KR20040001785A - 포토마스크용 펠리클의 필터구조 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 포토마스크용 펠리클의 필터구조에 관한 것으로서, 특히, 펠리클을 고정하는 프레임의 벤트홀에 설치되어 포토마스크의 오염을 방지하는 에어필터에 있어서, 상기 에어필터의 외측면에 공장 내부에서 생성되는 화학물질을 필터링하도록 하는 화학필터를 구비하여 화학물질로 인한 오염을 방지하도록 하는 매우 유용하고 효과적인 발명에 관한 것이다.

Description

포토마스크용 펠리클의 필터구조 { A Filter Structure Of Pellicle For Photo Mask }

본 발명은 포토마스크용 펠리클(Pellicle)에 관한 것으로서, 특히, 펠리클을 고정하는 프레임의 벤트홀에 설치되어 포토마스크의 오염을 방지하는 에어필터에 있어서, 상기 에어필터의 외측면에 공장 내부에서 생성되는 화학물질을 필터링하도록 하는 화학필터를 구비하여 화학물질로 인한 오염을 방지하도록 하는 포토마스크용 펠리클의 필터구조에 관한 것이다.

일반적으로, 웨이퍼 상에 임의의 패턴을 형성하기 위한 방법으로는 포토리소그라피(Photo Lithography)공정이 이용되고 있다. 이 공정은 식각베리어로서 감광막 패턴(Photoresist Pattern)을 형성하는 공정과; 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 식각대상층을 식각하는 공정으로 구분되며, 상기 감광막패턴을 형성하는 공정은, 식각대상물 상에 감광막을 도포하는 공정과; 특정 마스크를 이용하여 도포된 감광막을 노광하는 공정 및 노광된 부분 혹은 노광되지 않은 부분을 임의의 용액으로 제거하는 현상공정등으로 이루어진다.

상기 리소그라피공정에는 축소 노광용 마스크를 사용하여 패턴을 형성하게 되는 것으로서, 반도체 제조용 포토마스크를 보호하기 위하여서는 장착되는 펠리클에는 미세한 먼지의 유입을 차단하는 에어필터가 벤트홀(Vent)에 장착되어져 있다.

상기 펠리클은, 감광막에 부착되어 프레임에 지지되어지고, 부착되어지는 얇고 광학적으로 투과되는 니트로셀룰로스(Nitrocellulose)등과 같은 투명필림이다. 이 것은 광학적인 노광시스템의 이미지 플레인 내에 있는 이물질에 의하여 야기되는 프리팅된 결함을 줄여주고, 결함을 제거하기 위하여 사용된다.

도 1은 종래의 포토마스크용 펠리클의 구조를 보인 도면으로서, 종래의 펠리클 구조는, 얇고 광학적으로 투과되는 투명필림인 펠리클(1)과; 상기 펠리클(1)을 저면에서 지지하는 프레임(2)과; 상기 프레임(2)에 형성되어 공기를 이동시키는 벤트홀(3)과; 상기 벤트홀(3)을 차단하도록 프레임(2)의 외측면에 설치되어 먼지 등과 같은 이물질을 차단하는 에어필터(4)로 구성된다.

이와 같이 구성된 상태에서, 상기 포토마스크를 보호하기 위하여 상기 펠리클(1)의 벤트홀(3)을 통하여 이동하는 공기에 혼합되어져 있는 이물질이 상기 프레임(2)의 벤트홀(3)의 외측에 설치된 에어필터(4)에 의해 제거 되어진다.

그런데, 상기 벤트홀(3)에 설치되는 에어필터(4)는, 단순히 먼지등과 같은 미세한 이물질만을 차단하는 효과만을 지닐 뿐 화학물질의 통제는 불가능한 문제점을 지닌다.

즉, 반도체 제조 공장은, 공장 외부에서 유입되는 대기는 ULPA필터와, 화학(Chemical)필터와, 유기물필터를 사용하여 필터링하여 내부로 공급하고 있으나, 공장 내부에서 생성되는 화학물질에 대하여서는 대부분의 펠리클은 오염에 노출되는 단점을 지닌다.

본 발명은 이러한 점을 감안하여 안출한 것으로서, 펠리클을 고정하는 프레임의 벤트홀에 설치되어 포토마스크의 오염을 방지하는 에어필터에 있어서, 상기 에어필터의 외측면에 공장 내부에서 생성되는 화학물질을 필터링하도록 하는 화학필터를 구비하여 화학물질로 인한 오염을 방지하는 것이 목적이다.

도 1은 종래의 포토마스크용 펠리클의 구조를 보인 도면이고,

도 2는 본 발명에 따른 포토마스크용 펠리클의 필터구조를 보인 도면이고,

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*

10 : 펠리클 20 : 프레임

30 : 벤트홀 40 : 에어필터

50 : 화학필터

본 발명의 목적은, 얇고 광학적으로 투과되는 투명필림인 펠리클과; 상기 펠리클을 저면에서 지지하는 프레임과; 상기 프레임에 형성되어 공기를 이동시키는 벤트홀과; 상기 벤트홀을 차단하도록 프레임의 외측면에 설치되어 먼지등과 같은 이물질을 차단하는 에어필터로 구성된 펠리클 구조에 있어서, 상기 에어필터의 외측면에 설치되어 외부로 부터 상기 벤트홀로 유입되는 화학물질을 차단하도록 하는 화학필터를 구비하는 포토마스크용 펠리클의 필터구조를 제공함으로써 달성된다.

이하, 첨부도면에 의거하여 본 발명의 일 실시예를 살펴 보도록 한다.

도 2는 본 발명에 따른 포토마스크용 펠리클의 필터구조를 보인 도면이다.

본 발명의 구성은, 얇고 광학적으로 투과되는 투명필림인 펠리클(10)과; 상기 펠리클(10)을 저면에서 지지하는 프레임(20)과; 상기 프레임(20)에 형성되어 공기를 이동시키는 벤트홀(30)과; 상기 벤트홀(30)을 차단하도록 프레임(20)의 외측면에 설치되어 먼지등과 같은 이물질을 차단하는 에어필터(40)로 구성된 펠리클 구조에 있어서, 상기 에어필터(40)의 외측면에 설치되어 외부로 부터 상기 벤트홀(30)로 유입되는 화학물질을 차단하도록 하는 화학필터(50)로 이루어진다.

그리고, 상기 에어필터(40)의 외측면에 고정되는 화학필터(50)는, 미도시된 조립부재에 의하여 고정되어지거나 접착부재에 의하여 고정되어진다.

상기 화학필터(50)는 액티 베이티드 카본(Activated Carbon), 이온 익스체인지 레진(Ion Exvhanhe Resin) 혹은 세라믹(Ceramic) 중에 어느 하나를 사용하도록 한다.

이하, 본 발명에 따른 작용 및 효과를 살펴 보도록 한다.

먼저, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 프레임(20)에 펠리클(10)을 고정시킨상태에서 프레임(20)에 형성된 벤트홀(30)에 이물질을 제거하는 에어필터(40)를 설치하도록 한다.

그리고, 상기 에어필터(40)의 외측면에 화학물징을 유입을 차단하는 화학필터(50)를 설치하도록 한다.

이와 같은 상태에서, 반도체 제조용 포토마스크를 보호하기 위하여 펠리클(10)을 고정하는 프레임(20)을 설치하도록 한다.

이러한 상태에서 상기 화학필터(50)에서 화학물질을 제거하여 벤트홀(30)을 통하여 내부로 유입되어져 펠리클(1)의 내부에서 포토마스크 상에 반응성 결정이 자라나는 것과 같은 화학적 오염을 방지하도록 한다.

따라서, 상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 포토마스크용 펠리클의 필터구조를 사용하면, 펠리클을 고정하는 프레임의 벤트홀에 설치되어 포토마스크의 오염을 방지하는 에어필터에 있어서, 상기 에어필터의 외측면에 공장 내부에서 생성되는 화학물질을 필터링하도록 하는 화학필터를 구비하여 화학물질로 인한 오염을 방지하도록 하는 매우 유용하고 효과적인 발명이다.

Claims (2)

1. 얇고 광학적으로 투과되는 투명필림인 펠리클과; 상기 펠리클을 저면에서 지지하는 프레임과; 상기 프레임에 형성되어 공기를 이동시키는 벤트홀과; 상기 벤트홀을 차단하도록 프레임의 외측면에 설치되어 먼지등과 같은 이물질을 차단하는 에어필터로 구성된 펠리클 구조에 있어서,

   상기 에어필터의 외측면에 설치되어 외부로 부터 상기 벤트홀로 유입되는 화학물질을 차단하도록 하는 화학필터를 구비하는 것을 특징으로 하는 포토마스크용 펠리클의 필터구조.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 화학필터는 액티 베이티드 카본(Activated Carbon), 이온 익스체인지 레진(Ion Exchange Resin) 혹은 세라믹(Ceramic) 중에 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 포토마스크용 펠리클의 필터구조.