KR20140136891A - 펠리클 프레임, 포토마스크 및 이의 장착방법 - Google Patents

펠리클 프레임, 포토마스크 및 이의 장착방법 Download PDF

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KR20140136891A
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Abstract

본 발명은 펠리클 프레임, 포토마스크 및 이의 장착방법을 개시하였으며 상기 포토마스크의 펠리클 멤브레인 장착에 사용되는 펠리클 프레임은 상기 펠리클 멤브레인과의 고정적 연결에 사용되며 제1연결부를 구비한 제1프레임; 및 상기 포토마스크 기판과의 고정적 연결에 사용되며 제2연결부를 구비한 제2프레임을 포함하며, 상기 제1프레임과 상기 제2프레임은 상기 제2연결부와 제1연결부에 의해 쉽게 분리될수 있도록 밀폐식 고정 연결방식으로 연결되어 있다. 본 발명에 의해 코스트가 높은 펠리클 멤브레인을 재이용 할수 있다

Description

펠리클 프레임, 포토마스크 및 이의 장착방법{DUSTPROOF FILM FRAME, PHOTO MASK, AND ASSEMBLING METHOD THEREOF}
본 발명은 평판 디스플레이 제조분야에 관한 것으로서, 특히 펠리클 프레임 및 이를 구비한 포토마스크 및 포토마스크 펠리클 멤브레인의 장착방법에 관한 것이다.
종래기술에 있어서, 디스플레이 분야에 속하는 황색광 제조공정 (Yellow room photolithography)에서는 대형 포토마스크(Photo Mask)를 사용할 필요가 있다. 단, 상기 제조공정에 미치는 먼지의 영향을 감소시키기 위하여, 포토마스크 패턴면에 펠리클 멤브레인(Pellicle Membrane)을 장착시킬 필요가 있다. 현재 포토마스크 제조 업체에서는 모두 펠리클 멤브레인을 포토마스크의 패턴면에 부착하는 방법을 이용하고 있지만 상기 펠리클 멤브레인을 부착한 다음에는 이를 손상 없이 분리할 수 없기 때문에 현재의 장착방법에 사용되고 있는 펠리클 멤브레인은 일회용인 것이다.
포토마스크의 제조 공정의 흐름 개략도는 도 1에 도시된 바와 같다. 우선 막 형성, 포토레지스트 도포, 패터닝, 현상, 에칭, 포토레지스트 박리, 검사, 복원, 청정, 펠리클 멤브레인 장착, 검사 및 출고 등 공정을 진행한다.
상기 펠리클 멤브레인 장착공정에 있어서, 도 3에 도시된 바와 같이, 종래의 펠리클 멤브레인 장착방법에서는 펠리클 멤브레인(4)을 펠리클 프레임(2)에 부착하는 방식으로 고정시킨 후, 펠리클 멤브레인(4)이 부착되어 있는 펠리클 프레임(2)을 패턴(3)이 형성된 포토마스크 기판(예컨대 석영유리)(1)의 패턴측에 부착하여 고정시킨다. 따라서 도 2에 도시된 바와 같은 포토마스크를 형성하게 된다.
단, 매번 제품의 패널 사이즈, 픽셀, 선폭 등 임의의 패턴 데이트를 변경할 때마다 한 개 제품의 전체 포토마스크를 바꿔야 했다. 교체된 포토마스크는 상업적 사용가치를 잃게 되며 재이용 가치가 있는 펠리클 멤브레인(4)는 포토마스크의 펠리클 프레임(2)에 부착되어 분리할 수 없기 때문에 주체와 함께 폐기될 수 밖에 없었다. 또한, 포토마스크 상의 일부 결함 혹은 손상이, 상기 펠리클 멤브레인(4)을 부착한 후에 발견되었으며 이에 대한 복원이 필요할 경우, 반드시 부착한 펠리클 멤브레인(4)을 파괴하여 복원을 진행한 후 새로운 펠리클 멤브레인(4)을 부착해야만 했다. 이는 모두 포토마스크의 코스트를 상승시킨다. 또한, 펠리클 멤브레인(4)의 제조 코스트는 포토마스크 총비용의 30~40%를 차지한다. 따라서 종래기술의 포토마스크 펠리클 멤브레인은 재이용 할 수가 없기에 엄중한 낭비를 초래하게 된다.
종래 기술에 존재하는 상기 문제점을 해결하기 위해, 본 발명의 목적은 종래기술의 펠리클 프레임에 있어서, 포토마스크 중 코스트가 비싼 펠리클 멤브레인을 재이용 할 수 없는 기술적 과제를 해결하는, 포토마스크에 사용되는 펠리클 프레임을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 종래기술의 포토마스크에 있어서, 코스트가 비싼 펠리클 멤브레인을 재이용 할 수 없는 기술적 과제를 해결하는, 본 발명의 펠리클 프레임을 구비한 포토마스크를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 포토마스크 펠리클 멤브레인의 장착방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 하기와 같다.
포토마스크의 펠리클 멤브레인의 장착에 사용되는 펠리클 프레임으로서, 이는 상기 펠리클 멤브레인과의 고정적 연결에 사용되며 제1연결부를 구비한 제1프레임; 상기 포토마스크 기판과의 고정적 연결에 사용되며 제2연결부를 구비한 제2프레임을 포함하며, 상기 제1프레임과 상기 제2프레임이 상기 제2연결부와 상기 제1연결부에 의해 쉽게 분리될수 있도록 밀폐식 고정 연결방식으로 연결된다.
본 발명의 포토마스크는 본 발명의 펠리클 프레임을 구비하고 있다.
또한, 포토마스크의 펠리클 멤브레인 장착방법은 청구항 1~3항 중 어느 한 항에 있어서의 펠리클 프레임을 제공하는 단계S1; 상기 펠리클 멤브레인을 상기 제1프레임에 연결하고, 상기 기판을 상기 제2프레임에 연결하는 단계S2; 상기 제1연결부와 제2연결부에 의해, 상기 제1프레임과 제2프레임을 쉽게 분리할수 있도록 밀폐식 고정 연결방식으로 연결하는 단계S3;을 포함한다.
본 발명의 펠리클 프레임, 해당 펠리클 프레임을 구비한 포토마스크 및 포토마스크의 펠리클 멤브레인 장착방법에 의하면, 상기 펠리클 프레임을 제1프레임 및 제2프레임 두 부분으로 나뉘고 또 상기 제1프레임과 제2프레임이 쉽게 분리될 수 있는 장착방식으로 설치되어 있기에 상업적 가치가 없는 포토마스크로부터 펠리클 멤브레인을 탈착하여 필요한 포토마스크에 장착시킬수 있게 되어 펠리클 멤브레인의 재이용 및 코스트 절감 목적을 달성하였을 뿐만 아니라 자원의 낭비를 면할수 있게 되었다.
도 1은 종래기술에 따른 포토마스크의 제조 공정의 흐름을 나타낸 상태도이다.
도 2는 종래기술의 펠리클 멤브레인 장착방법에 따라 장착된 포토마스크 단면도이다.
도 3은 종래기술에 따른 펠리클 멤브레인 장착방법에 있어서의 장착과정을 나타낸 상태도이다.
도 4는 펠리클 멤브레인이 장착되어 있는 본 발명의 제1 실시예의 펠리클 프레임에 있어서의 제1프레임의 단면도이다.
도 5는 펠리클 멤브레인이 장착되어 있는 본 발명의 제1 실시예의 펠리클 프레임에 있어서의 제1프레임의 평면도이다.
도 6은 본 발명의 제1실시예에 따른 펠리클 프레임 중의 제2프레임이 장착되어 있는, 포토마스크 기판의 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크 단면도이다.
도 8은 본 발명의 제2실시예에 따른 펠리클 프레임 중의 제1프레임을 나타낸 단면도이다.
도 9는 본 발명의 제2실시예에 따른 펠리클 프레임 중의 제2프레임을 나타낸 단면도이다.
도 10은 본 발명의 실시예에 따른 포토마스크 펠리클 멤브레인의 장착방법의 흐름을 나타낸 상태도이다.
이하, 본 발명의 특징 및 장점을 나타낸 전형적인 실시예에 대하여 상세한 설명을 진행한다. 본 발명은 다양한 실시예에서 여러가지 변경을 진행할 수 있으며 이는 모두 본 발명의 특허청구범위를 벗어나지 않은 것으로서, 그 중의 설명 및 도면은 본 발명을 본질적으로 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것이 아니라는 것을 이해해야 할 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 포토마스크 펠리클 멤브레인의 장착방법은 본 발명의 실시예의 펠리클 프레임에 의해 실시되며; 본 발명 실시예에 따른 포토마스크는 본 발명의 실시예의 펠리클 프레임을 구비하고 있으며; 본 발명 실시예의 포토마스크는 본 발명의 장착방법을 이용하여 펠리클 멤브레인의 장착을 진행한다.
이하, 본 발명의 제1실시예 내지 제4실시예에 있어서의 펠리클 프레임, 펠리클 멤브레인 및 이의 장착방법에 대하여 구체적인 설명을 진행한다. 단, 본 발명은 이하 4개 실시예에 한정되는 것이 아니다.
[실시예1]
도 4 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 펠리클 프레임은 제1프레임(6) 및 제2프레임(5)을 포함한 두 부분으로 나누어졌으며, 그중 제1프레임(6)은 펠리클 멤브레인(4)과의 고정적 연결에 사용되며 스냅핏(60)을 구비하고 있다. 제2프레임(5)는 상기 포토마스크 기판(1)과의 고정적 연결에 사용되며 슬롯(50)을 구비하고 있으며, 상기 슬롯(50) 및 상기 스냅핏(60)을 통하여 제1프레임(6)과 제2프레임(5)을 연결시킨 후, 상기 슬롯(50) 및 상기 스냅핏(60) 사이의 연결은 탈착 가능한 연결방식이기 때문에 상업적 가치가 없는 포토마스크로부터 펠리클 멤브레인(4)을 탈착해야 할 경우, 제1프레임(6)을 제2프레임(5)로부터 쉽게 분리할 수 있다.
여기에서 말하는 스냅핏(60) 및 슬롯(50)은, 도시락, 수납상자에 사용되는 박스(상자) 덮개와 몸체를 연결하는 스냅핏 및 슬롯일 수 있으며 또는 락앤란 물병에 사용되는 병 뚜껑과 몸체를 연결하는 스냅핏 및 슬롯일 수도 있다. 상기 스냅핏(60) 및 슬롯(50)에 있어서, 스냅핏(60)을 제2프레임(5)에 설치할 수 있으며, 슬롯(50)을 제1프레임(6)에 설치할 수도 있다.
본 실시예에 있어서, 제1프레임(6)과 제2프레임(5)는 사이즈 매칭을 이루는 직사각형으로서, 두 프레임의 사이즈는 일치해야 한다. 펠리클 멤브레인(4)의 사이즈는 반드시 제1프레임(6)과 제2프레임(5)의 사이즈와 매칭을 이루어야 된다. 제1프레임(6)과 제2프레임(5)의 규격은 예를 들면 내측 사이즈 456×768mm, 외측 사이즈 474×782mm 혹은 내측 사이즈 736×888mm, 외측 사이즈 754×902mm이며 이는 각각 사이즈가 520×800mm 또는 800×920mm인 포토마스크와 대응되며 여기에서 말하는 포토마스크 사이즈는 유리기판(1)의 사이즈와 일치하다.
포토마스크 사이즈로서 330*400mm, 330*450mm, 390*610mm, 500*750mm, 520*800mm, 800*920mm, 850*1200mm, 1220*1400mm 및 1800*2000mm 규격이 있으며 현재 많이 사용되고 있는 것은 500*750이상의 사이즈를 갖고 있는 포토마스크이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 스냅핏(60) 및 슬롯(50)은 제1프레임(6)과 제2프레임(5)의 직사각형 상에 설치되어 있으며 매 긴 변에는 두 개씩, 매 짧은 변에는 하나씩 설치되어 있다. 짧은 변일 경우에는 짧은 변 중심에 설치할 수 있고, 긴 변일 경우에는 긴 변의 3분의 1 및 3분의 2 위치에 균일하게 설치할 수 있다. 포토마스크 사이즈에 따라, 스냅핏(60) 및 슬롯(50)을 증설할 수 있으며 이때 제1프레임(6)과 제2프레임(5)에 균일하게 설치할 수 있다. 제1프레임(6)과 제2프레임(5)의 재질로서는 알루미늄 합금이 바람직하다.
본 실시예에 따른 펠리클 프레임에 있어서, 제1프레임(6) 또는 제2프레임(5)에 원형 통기공을 설치할 수 있으나, 바람직하게는 제1프레임(6)의 펠리클 멤브레인(4)과 접근하는 위치에 직경 1.5 mm인 원형 통기공(도면에는 도시되지 않았음)을 복수(통상적으로 4개)개 설치하여 펠리클 멤브레인(4)에 과압력이 인가되는 것을 피할 수 있다. 상기 통기공에는 직경이 막으려고 하는 먼지 입자직경보다 더 작은 에어필터가 설치되어 있으며 예컨대 입자직경이 0.3미크론이상의 과립의 통과를 억제시키는 에어필터가 설치되어 있다.
본 발명의 실시예에 따른 펠리클 프레임에 있어서, 제1프레임(6)과 제2프레임(5) 사이에는 이들 간의 밀봉성을 높이기 위한 밀봉 가스켓이 설치되어 있다. 예를 들면 제1프레임(6)의 밑면과 제2프레임(5)의 윗면 사이에 밀봉 가스켓이 설치되어 있다.
도 7에 도시된 바와 같이,본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크는 석영유리(1), 제2프레임(5), 제1프레임(6) 및 펠리클 멤브레인(4)을 포함하고 있으며 이들간의 위치 관계 및 연결관계는 앞에서 이미 소개하였으므로 여기서 다시 반복하지 않는다.
그 중, 본 발명의 실시예의 포토마스크 기판으로서, 패턴(3)이 형성되어 있는 석영유리(1)를 사용하였으나 상기 기판의 재질은 석영유리에 한정되지 않는다.
이하 본 발명의 실시예에 따른 포토마스크의 펠리클 멤브레인의 장착방법을 소개하나 주로 본 발명 제1실시예의 펠리클 프레임에 대해 설명한다. 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예의 포토마스크 펠리클 멤브레인의 장착방법은 우선 본 발명 제1실시예의 펠리클 프레임을 제공하는 단계; 다음에, 펠리클 멤브레인(4)을 제1프레임(6)의 윗면에 부착시키며 제2프레임(5)을 석영유리(1)에 부착시키는 단계; 마지막으로, 스냅핏(60) 및 슬롯(50)으로 제1프레임(6)을 제2프레임(5)에 고정 연결시키는 단계;를 포함한다.
스냅핏(60) 및 슬롯(50)으로 제1프레임(6) 및 제2프레임(5)을 고정 연결시키기 전, 제1프레임(6)의 밑면과 제2프레임(5)의 윗면 사이에 밀봉 가스켓을 설치하여 제1프레임(6) 및 제2프레임(5) 사이의 밀봉성을 높일 수도 있다.
본 발명 실시예의 포토마스크 제조공정에 있어서, 펠리클 멤브레인(4)을 장착시키는 공정 이외의 기타 공정은 종래기술의 포토마스크 제조공정과 동일하며 구체적으로 도 1에 도시된 바와 같다.
[실시예2]
도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 펠리클 프레임은 제1실시예와 마찬가지로 제1프레임(6) 및 제2프레임(5)을 포함한 두 부분으로 나뉘어졌으며, 그 중 제1프레임(6)은 펠리클 멤브레인(4)과의 고정적 연결에 사용되며, 제1실시예와 다른 점은, 본 실시예 중의 제1프레임(6)의 밑면에 스냅핏이 아닌 돌기(61)가 형성되어 있다. 제2프레임(5)은 상기 포토마스크의 석영유리(1)와의 고정적 연결에 사용되며, 제1실시예와 다른 점은 제2프레임(5) 윗면에는 오목홈(51)이 형성되어 있다.
본 실시예에서는 플러그식 연결 방식을 이용하였는 바, 이는 돌기(61) 및 오목홈(51)의 조합을 통하여 제1프레임(6) 및 제2프레임(5)을 고정 연결시키는 방식으로서, 오목홈(51)의 입구가 탄성을 갖고 있어 돌기(61)를 삽입할 경우 입구가 벌어지게 되며 완전히 삽입된 후에는 탄성으로 인해 회복되어 돌기(61)의 양측에 밀착되게 된다. 상기 돌기(61)를 뽑을 경우, 오목홈(51)의 입구는 돌기(61)에 의해 벌어지게 되며 완전히 뽑은 후에는 오목홈(51)의 입구가 탄성에 의해 원래 상태로 회복되기 때문에 돌기(61)와 오목홈(51) 사이의 연결도 탈착 가능한 연결방식에 속한다. 따라서 상업적 가치가 없는 포토마스크로부터 상기 펠리클 멤브레인(4)을 탈착할 경우, 제1프레임(6) 및 제2프레임(5)을 쉽게 분리할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 제1프레임(6) 및 제2프레임(5)을 연결시킨 다음, 오목홈(51)의 입구가 탄성으로 인해 회복되어 돌기(61)의 양측에 밀착되기 때문에 우수한 밀봉성을 갖고 있으며 따라서 기타 밀봉 부품을 설치할 필요가 없다.
본 실시예에 있어서, 제1프레임(6)에 돌기(61)를 설치하고, 제2프레임(5)에 오목홈(51)을 설치할 수 있으며 또는 제1프레임(6)에 오목홈을 설치하고, 제2프레임(5)에 돌기를 설치할 수 있다.
본 실시예에 있어서의 기타 여러 방면은 제1실시예와 동일하기에 반복해서 설명하지 않는다.
[실시예3]
본 발명의 제3실시예에 따른 펠리클 프레임이 제1실시예와 다른 점은, 제1프레임(6)에는 나사못(혹은 나사라고도 함)이 설치되어 있고 제2프레임(5)에는 너트(nut)가 설치되어 있어 나사못과 너트의 결합에 의해 제1프레임(6)과 제2프레임(5)을 탈착 가능하게 고정 연결할 수 있는 것을 실현할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 너트는 제2프레임(5)의 외표면, 즉 도 4에 도시된 슬롯(50)의 위치에 고정될 수 있으며, 나사못은 제1프레임(6)의 외표면에 있는 내부에 나사산이 형성된 연결공을 관통하는 방식으로 설치되어 있다.
본 실시예에 있어서, 제1프레임(6)에 나사못을 설치하고, 제2프레임(5)에 너트를 설치할 수 있으며 또는 제1프레임(6)에 너트를 설치하고, 제2프레임(5)에 나사못을 설치할 수 있다.
본 실시예에 있어서 나사못과 너트가 모두 제1프레임(6)과 제2프레임(5)의 외표면에 설치되며 나사못이 제1프레임(6)과 제2프레임(5)의 몸체를 관통하지 않는 실시예였지만, 본 발명은 여기에 한정되는 것이 아니며 하기 실시예4와 같은 방식도 포함한다.
[실시예4]
본 실시예에 있어서, 제1프레임(6)과 제2프레임(5)에는 암 나사선을 구비한 중심을 맞춘 두 연결공이 각각 설치되어 있으며 그 중 하나는 스루홀이고 다른 하나는 비관통공이다. 포토마스크 내부의 밀봉성을 유지하기 위해, 상기 두 구멍을 연결시키는 나사못은 포토마스크 내부까지 관통하지 않는다. 중심을 맞춘 두 연결공은 석영유리와 평행되거나 석영유리에 수직되는 방식으로 설치될 수 있다.
제1프레임(6)의 밑면과 제2프레임(5) 윗면이 요철(凹凸)구조를 형성할 시 연결공은 석영유리(1)에 평행되는 방향으로 설치될 수 있다. 상기 요철구조는 계단 (스탭) 모양을 가진 요철 구조일 수도 있는바, 예컨대 제1프레임(6)의 밑면은 내측이 높고 외측이 낮은 계단 구조, 제2프레임(5) 윗면은 상기 계단 구조와 매칭된 구조, 즉 내측이 낮고 외측이 높은 계단 구조를 가지며 중심을 맞춘 두 연결공은 석영 유리(1)에 평행되는 방향으로 계단 위에 형성될 수 있다.
제1프레임(6) 과 제2프레임(5)을 탈착 가능한 방식으로 고정 연결시키기 위해, 본 실시예의 펠리클 프레임은 또 상기 중심을 맞춘 두 연결공을 상호 연결시키는 나사못을 포함하고 있다.
상기 실시예1 내지 실시예4를 종합하면, 본 발명의 펠리클 프레임에 있어서 스냅핏(60)과 슬롯(50), 돌기(61)과 오목홈(51)의 플러그식 연결방식, 및 나사와 너트의 연결방식이나 나사못을 통해 중심을 맞춘 두 연결공을 연결시키는 방식은 모두 제1프레임(6) 과 제2프레임(5)에 각각 설치된 두개의 연결부,(즉 스냅핏＼슬롯, 돌기＼오목홈, 나사＼너트 및 두 개의 연결공)에 의해 제1프레임(6) 과 제2프레임(5)이 쉽게 분리될 수 있도록 하는 밀폐식 고정 연결방식에 속하며 탈착 가능한 밀폐식 고정 연결방식도 이 방식에 속한다. 단, 본 발명은 여기에 한정되는 것이 아니며 제1프레임(6) 과 제2프레임(5)을 쉽게 분리할 수 있는 모든 밀폐식 고정 연결방식을 사용할 수 있다.
본 발명의 실시예의 펠리클 프레임, 포토마스크 및 포토마스크의 펠리클 멤브레인의 장착방법에 있어서, 상기 펠리클 프레임은 제1프레임(6)과 제2프레임(5) 두 부분으로 나뉘어졌으며 그 중 석영유리(1)에 부착되는 프레임을 제2프레임(5)으로, 펠리클 멤브레인(4)을 고정시키는 프레임을 제1프레임(6)으로 지정한다. 제1프레임(6)에 연결부를 설치하고 제2프레임(5)에는 상기 연결부와 매칭된 다른 연결부를 형성하며 이 두 개의 연결부를 통해 제1프레임(6) 및 제2프레임(5)를 고정 연결시킴으로써 연결작업을 완성할 수 있다. 뿐만 아니라 제1프레임(6)과 제2프레임(5)은 두 개 연결부에 의해 쉽게 분리될 수 있는 장착방식을 사용하였기에 상업적 가치가 없는 포토마스크로부터 펠리클 멤브레인(4)을 탈착하여 이를 수요로 하는 포토마스크에 장착시킬 수 있어 펠리클 멤브레인(4)의 재이용 및 코스트 절감 목적에 도달할 수 있어 자원의 낭비를 면할 수 있다.
본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 청구항 범위 및 사상을 벗어나지 않는 범위에서 진행한 여러 가지의 변형과 개량은 전부 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (11)

  1. 펠리클 멤브레인을 포토마스크에 장착시키는 펠리클 프레임에 있어서,
    상기 펠리클 멤브레인과의 고정적 연결에 사용되며 제1연결부를 구비한 제1프레임; 및
    상기 포토마스크의 기판과의 고정적 연결에 사용되며 제2연결부를 구비한 제2프레임;을 포함하며,
    상기 제1프레임과 상기 제2프레임은 상기 제2연결부와 상기 제1연결부에 의해 쉽게 분리될 수 있도록 밀폐식 고정연결방식으로 연결되며,
    상기 제2연결부와 상기 제1연결부가 서로 연결되는 것에 의해 상기 제1프레임과 상기 제2프레임이 탈착 가능한 밀폐식 고정연결방식으로 연결되며,
    상기 제1프레임과 상기 제2프레임은 사이즈 매칭된 직사각형으로서, 상기 제1연결부와 상기 제2연결부는 상기 직사각형의 긴 변에 적어도 각각 두 개씩 설치되어 있으며, 상기 직사각형의 짧은 변에 적어도 하나씩 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1연결부는 스냅핏이고 상기 제2연결부는 슬롯이며, 또는
    상기 제1연결부는 슬롯이고 상기 제2연결부는 스냅핏인 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1연결부는 상기 제1프레임에 설치된 돌기이고, 상기 제2연결부는 상기 제2프레임에 설치된 오목홈이며, 또는
    상기 제1연결부는 상기 제1프레임에 설치된 오목홈이고, 상기 제2연결부는 상기 제2프레임에 설치된 돌기인 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제1연결부는 나사못이고 상기 제2연결부는 너트이며, 또는
    상기 제1연결부는 너트이고 상기 제2연결부는 나사못인 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1프레임에는 입자직경이 0.3미크론 이상인 과립의 통과를 억제시키는 통기공이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 통기공의 직경은 1.5mm 이며,
    상기 통기공 내에는 입자직경이 0.3미크론 이상인 과립의 통과를 억제시키는 에어필터가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1연결부는 상기 제1프레임에 형성되고 암 나사선을 구비한 제1연결공이며,
    상기 제2연결부는 상기 제2프레임에 형성되고 암 나사선을 구비하며 상기 제1연결공과 중심을 맞춘 제2연결공이며,
    상기 제1연결부 및 상기 제2연결부는 나사못에 의해 연결되는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서의 펠리클 프레임을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제1프레임과 상기 제2프레임 사이에는 밀봉 부품이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제1프레임 밑면과 상기 제2프레임 윗면 사이에는 밀봉 가스켓이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 기판은 석영유리인 것을 특징으로 하는 포토마스크.
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6275270B2 (ja) 2014-09-19 2018-02-07 三井化学株式会社 ペリクル、その製造方法及び露光方法
JP6367342B2 (ja) 2014-09-19 2018-08-01 三井化学株式会社 ペリクル、ペリクルの製造方法及びペリクルを用いた露光方法
CN111458973B (zh) 2014-11-17 2024-02-09 Asml荷兰有限公司 表膜框架附接设备
CN107003602B (zh) * 2015-02-24 2021-03-12 三井化学株式会社 防护膜组件膜、防护膜组件框体、防护膜组件及其制造方法
EP3079013B1 (en) * 2015-03-30 2018-01-24 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Pellicle
US9588417B2 (en) * 2015-05-28 2017-03-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Photomask pellicle
CA3008050A1 (en) * 2015-12-14 2017-06-22 Asml Netherlands B.V. A membrane assembly
JP6781864B2 (ja) 2016-07-05 2020-11-11 三井化学株式会社 ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、その製造方法、露光原版、露光装置、半導体装置の製造方法
JP6706575B2 (ja) * 2016-12-22 2020-06-10 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム及びこれを用いたペリクル
EP3404485B1 (en) * 2017-05-15 2019-07-03 IMEC vzw A lithographic reticle system
CN107894343B (zh) * 2017-10-20 2020-10-16 广东省农业科学院农业资源与环境研究所 一种用于土壤中塑料薄膜的回收方法
JP7052055B2 (ja) * 2018-02-08 2022-04-11 シー・アール・バード・インコーポレーテッド サンプル収集容器を有する生検装置
KR102459119B1 (ko) * 2018-06-12 2022-10-26 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 펠리클용 지지 프레임, 펠리클 및 펠리클용 지지 프레임의 제조 방법, 그리고 펠리클을 사용한 노광 원판 및 노광 장치
CN109487228B (zh) * 2018-10-18 2023-02-21 芜湖研历光电科技有限公司 一种等离子体化学气相沉积设备的掩膜框架
CN109814333A (zh) * 2019-01-25 2019-05-28 上海微择科技有限公司 一种高性能的防污染颗粒的光罩膜
TWI715149B (zh) * 2019-08-14 2021-01-01 友達光電股份有限公司 顯示裝置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59189643U (ja) * 1983-05-31 1984-12-15 シャープ株式会社 ペリクル装着装置
JPS6344824Y2 (ko) * 1985-02-28 1988-11-21
JPS6380257A (ja) * 1986-09-24 1988-04-11 Hitachi Micro Comput Eng Ltd ホトマスク
JPH0221649U (ko) * 1988-07-27 1990-02-14
JPH0342153U (ko) * 1989-08-31 1991-04-22
JPH03263046A (ja) * 1990-03-14 1991-11-22 Matsushita Electron Corp フォトマスク用ペリクル
JPH0483254A (ja) * 1990-07-26 1992-03-17 Seiko Epson Corp フォトマスク及び半導体装置の製造方法
JPH04283748A (ja) * 1991-03-13 1992-10-08 Fujitsu Ltd ペリクル
JPH11295880A (ja) * 1998-04-07 1999-10-29 Seiko Epson Corp ペリクルフレーム
US6911283B1 (en) * 2001-02-07 2005-06-28 Dupont Photomasks, Inc. Method and apparatus for coupling a pellicle to a photomask using a non-distorting mechanism
US6566018B2 (en) * 2001-04-23 2003-05-20 Intel Corporation Dual-member pellicle assemblies and methods of use
US6573980B2 (en) * 2001-07-26 2003-06-03 Micro Lithography, Inc. Removable optical pellicle
JP2003156836A (ja) * 2001-11-21 2003-05-30 Sony Corp フォトマスク構造体、露光方法及び露光装置
KR20040060569A (ko) * 2002-12-30 2004-07-06 주식회사 하이닉스반도체 포토 마스크의 펠리클장치
US8586267B2 (en) * 2011-09-12 2013-11-19 Samsung Austin Semiconductor, L.P. Removable transparent membrane for a pellicle

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