CN109487228B - 一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架 - Google Patents

Abstract

本发明的一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架，涉及化学气相沉积领域，包括横掩膜架和竖掩膜架，所述横掩膜架的左右两端与连接块固定连接，所述竖掩膜架的左右两端与连接端头固定连接，所述连接块的上下两侧面设有锁紧槽，所述连接端头的左侧设有连接槽，所述连接槽的右侧壁内部设有驱动机构，连接槽的上下两侧壁内部设有联动机构，所述驱动机构与联动机构的一端接触连接，所述联动机构的另一端与锁紧槽活动连接，由于横掩膜架和竖掩膜架均采用陶瓷材质，避免了掩膜架与顶针摩擦时产生尘埃，使掩膜架的更换频率大大降低，提高了设备使用效率，在掩膜架更换或清洗时，可通过驱动机构和联动机构方便的实现拆卸和安装，降低了人力物力成本。

Description

一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架

技术领域

本发明属于化学气相沉积领域，具体涉及一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架。

背景技术

液晶显示产品的制造过程中，通常需要对玻璃基板进行等离子体化学气相沉积处理工艺。在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，用以制备非晶硅和微晶硅薄膜等器件。

现有技术中等离子体化学气相沉积设备中的掩膜架为铝材，在玻璃基板进行真空溅射中，铝材与顶针摩擦，容易产生尘埃，从而造成设备使用寿命缩减，为延长掩膜架的使用寿命，需要对掩膜架进行维护保养，更换清洗部件，而且每月至少一次，另外，在保养过程中，掩膜架拆卸即为不便，花费了大量的工作时间。

发明内容

本发明的目的在于提供一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架，致力于解决背景技术中的全部问题或之一。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架，包括横掩膜架和竖掩膜架，所述横掩膜架的左右两端与连接块固定连接，所述竖掩膜架的左右两端与连接端头固定连接，所述横掩膜架和竖掩膜架的下表面设有顶针孔，所述连接块的上下两侧面设有锁紧槽，所述连接端头的左侧设有连接槽，所述连接槽的右侧壁内部设有驱动机构，连接槽的上下两侧壁内部设有联动机构，所述驱动机构与联动机构的一端接触连接，所述联动机构的另一端与锁紧槽活动连接。

优选的，所述驱动机构包括驱动杆、转动杆和螺纹杆，所述连接槽右侧壁的内部中间位置设有驱动槽，所述驱动槽的右侧壁中间位置设有螺纹孔，驱动槽的上下两侧对称设有支撑板，所述连接端头的右侧面设有放置槽，所述螺纹孔与放置槽的左侧壁中间位置相连通，所述支撑板与驱动槽滑动连接，支撑板朝向驱动槽中心位置的侧面设有凸台，支撑板朝向驱动槽侧壁的侧面设有推动杆，所述推动杆的顶端与联动机构的右端接触连接，推动杆的左右两侧对称设有第二弹簧，所述第二弹簧的一端与驱动槽的侧壁固定连接，第二弹簧的另一端与支撑板的侧面固定连接，所述驱动杆的左端与贯穿驱动槽左侧壁的通孔滑动连接，驱动杆的右端与驱动槽的前后侧壁滑动连接，驱动杆右端的上下两端头与凸台的表面接触连接，驱动杆的内部中间位置设有空腔，所述转动杆与放置槽活动连接，转动杆的中间位置设有滑动孔，转动杆的上下两侧对称设有圆形孔，所述转动孔的内侧壁对称设有翼板槽，所述螺纹杆的左端与螺纹孔螺纹连接，螺纹杆右端的侧面设有与翼板槽滑动连接的翼板，螺纹杆的右端面与限位块的左侧面中间位置固定连接，螺纹杆的左端面与限位杆的右端固定连接，所述限位块左侧面的上下两侧对称设有第三弹簧，所述第三弹簧的左端与转动杆的右侧面固定连接，第三弹簧的右端与限位块的左侧面固定连接，所述限位杆的左端与空腔滑动连接，限位杆位于驱动槽的部分套有第一弹簧，所述第一弹簧的左端与驱动杆的右端面固定连接，第一弹簧的右端与驱动槽的右侧壁固定连接。

优选的，所述联动机构包括矩形杆、转轴和滑动板，所述驱动槽上下两侧壁的内部对称设有联动槽，所述联动槽的左侧设有内腔，联动槽靠近右侧的下侧壁通过圆孔与驱动槽相连通，所述内腔的左侧壁与联动槽相连通，所述推动杆与圆孔滑动连接，所述转轴的两端面与联动槽的前后侧壁固定连接，所述滑动板与内腔滑动连接，滑动板顶端面的中间位置与顶部端头的一端固定连接，滑动板底端面的中间位置与第四弹簧的一端固定连接，所述第四弹簧的另一端与缓冲板的上端面固定连接，所述缓冲杆的下端面与锁紧杆的一端固定连接，所述锁紧杆的另一端与内腔底部的连通孔滑动连接，所述锁紧杆与锁紧槽活动连接，所述矩形杆的中间位置与转轴转动连接，矩形杆的右端与推动杆接触连接，矩形杆的左端与顶部端头接触连接，矩形杆的左右两端对称设有第五弹簧，所述第五弹簧的一端与缓冲板的下端面固定连接，第五弹簧的另一端与内腔的下侧壁固定连接。

优选的，所述凸台为圆弧形台面，凸台与支撑板的连接处采用圆弧过渡，所述凸台位于支撑板朝向驱动槽中心位置的侧面中间部位，所述推动杆位于支撑板朝向驱动槽侧壁的侧面中间部位，所述驱动杆右端的上下两端头为半圆形端头。

优选的，所述顶部端头的顶部为半圆形。

优选的，所述横掩膜架和竖掩膜架的材质均为陶瓷材质，所述连接块的表面设有橡胶层。

本发明有益效果是：采用本发明的一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架，由于横掩膜架和竖掩膜架均采用陶瓷材质，避免了掩膜架与顶针摩擦时产生尘埃，使掩膜架的更换频率大大降低，提高了设备使用效率，在掩膜架更换或清洗时，可通过驱动机构和联动机构方便的实现拆卸和安装，降低了人力物力成本。

附图说明

下面对本说明书附图所表达的内容及图中的标记作简要说明：

图1是本发明的具体实施方式的上视图；

图2是本发明的具体实施方式的下视图；

图3是本发明的具体实施方式的连接块剖视图；

图4是本发明的具体实施方式的连接端头剖视图；

图5是图4中A处的放大图；

图6是图4中B处的放大图；

图7是图4中放置槽的侧视图；

图8是图4中转动杆的侧视图；

图9是图4中矩形杆的局部放大图。

其中，1-横掩膜架、2-竖掩膜架、3-顶针孔、4-连接块、5-连接端头、6-连接槽、7-锁紧槽、8-驱动机构、9-联动机构、81-驱动槽、82-放置槽、83-驱动杆、84-空腔、85-限位杆、86-第一弹簧、87-凸台、88-支撑板、89-第二弹簧、810-推动杆、811-转动杆、812-圆形孔、813-螺纹杆、814-螺纹孔、815-翼板、816-第三弹簧、817-限位块、818-翼板槽、819-滑动孔、91-联动槽、92-矩形杆、93-内腔、94-转轴、95-锁紧杆、96-第四弹簧、97-滑动板、98-顶部端头、99-缓冲板、910-第五弹簧。

具体实施方式

下面通过对实施例的描述，本发明的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理、制造工艺及操作使用方法等，作进一步详细的说明，以帮助本领域技术人员对本发明的发明构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。

如图1至图9所示，一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架，包括横掩膜架1和竖掩膜架2，所述横掩膜架1的左右两端与连接块4固定连接，所述竖掩膜架2的左右两端与连接端头5固定连接，所述横掩膜架1和竖掩膜架2的下表面设有顶针孔3，所述连接块4的上下两侧面设有锁紧槽7，所述连接端头5的左侧设有连接槽6，所述连接槽6的右侧壁内部设有驱动机构8，连接槽6的上下两侧壁内部设有联动机构9，所述驱动机构8与联动机构9的一端接触连接，所述联动机构9的另一端与锁紧槽7活动连接。

在本实施例中，所述驱动机构8包括驱动杆83、转动杆811和螺纹杆813，所述连接槽6右侧壁的内部中间位置设有驱动槽81，所述驱动槽81的右侧壁中间位置设有螺纹孔

814，驱动槽81的上下两侧对称设有支撑板88，所述连接端头5的右侧面设有放置槽82，所述螺纹孔814与放置槽82的左侧壁中间位置相连通，所述支撑板88与驱动槽81滑动连接，支撑板88朝向驱动槽81中心位置的侧面设有凸台87，支撑板88朝向驱动槽81侧壁的侧面设有推动杆810，所述推动杆810的顶端与联动机构9的右端接触连接，推动杆810的左右两侧对称设有第二弹簧89，所述第二弹簧89的一端与驱动槽81的侧壁固定连接，第二弹簧89的另一端与支撑板88的侧面固定连接，所述驱动杆83的左端与贯穿驱动槽81左侧壁的通孔滑动连接，驱动杆83的右端与驱动槽81的前后侧壁滑动连接，驱动杆83右端的上下两端头与凸台87的表面接触连接，驱动杆83的内部中间位置设有空腔84，所述转动杆811与放置槽82活动连接，转动杆811的中间位置设有滑动孔819，转动杆811的上下两侧对称设有圆形孔812，所述转动孔812的内侧壁对称设有翼板槽818，所述螺纹杆813的左端与螺纹孔814螺纹连接，螺纹杆813右端的侧面设有与翼板槽818滑动连接的翼板815，螺纹杆813的右端面与限位块817的左侧面中间位置固定连接，螺纹杆813的左端面与限位杆85的右端固定连接，所述限位块817左侧面的上下两侧对称设有第三弹簧816，所述第三弹簧816的左端与转动杆811的右侧面固定连接，第三弹簧816的右端与限位块817的左侧面固定连接，所述限位杆85的左端与空腔84滑动连接，限位杆85位于驱动槽81的部分套有第一弹簧86，所述第一弹簧86的左端与驱动杆83的右端面固定连接，第一弹簧86的右端与驱动槽81的右侧壁固定连接，通过驱动机构8为联动机构9提供解锁和锁紧的动力，方便横掩膜架1和竖掩膜架2拆卸和安装，降低了人力物力成本。

在本实施例中，所述联动机构9包括矩形杆92、转轴94和滑动板97，所述驱动槽81上下两侧壁的内部对称设有联动槽91，所述联动槽91的左侧设有内腔93，联动槽91靠近右侧的下侧壁通过圆孔与驱动槽81相连通，所述内腔93的左侧壁与联动槽91相连通，所述推动杆810与圆孔滑动连接，所述转轴94的两端面与联动槽91的前后侧壁固定连接，所述滑动板97与内腔93滑动连接，滑动板97顶端面的中间位置与顶部端头98的一端固定连接，滑动板97底端面的中间位置与第四弹簧96的一端固定连接，所述第四弹簧96的另一端与缓冲板99的上端面固定连接，所述缓冲杆99的下端面与锁紧杆95的一端固定连接，所述锁紧杆95的另一端与内腔93底部的连通孔滑动连接，所述锁紧杆95与锁紧槽7活动连接，所述矩形杆92的中间位置与转轴94转动连接，矩形杆92的右端与推动杆810接触连接，矩形杆92的左端与顶部端头98接触连接，矩形杆92的左右两端对称设有第五弹簧910，所述第五弹簧910的一端与缓冲板99的下端面固定连接，第五弹簧910的另一端与内腔93的下侧壁固定连接，在联动机构9获得驱动机构8的动力时，通过联动机构9的机械机构可自动实现解锁和锁紧功能，提高了掩膜架更换或清洗的效率。

在本实施例中，为方便驱动杆83右端的上下两侧端头运动时与凸台87接触更加容易和平缓，所述凸台87为圆弧形台面，凸台87与支撑板88的连接处采用圆弧过渡，所述驱动杆83右端的上下两端头为半圆形端头，为保证支撑板88在上下滑动时受力更加平稳，所述凸台87位于支撑板88朝向驱动槽81中心位置的侧面中间部位，所述推动杆810位于支撑板88朝向驱动槽81侧壁的侧面中间部位。

在本实施例中，矩形杆92与顶部端头98的顶部接触时，矩形杆92可能处于倾斜放置，这是为保证矩形杆92与顶部端头98在运动时的稳定性。

在本实施例中，由于等离子体化学气相成沉积设备在运行时，顶针与掩膜框架产生摩擦，容易产生尘埃，从而造成设备使用寿命缩减，使保养频率增加，为提高了设备使用效率，降低了人力物力成本，所述横掩膜架1和竖掩膜架2的材质均采用陶瓷材质，另外，连接块4在插入到连接槽6中后，由于连接块4和连接槽6之间会产生间隙，容易在设备运行时产生抖动，为避免抖动造成横掩膜架1和竖掩膜架2产生相对位移，所述连接块4的表面设有橡胶层。

工作过程及原理：横掩膜架1和竖掩膜架2在分开时，螺纹杆813位于螺纹孔814中，转动杆811位于放置槽82中，在横掩膜架1和竖掩膜架2在需要安装时，将横掩膜架1上的连接块4插入到竖掩膜架2上的连接端头5中的连接槽6中，在插入过程中，连接块4首先接触到驱动杆83，然后推动驱动杆83克服第一弹簧86的推力在空腔84内向右移动，在驱动杆83向右移动过程中，驱动杆83右端的上下两侧沿着凸台87的圆弧形路线带动支撑板88克服第二弹簧89的推力向靠近联动机构9的方向移动，这时推动杆810的顶部推动矩形杆92的右端向远离驱动槽81的方向转动，同时由于转轴94的转向作用，转动杆92的左端向靠近连接槽6的方向转动，由于连接块4此时正在移动过程中，锁紧杆95没有与锁紧槽7重合，这时转动杆92的左端推动顶部端头98带动滑动板97压缩第四弹簧96，当锁紧杆95与锁紧槽7重合时，在第四弹簧96的推力作用下，使锁紧杆95克服第五弹簧910的弹力并将其推到锁紧槽7中，从而将横掩膜架1和竖掩膜架2固定住，当横掩膜架1和竖掩膜架2更换或清洗时，需要将两者分开，这时候，工作人员首先将长形夹子的两端插入到圆形孔812中，然后使转动杆811向右克服第三弹簧816的推力在翼板815上移动，当转动杆811移动到放置槽82的外部时，用手拿住转动杆811，然后使转动杆811转动，使螺纹杆813最后脱离螺纹孔814，脱离后，往右拉动转动杆811，使限位杆85拉动驱动杆83再次向右克服移动，这时驱动杆83右端的上下两侧离开凸台87的最高端并逐渐向右向凸台97的最低端移动，支撑板88在第二弹簧89的推力作用下向靠近驱动槽81的中心位置移动，这时矩形杆92的左端将没有向上的推力，因此在第五弹簧91的作用下，将推动锁紧杆95向上移动并脱离锁紧槽7，这时就可以方便的将连接块4与连接槽6分离。

基于上述，采用本发明的一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架，由于横掩膜架和竖掩膜架均采用陶瓷材质，避免了掩膜架与顶针摩擦时产生尘埃，使掩膜架的更换频率大大降低，提高了设备使用效率，在掩膜架更换或清洗时，可通过驱动机构和联动机构方便的实现拆卸和安装，降低了人力物力成本。

上面对本发明进行了示例性描述，显然本发明具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进，或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本发明的保护范围之内。本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

Claims (4)

1.一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架，其特征在于：包括横掩膜架(1)和竖掩膜架(2)，所述横掩膜架(1)的左右两端与连接块(4)固定连接，所述竖掩膜架(2)的左右两端与连接端头(5)固定连接，所述横掩膜架(1)和竖掩膜架(2)的下表面设有顶针孔(3)，所述连接块(4)的上下两侧面设有锁紧槽(7)，所述连接端头(5)的左侧设有连接槽(6)，所述连接槽(6)的右侧壁内部设有驱动机构(8)，连接槽(6)的上下两侧壁内部设有联动机构(9)，所述驱动机构(8)与联动机构(9)的一端接触连接，所述联动机构(9)的另一端与锁紧槽(7)活动连接；所述驱动机构(8)包括驱动杆(83)、转动杆(811)和螺纹杆(813)，所述连接槽(6)右侧壁的内部中间位置设有驱动槽(81)，所述驱动槽(81)的右侧壁中间位置设有螺纹孔(814)，驱动槽(81)的上下两侧对称设有支撑板(88)，所述连接端头(5)的右侧面设有放置槽(82)，所述螺纹孔(814)与放置槽(82)的左侧壁中间位置相连通，所述支撑板(88)与驱动槽(81)滑动连接，支撑板(88)朝向驱动槽(81)中心位置的侧面设有凸台(87)，支撑板(88)朝向驱动槽(81)侧壁的侧面设有推动杆(810)，所述推动杆(810)的顶端与联动机构(9)的右端接触连接，推动杆(810)的左右两侧对称设有第二弹簧(89)，所述第二弹簧(89)的一端与驱动槽(81)的侧壁固定连接，第二弹簧(89)的另一端与支撑板(88)的侧面固定连接，所述驱动杆(83)的左端与贯穿驱动槽(81)左侧壁的通孔滑动连接，驱动杆(83)的右端与驱动槽(81)的前后侧壁滑动连接，驱动杆(83)右端的上下两端头与凸台(87)的表面接触连接，驱动杆(83)的内部中间位置设有空腔(84)，所述转动杆(811)与放置槽(82)活动连接，转动杆(811)的中间位置设有滑动孔(819)，转动杆(811)的上下两侧对称设有圆形孔(812)，所述转动孔(812)的内侧壁对称设有翼板槽(818)，所述螺纹杆(813)的左端与螺纹孔(814)螺纹连接，螺纹杆(813)右端的侧面设有与翼板槽(818)滑动连接的翼板(815)，螺纹杆(813)的右端面与限位块(817)的左侧面中间位置固定连接，螺纹杆(813)的左端面与限位杆(85)的右端固定连接，所述限位块(817)左侧面的上下两侧对称设有第三弹簧(816)，所述第三弹簧(816)的左端与转动杆(811)的右侧面固定连接，第三弹簧(816)的右端与限位块(817)的左侧面固定连接，所述限位杆(85)的左端与空腔(84)滑动连接，限位杆(85)位于驱动槽(81)的部分套有第一弹簧(86)，所述第一弹簧(86)的左端与驱动杆(83)的右端面固定连接，第一弹簧(86)的右端与驱动槽(81)的右侧壁固定连接；

所述联动机构(9)包括矩形杆(92)、转轴(94)和滑动板(97)，所述驱动槽(81)上下两侧壁的内部对称设有联动槽(91)，所述联动槽(91)的左侧设有内腔(93)，联动槽(91)靠近右侧的下侧壁通过圆孔与驱动槽(81)相连通，所述内腔(93)的左侧壁与联动槽(91)相连通，所述推动杆(810)与圆孔滑动连接，所述转轴(94)的两端面与联动槽(91)的前后侧壁固定连接，所述滑动板(97)与内腔(93)滑动连接，滑动板(97)顶端面的中间位置与顶部端头(98)的一端固定连接，滑动板(97)底端面的中间位置与第四弹簧(96)的一端固定连接，所述第四弹簧(96)的另一端与缓冲板(99)的上端面固定连接，所述缓冲杆(99)的下端面与锁紧杆(95)的一端固定连接，所述锁紧杆(95)的另一端与内腔(93)底部的连通孔滑动连接，所述锁紧杆(95)与锁紧槽(7)活动连接，所述矩形杆(92)的中间位置与转轴(94)转动连接，矩形杆(92)的右端与推动杆(810)接触连接，矩形杆(92)的左端与顶部端头(98)接触连接，矩形杆(92)的左右两端对称设有第五弹簧(910)，所述第五弹簧(910)的一端与缓冲板(99)的下端面固定连接，第五弹簧(910)的另一端与内腔(93)的下侧壁固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架，其特征在于：所述凸台(87)为圆弧形台面，凸台(87)与支撑板(88)的连接处采用圆弧过渡，所述凸台(87)位于支撑板(88)朝向驱动槽(81)中心位置的侧面中间部位，所述推动杆(810)位于支撑板(88)朝向驱动槽(81)侧壁的侧面中间部位，所述驱动杆(83)右端的上下两端头为半圆形端头。

3.根据权利要求1所述的一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架，其特征在于：所述顶部端头(98)的顶部为半圆形。

4.根据权利要求1所述的一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架，其特征在于：所述横掩膜架(1)和竖掩膜架(2)的材质均为陶瓷材质，所述连接块(4)的表面设有橡胶层。

Images