ましく、このようにすることにより、より多くのサイズ
の異なるマスクに対応することができる。
られる位置決めピンの配置は、使用する最も大きいサイ
ズのマスクの位置決めを行えるようにしておくことが好
ましく、このようにすることにより、より多くのサイズ
の異なるマスクに対応することができる。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
サイズの異なる複数のマスクを共通のマスクホルダで装
着できるので、マスクをサイズの異なるものに変更する
場合であっても、マスクサイズに応じたマスクホルダを
使用する必要がなく、マスクホルダを変更するときの例
えば平坦度の調整等の調整作業を簡略化でき、作業効率
を向上することができる。
サイズの異なる複数のマスクを共通のマスクホルダで装
着できるので、マスクをサイズの異なるものに変更する
場合であっても、マスクサイズに応じたマスクホルダを
使用する必要がなく、マスクホルダを変更するときの例
えば平坦度の調整等の調整作業を簡略化でき、作業効率
を向上することができる。
【図１】本発明の一実施形態におけるマスクがマスクホ
ルダに装着された状態を説明する平面図である。
ルダに装着された状態を説明する平面図である。
【図２】従来の露光装置の概略を説明する斜視図であ
る。
る。
【図３】従来のマスクをマスクホルダに装着した状態を
説明する平面図である。
説明する平面図である。
１ マスクホルダ ２ 第１のマスク ３ 位置決めピン ４ 第２のマスク ５ マスク位置合わせ用補助部材
Claims (1)
- 【請求項１】露光すべきパターンが形成されたマスクを
保持するマスクホルダを具備する露光装置における前記
マスクホルダに矩形状のマスクを取り付けるマスク取付
機構であって、 前記マスクホルダ上面に設けられた位置決め突起部と、
該位置決め突起部に取り外し自在に当接されるマスク位
置合わせ用補助部材とを有し、該マスク位置合わせ用補
助部材を取り付けることにより異なる規格のマスクを位
置決め可能であることを特徴とする露光装置のマスク取
付機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25191797A JPH1197327A (ja) | 1997-09-17 | 1997-09-17 | 露光装置のマスク取付機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25191797A JPH1197327A (ja) | 1997-09-17 | 1997-09-17 | 露光装置のマスク取付機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1197327A true JPH1197327A (ja) | 1999-04-09 |
Family
ID=17229895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25191797A Pending JPH1197327A (ja) | 1997-09-17 | 1997-09-17 | 露光装置のマスク取付機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1197327A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1308788A2 (de) * | 2001-11-02 | 2003-05-07 | SUSS MicroTec Lithography GmbH | Vorrichtung zum Ausrichten von Masken in der Fotolithographie |
| AT413305B (de) * | 2003-01-31 | 2006-01-15 | Suess Microtec Lithography | Verfahren und vorrichtung zum ausrichten eines justier-mikroskops mittels verspiegelter justiermaske |
| US7050229B2 (en) | 2000-05-10 | 2006-05-23 | Kuraray Co., Ltd. | Method for manufacturing rear-projection type screen having sheets with protrusions integrally formed thereon |
| JP2019135791A (ja) * | 2010-08-05 | 2019-08-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | インプリントリソグラフィ |
-
1997
- 1997-09-17 JP JP25191797A patent/JPH1197327A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7050229B2 (en) | 2000-05-10 | 2006-05-23 | Kuraray Co., Ltd. | Method for manufacturing rear-projection type screen having sheets with protrusions integrally formed thereon |
| EP1308788A2 (de) * | 2001-11-02 | 2003-05-07 | SUSS MicroTec Lithography GmbH | Vorrichtung zum Ausrichten von Masken in der Fotolithographie |
| DE10153851A1 (de) * | 2001-11-02 | 2003-05-22 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Vorrichtung zum Ausrichten von Masken in der Fotolithographie |
| EP1308788A3 (de) * | 2001-11-02 | 2004-04-28 | SUSS MicroTec Lithography GmbH | Vorrichtung zum Ausrichten von Masken in der Fotolithographie |
| US6891602B2 (en) | 2001-11-02 | 2005-05-10 | Süss Micro Tec Lithography GmbH | Device for aligning masks in photolithography |
| DE10153851B4 (de) * | 2001-11-02 | 2006-11-16 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Vorrichtung zum Ausrichten von Masken in der Fotolithographie |
| AT413305B (de) * | 2003-01-31 | 2006-01-15 | Suess Microtec Lithography | Verfahren und vorrichtung zum ausrichten eines justier-mikroskops mittels verspiegelter justiermaske |
| JP2019135791A (ja) * | 2010-08-05 | 2019-08-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | インプリントリソグラフィ |
| US10890851B2 (en) | 2010-08-05 | 2021-01-12 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
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