CN206328461U - 一种玻璃压紧装置 - Google Patents

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李晗光
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Abstract

本实用新型适用于玻璃镀膜技术领域,提供了一种玻璃压紧装置。本实用新型是这样实现的,一种玻璃压紧装置,设置于化学气象沉积设备上,包括基座、遮蔽框架以及多个压块;基座用于支撑和加热玻璃,遮蔽框架与玻璃设于基座的同一表面上;遮蔽框架环设于玻璃周围并与玻璃各边缘间隔设置;压块位于遮蔽框架与基座之间,压块的一侧与遮蔽框架固定连接以及另一侧压紧于非镀膜区上。玻璃压紧装置通过将遮蔽框架间隔设置在玻璃周围,并通过与遮蔽框架固定连接的压块压紧玻璃,以使玻璃与基座贴合严密,而压块本身处于玻璃表面的非镀膜区,从而使得玻璃中心及其边缘均可获得高质量的沉积薄膜,有效地提高了产品的良品率。

Description

一种玻璃压紧装置
技术领域
本实用新型属于玻璃镀膜技术领域,尤其涉及一种玻璃压紧装置。
背景技术
化学气相沉积(Chemical vapor deposition,简称CVD)是一种化学气相生长法,CVD工艺通过在不同的温度场、不同的真空度下,将集中含有构成涂层材料元素的化合物或单质反应源气体,通入含有被处理工件的反应室中,在工件和气相界面进行分解、解吸、化合等反应,生成新的固态沉积物以及其他气态的副产物,前者成为沉积薄膜的一部分,后者将利用扩散效应进入主气流里。
目前,CVD工艺广泛使用于对玻璃进行镀膜操作的工艺过程中,例如常用的电浆增强型化学气象沉积设备,请参照附图1所示,在对玻璃60'进行镀膜的过程中,通常需要在玻璃60'外围设置遮蔽框架10',以使化学反应限定在遮蔽框架10'之内的区域;在使用时还需要将遮蔽框架10'抵压在玻璃60'的边缘,以使玻璃60'与基座40'严密贴合,从而防止玻璃60'翘起造成玻璃60'背面被镀膜而影响后续其他制程。但现有设备由于沿竖直方向扩散的反应源气体以及沿玻璃60'表面附近扩散的气态副产物在遮蔽框架10'与玻璃60'的接触的附近区域会产生扰流,从而影响该区域反应源气体与玻璃60'表面进行充分的化学反应,使得玻璃60'边缘无法获得高质量的沉积薄膜,大大降低了产品的良品率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种玻璃压紧装置,旨在解决现有技术中玻璃边缘由于遮蔽框架的存在而无法获得高质量的沉积薄膜,以致产品良品率难以提高的技术问题。
本实用新型是这样实现的,一种玻璃压紧装置,设置于化学气象沉积设备中,并用于压紧镀膜过程中的玻璃,所述玻璃的上表面划分为镀膜区以及环设于所述镀膜区四周并靠近所述玻璃边缘的非镀膜区,所述玻璃压紧装置包括基座、遮蔽框架以及多个压块;所述基座用于支撑和加热所述玻璃,所述遮蔽框架与所述玻璃设于所述基座的同一表面上;所述遮蔽框架环设于所述玻璃外围并与所述玻璃各边缘间隔设置;所述压块位于所述遮蔽框架与所述基座之间,所述压块的一侧与所述遮蔽框架固定连接,所述压块的另一侧压紧于所述玻璃的非镀膜区上。
进一步地,所述玻璃压紧装置还包括固定设置于所述压块下方的垫块,所述垫块设于所述基座上表面。
进一步地,所述玻璃压紧装置还包括至少一个依次穿过所述垫块和所述压块并锁紧于所述遮蔽框架中的紧固件。
具体地,所述紧固件包括头部和杆部,所述杆部包括光杆段和螺纹段;至少一所述压块均设有收容所述光杆段的第一通孔,至少一所述压块对应的垫块设有收容所述光杆段的第二通孔,所述遮蔽框架设有与所述螺纹段螺接的螺纹孔,所述第一通孔、所述第二通孔和所述螺纹孔相对设置且相互贯通。
优选地,每一所述压块与垫块对应的位置包括两个所述紧固件。
优选地,所述垫块和所述压块均为长方体结构。
优选地,所述遮蔽框架包括四个两两垂直且首尾连接的边框。
优选地,所述边框包括相互垂直的横部和竖部,所述压块的上表面与所述横部的下表面相接触,所述压块的下表面与所述垫块的上表面相接触,所述垫块的下表面与所述竖部的下表面平齐,且所述垫块的下表面与所述竖部的下表面共同抵持在所述基座上。
优选地,所述垫块和所述压块的数量均为八块,且各所述压块分别设于各所述边框的顶点或中部位置处。
优选地,各所述边框与相对应的所述玻璃外边之间的距离范围为20~25mm。
本实用新型相对于现有技术的技术效果是:所述玻璃压紧装置通过将所述遮蔽框架设置在所述玻璃外围,设置在所述遮蔽框架靠近所述玻璃一侧且与所述遮蔽框架固定连接的压块压紧所述玻璃,以使所述玻璃与所述基座贴合严密,而所述压块本身处于玻璃表面的非镀膜区,从而使得所述玻璃的中心及其边缘均可获得高质量的沉积薄膜,有效地提高了产品的良品率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对本实用新型实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面所描述的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术中玻璃镀膜工艺使用的压紧装置的示意图;
图2是本实用新型实施例提供的玻璃压紧装置的剖视图;
图3是2中的A区局部放大示意图;
图4是2提供的压紧装置的俯视图。
附图标记说明:
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。
请参考附图2至附图4所示,本实用新型实施例提供的玻璃压紧装置,设置于化学气象沉积设备中,并用于压紧镀膜过程中的玻璃60。所述玻璃60的上表面划分为镀膜区61以及环设于镀膜区61四周并靠近所述玻璃60边缘的非镀膜区62。所述玻璃压紧装置包括基座40、遮蔽框架10以及多个压块20。所述基座40用于支撑和加热玻璃60。所述遮蔽框架10与所述玻璃60设于所述基座40的同一表面上。所述遮蔽框架10环设于所述玻璃60外围并与所述玻璃60各边缘间隔设置。所述多个压块20位于所述遮蔽框架10与所述基座40之间。所述各压块20的一侧与所述遮蔽框架10固定连接,所述各压块20的另一侧压紧于所述非镀膜区62上。
本实用新型实施例提供的玻璃压紧装置通过将遮蔽框架10设置在玻璃60外围,并通过设置在所述遮蔽框架10靠近所述玻璃60一侧且与遮蔽框架10固定连接的压块20压紧玻璃60,以使玻璃60与基座40贴合严密,而压块20本身处于玻璃60表面的非镀膜区62,从而使得玻璃60中心及其边缘均可获得高质量的沉积薄膜,有效地提高了产品的良品率。
需要说明的是,目前常见的电浆增强型化学气象沉积设备,其基座40内部通常设有多根电加热丝,以用于加热所述玻璃60,为玻璃60表面与反应源气体之间的化学反应创造适宜的反应条件。
优选地,如图2和图3所示,本实用新型实施例中,所述压块20由陶瓷材料制成。陶瓷材料具有可耐高温、良好的电绝缘性及化学稳定性高的特点,不仅可以有效地避免产生电弧等可能导致设备损坏的问题,还可以避免与其他物质,如反应源气体之间产生化学反应的问题。进一步地,所述遮蔽框架10优选为由外表面经过阳极处理后的铝合金制成,同样具有良好的电绝缘性和化学反应性不活跃的特点。
进一步地,如图2和图3所示,所述玻璃压紧装置还包括固定设置于所述压块20下方的垫块30。所述垫块30设于所述基座40的上表面,并与所述基座40上表面相接触。通过在所述压块20下方设置与所述基座40上表面接触的垫块30,可以有效提高所述压块20在所述玻璃60表面的稳定性。与所述压块20类似,所示垫块30也优选为由陶瓷材料制成。
进一步地,如图2和图3所示,玻璃压紧装置还包括至少一个依次穿过所述垫块30和所述压块20并锁紧于所述遮蔽框架10中的紧固件50。所述玻璃压紧装置通过所述紧固件50将所述垫块30、所述压块20以及所述遮蔽框架10依次固定连接在一起,可以有效地提高所述玻璃压紧装置的整体稳定性,同时也使所述压块20能更加稳定地压紧所述玻璃60。另外,在生产过程中,采用上述组合式的可拆卸连接的方式,也便于对所述玻璃压紧装置的各组件进行预安装,以使玻璃镀膜工艺的前期准备工序得以简化。优选地,与所述遮蔽框架10类似,所述紧固件50同样采用外表面经过阳极处理后的铝合金制成。
具体地,如图3所示,所述紧固件50包括头部51和杆部52。所述杆部52包括光杆段521和螺纹段522。每一所述压块20均设有收容所述光杆段521的第一通孔21。所述垫块30设有收容所述光杆段521的第二通孔31。所述遮蔽框架10设有与所述螺纹段522螺接的螺纹孔12。所述第一通孔21、第二通孔31和螺纹孔12相对设置且相互贯通。所述垫块30和所述压块20均设有与所述光杆段521配合的通孔,而在所述遮蔽框架10内设有与所述螺纹杆配合的螺纹孔12,主要目的是便于所述紧固件50直接穿过所述垫块30和所述压块20,然后与所述遮蔽框架10之间螺纹紧固。上述安装方式可快捷高效地连接所述垫块30、压块20及遮蔽框架10。同时,本实施例中由于所述垫块30和压块20均由陶瓷材料制成,而陶瓷本体脆性较强,在机械加工过程中极有可能会导致所述垫块30和压块20内部出现裂纹,从而影响其使用寿命,因此未对所述垫块30和压块20本体进行进一步地机械加工以得到螺纹形式的连接孔。优选地,所述头部51收纳于所述第二通孔31内部。
优选地,如图3所示,每一所述压块20与垫块30对应的位置包括两个所述紧固件50。采取两个紧固件50对所述垫块30、压块20及遮蔽框架10进行紧固连接,可以有效地提高了上述组件的稳定性,避免采用单个紧固件50进行紧固上述各组件时可能出现旋转松脱的现象。
优选地,所述垫块30和所述压块20均为长方体结构。采用长方体结构便于对所述垫块30和压块20进行大规模产业化生产。由于陶瓷材料本身硬度非常大难以进行加工,若外形过于复杂,则加工成本和难度极高,而采用常规的长方体结构可减少用于制造所述垫块30、压块20的原坯件以及降低对所述原坯件进行机械再加工的难度。
优选地,如图4所示,所述遮蔽框架10包括四个两两垂直且首尾连接的边框11。所述遮蔽框架10采用矩形结构形式的边框11组合方式,可以有效地保护所述遮蔽框架10外部的区域,从而减少镀膜工艺产生的反应后介质以及其他异物对所述遮蔽框架10外部区域的影响。
优选地,如图3所示,所述边框11包括相互垂直的横部111和竖部112。所述压块20的上表面与所述横部111的下表面相接触,所述压块20的下表面与所述垫块30的上表面相接触,所述垫块30的下表面与所述竖部112的下表面平齐,且所述垫块30的下表面与所述竖部112的下表面共同抵持在所述基座40上。因此,所述压块20、垫块30及遮蔽框架10可稳定地设置在所述基座40上。
优选地,如图4所示,在本实施方式中,所述垫块30和压块20的数量均为八块,且各压块20分别设于各边框11的顶点或中部位置处。所述玻璃压紧装置通过在所述玻璃60的八个关键点处设置相应数量的所述压块20,可以使所述玻璃60与所述基座40之间得以有效贴合,避免玻璃60背部与反应源气体之间生成化学反应膜。可以理解的是,在实际玻璃镀膜工艺过程中,所述压块20所设的位置并不局限与上述方式,对于存在各种不同形状及使用要求的玻璃60,可以根据玻璃60的非镀膜区62的具体位置来设置所述压块20在遮蔽框架10或玻璃60上的实际位置,以满足各种不同设计要求产品的需要。
优选地,如图4所示,各所述边框11与相对应的玻璃60外沿之间的距离D值的范围为20~25mm。本实用新型实施例中通过将上述各条边框11与玻璃60外沿之间的距离D值设置在20~25mm之间,既可以避免所述遮蔽框架10对所述玻璃60边缘区域的影响,同时还可以尽可能有效地保护电浆增强型化学气象沉积设备内所述遮蔽框架10之外的区域不受高温的化学反应区的影响。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种玻璃压紧装置,用于压紧镀膜过程中的玻璃,所述玻璃的上表面划分为镀膜区以及环设于所述镀膜区四周并靠近所述玻璃边缘的非镀膜区,其特征在于,所述玻璃压紧装置包括基座、遮蔽框架以及多个压块;所述基座用于支撑和加热所述玻璃,所述遮蔽框架与所述玻璃设于所述基座的同一表面上;所述遮蔽框架环设于所述玻璃外围并与所述玻璃各边缘间隔设置;所述压块位于所述遮蔽框架与所述基座之间,所述压块的一侧与所述遮蔽框架固定连接,所述压块的另一侧压紧于所述玻璃的非镀膜区上。
2.如权利要求1所述的玻璃压紧装置,其特征在于,还包括固定设置于所述压块下方的垫块,所述垫块设于所述基座上表面。
3.如权利要求2所述的玻璃压紧装置,其特征在于,还包括至少一个依次穿过所述垫块和所述压块并锁紧于所述遮蔽框架中的紧固件。
4.如权利要求3所述的玻璃压紧装置,其特征在于,所述紧固件包括头部和杆部,所述杆部包括光杆段和螺纹段;至少一所述压块设有收容所述光杆段的第一通孔,至少一与所述压块对应的垫块设有收容所述光杆段的第二通孔,所述遮蔽框架设有与所述螺纹段螺接的螺纹孔,所述第一通孔、所述第二通孔和所述螺纹孔相对设置且相互贯通。
5.如权利要求3所述的玻璃压紧装置,其特征在于,每一所述压块与垫块对应的位置包括两个所述紧固件。
6.如权利要求2所述的玻璃压紧装置,其特征在于,所述垫块和所述压块均为长方体结构。
7.如权利要求2至6任一项所述的玻璃压紧装置,其特征在于,所述遮蔽框架包括四个两两垂直且首尾连接的边框。
8.如权利要求7所述的玻璃压紧装置,其特征在于,所述边框包括相互垂直的横部和竖部,所述压块的上表面与所述横部的下表面相接触,所述压块的下表面与所述垫块的上表面相接触,所述垫块的下表面与所述竖部的下表面平齐,且所述垫块的下表面与所述竖部的下表面共同抵持在所述基座上。
9.如权利要求7所述的玻璃压紧装置,其特征在于,所述垫块和所述压块的数量均为八块,且各所述压块分别设于各所述边框的顶点或中部位置处。
10.如权利要求7所述的玻璃压紧装置,其特征在于,各所述边框与相对应的玻璃外沿之间的距离范围为20~25mm。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107435141A (zh) * 2017-08-04 2017-12-05 武汉华星光电技术有限公司 化学气相沉积设备
CN108074860A (zh) * 2018-01-12 2018-05-25 北京创昱科技有限公司 一种基片固定装置
CN108396301A (zh) * 2018-04-16 2018-08-14 元亮科技有限公司 一种用于超薄玻璃镀膜的镀膜夹具
CN109369029A (zh) * 2018-12-18 2019-02-22 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 一种镀膜玻璃无夹印夹具
CN109487228A (zh) * 2018-10-18 2019-03-19 芜湖研历光电科技有限公司 一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架
CN110923672A (zh) * 2019-12-17 2020-03-27 Tcl华星光电技术有限公司 加热装置及化学气相沉积设备
CN112725756A (zh) * 2020-12-22 2021-04-30 安徽安合鑫光电科技有限公司 一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107435141A (zh) * 2017-08-04 2017-12-05 武汉华星光电技术有限公司 化学气相沉积设备
CN108074860A (zh) * 2018-01-12 2018-05-25 北京创昱科技有限公司 一种基片固定装置
CN108074860B (zh) * 2018-01-12 2024-03-15 紫石能源有限公司 一种基片固定装置
CN108396301A (zh) * 2018-04-16 2018-08-14 元亮科技有限公司 一种用于超薄玻璃镀膜的镀膜夹具
CN109487228A (zh) * 2018-10-18 2019-03-19 芜湖研历光电科技有限公司 一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架
CN109487228B (zh) * 2018-10-18 2023-02-21 芜湖研历光电科技有限公司 一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架
CN109369029A (zh) * 2018-12-18 2019-02-22 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 一种镀膜玻璃无夹印夹具
CN109369029B (zh) * 2018-12-18 2023-12-19 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 一种镀膜玻璃无夹印夹具
CN110923672A (zh) * 2019-12-17 2020-03-27 Tcl华星光电技术有限公司 加热装置及化学气相沉积设备
CN112725756A (zh) * 2020-12-22 2021-04-30 安徽安合鑫光电科技有限公司 一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具

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