CN102736405B - 一种光罩及其修正方法 - Google Patents

一种光罩及其修正方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102736405B
CN102736405B CN201210199257.5A CN201210199257A CN102736405B CN 102736405 B CN102736405 B CN 102736405B CN 201210199257 A CN201210199257 A CN 201210199257A CN 102736405 B CN102736405 B CN 102736405B
Authority
CN
China
Prior art keywords
light shield
hollow component
shading region
supplement
contraposition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201210199257.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102736405A (zh
Inventor
马佳星
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201210199257.5A priority Critical patent/CN102736405B/zh
Priority to US13/638,081 priority patent/US8741506B2/en
Priority to PCT/CN2012/078669 priority patent/WO2013185401A1/zh
Priority to DE112012006295.7T priority patent/DE112012006295B4/de
Publication of CN102736405A publication Critical patent/CN102736405A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102736405B publication Critical patent/CN102736405B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/72—Repair or correction of mask defects
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

本发明提供一种光罩及其修正方法，方法包括：在光罩模板的示意图案中选定一参照区，并使得参照区对应光罩的待补充遮光区，根据所述参照区在可镂空件上形成一修补区，并使得修补区的图案与光罩的光罩图案具有相同的比例；对可镂空件的修补区进行镂空处理形成镂空区，镂空区对应光罩的待补充遮光区；将形成有镂空区的可镂空件贴合光罩，并使得镂空区对应待补充遮光区；在可镂空件上涂布遮光材料，以在待补充遮光区形成一遮光层。本发明不仅成本低、而且对光罩的修补效率较高。

Description

一种光罩及其修正方法
【技术领域】
本发明涉及液晶显示技术领域，特别是涉及一种光罩及其修正方法。
【背景技术】
随着液晶技术的不断发展，对液晶生产效率提出了很高的要求。
在液晶显示器的制作过程中，光罩(MASK)是必不可少的制作部件，譬如在制作薄膜场效应晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板的像素区、或者彩色滤光片(Color Filter，CF)基板的色阻区(R、G和B)的过程中，都需要用到光罩。而现有技术中光罩的制作不仅周期长，而且成本高，譬如单片光罩的成本高达百万元。
请参阅图1，图1为现有技术中一种光罩的俯视结构示意图，图2为图1中的部分截面结构示意图。
图1所示的光罩10包括透明玻璃11，叠加于所述透明玻璃11上的铬膜层12，与所述铬膜层12位于同一层、且形成于所述铬膜层12之间的透光区13，其中所述铬膜层12不透光，所述铬膜层12和所述透光区13共同形成光罩图案。
由于所述光罩10的使用频率较大，因此极易受到损伤；而且，有时候需要对所述光罩10的光罩图案的进行部分调整，譬如将所述铬膜层12进行加宽处理。上述两种情况都需要将所述光罩10送回原厂进行重新镀膜来进行修正，将受到损伤或者需要加宽的部分镀上铬膜层。但是该方式不仅花费较高(基本要花费在数十万元)，而且修正的周期较长，影响液晶的生产效率。
综上，需解决现有技术修正光罩的成本较高，周期较长以及影响液晶生产效率的技术问题。
【发明内容】
本发明的一个目的在于提供一种光罩的修正方法，以解决现有技术中修订光罩的成本较高，周期较长以及影响液晶生产效率的技术问题。
为解决上述技术问题，本发明构造了一种光罩的修正方法，所述方法包括以下步骤：
提供可镂空件、光罩及光罩模板，所述光罩具有待补充遮光区，所述光罩模板具有示意图案，该示意图案与未形成所述待补充遮光区之前的光罩的光罩图案形状相同；
在所述光罩模板的示意图案中选定一参照区，并使得所述参照区对应所述光罩的待补充遮光区，根据所述参照区的图案在所述可镂空件上形成一修补区，该修补区的图案与所述光罩的光罩图案具有相同的比例；
对所述可镂空件的修补区进行镂空处理形成镂空区，所述镂空区对应所述光罩的待补充遮光区；
将形成有所述镂空区的可镂空件贴合所述光罩，并使得所述镂空区对应所述待补充遮光区；
在形成有所述镂空区的可镂空件上涂布遮光材料，以在所述待补充遮光区形成一遮光层。
在本发明的光罩的修正方法中：根据所述参照区的图案在所述可镂空件上形成一修补区的步骤具体包括：
提供一打印板；
根据所述光罩模板中选定的参照区在所述打印板上形成一打印区，所述打印区的图案与所述参照区的图案形状相同，所述打印区与所述光罩的光罩图案具有相同的比例；
将所述打印板贴合所述可镂空件，并将所述打印区压印于所述可镂空件，以在所述可镂空件上形成所述修补区。
在本发明的光罩的修正方法中：在提供具有所述待补充遮光区的光罩后，所述方法还包括以下步骤：
在所述待补充遮光区所属区域选定定位区；
其中对所述可镂空件的修补区进行镂空处理形成镂空区的同时，还包括以下步骤：
在所述可镂空件上形成对位部，并使得所述对位部对应所述光罩上选定的定位区；
其中在将形成有所述镂空区的可镂空件贴合所述光罩时，还包括以下步骤：
将所述可镂空件的对位部对齐所述光罩的对位区，以使得所述可镂空件的镂空区对齐所述光罩的待补充遮光区。
在本发明的光罩的修正方法中：所述光罩上选定四个对位区，该四个对位区构成一方形区域，且所述四个对位区分别位于该方形区域的四角；
其中所述可镂空件为方形，所述可镂空件上包括四个对位部，该四个对位部分别位于所述可镂空件的四角；
在将所述可镂空件的对位部对齐所述光罩的对位区时，通过光线以及放大镜将所述可镂空件的四个对位部与所述光罩的四个对位区分别进行四角对位。
在本发明的光罩的修正方法中：所述遮光材料为黑色油墨。
在本发明的光罩的修正方法中：所述待补充遮光区为所述光罩上需要修补的残缺缺陷。
在本发明的光罩的修正方法中：所述待补充遮光区为所述光罩上需要扩充的遮光区。
在本发明的光罩的修正方法中：在所述可镂空件上涂布遮光材料形成所述遮光层后，所述方法还包括以下步骤：
提供一光刻胶层；
使用形成有所述遮光层的光罩对所述光刻胶层进行曝光，之后对所述光刻胶层进行显影处理；
检查所述遮光层对应的光刻胶层是否刻蚀掉，若被刻蚀掉，则重新对所述光罩进行修正。
本发明的另一个目的在于提供一种光罩，以解决现有技术修订光罩的成本较高，周期较长以及影响液晶生产效率的技术问题。
为解决上述技术问题，本发明构造了一种光罩，包括第一遮光区和第二遮光区，所述第一遮光区由第一遮光材料形成，所述第二遮光区由第二遮光材料涂布形成，其中所述第二遮光材料是形成于所述第一遮光材料之后；
所述光罩具有待补充遮光区，所述第二遮光区是通过将所述光罩模板中对应所述待补充遮光区的图案放大至所述可镂空件上，在所述可镂空件上镂空一镂空区，之后将该可镂空件贴合所述光罩，使得该可镂空件的镂空区对齐所述光罩的待补充遮光区，并在所述可镂空件上涂布遮光材料，以使得所述遮光材料填充至所述待补充遮光区形成的，所述镂空区对应所述光罩的待补充遮光区。
在本发明的光罩中：所述第二遮光材料为黑色油墨。
本发明中的光罩具有待补充遮光区，譬如残缺缺陷或者需要扩充的遮光区，而本发明是通过将光罩模板中对应所述待补充遮光区的图案放大至可镂空件上，在所述可镂空件上形成一镂空区，该镂空区是对应所述光罩的待补充遮光区，之后将该可镂空件贴合所述光罩，使得该可镂空件的镂空区对齐所述光罩的待补充遮光区，并在所述可镂空件上涂布遮光材料，以使得所述遮光材料填充至所述待补充遮光区形成遮光层，显然本发明不仅成本低、修正周期短，而且修正的效率较高。
为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：
【附图说明】
图1为现有技术中光罩的俯视结构示意图；
图2为沿图1中M-M'的截面结构示意图；
图3为本发明中光罩的修正方法的较佳实施例的流程示意图；
图4A-4I为图3中对光罩修正过程中的结构示意图；
图5A-5C为本发明中对光罩进行修正的另一较佳实施例结构示意图；
图6为本发明提供的光罩的一较佳实施例结构示意图。
【具体实施方式】
以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。
图3为本发明中光罩的修正方法的较佳实施例的流程示意图。
在步骤S301中，提供可镂空件20、光罩30及光罩模板40。请一并参阅图4A中的光罩30，图4B中的光罩模板40以及图4C中的可镂空件20。
其中图4A中光罩30具有一待补充遮光区33，该待补充遮光区33为所述光罩30的残缺缺陷，该残缺缺陷可以是在使用所述光罩30的过程中产生的，也可以是制作所述光罩30过程中产生。该残缺缺陷的存在，使得由所述光罩30制作形成的基板(譬如TFT基板)存在残缺，影响了产品良率。
在步骤S302中，在所述光罩模板40的示意图案中选定一参照区43，并使得所述参照区43对应所述光罩30的待补充遮光区33，请一并参阅图4A以及图4D。其中所述参照区43对应所述光罩30上由四个对位区34构成的方形区域。
在步骤S303中，提供一打印板50，根据所述参照区43在所述打印板50上形成一打印区51，该打印区51与所述光罩30的光罩图案具有相同的比例，请一并参阅图4E。
在步骤S304中，将所述打印区51打印至所述可镂空件20，以在所述可镂空件20上形成一修补区21，该修补区21与所述光罩30的光罩图案具有相同的比例，请一并参阅图4F。
在步骤S305中，对所述可镂空件20进行镂空处理，以在所述修补区21形成镂空区23，同时形成有四个对位部22，请一并参阅图4G。
在步骤S306中，将形成有所述镂空区23的可镂空件20贴合所述光罩30，并使得所述镂空区23对应所述待补充遮光区33，请一并参阅图4H。
在步骤S307中，在形成有所述镂空区23的可镂空件20上涂布遮光材料。
其中所述遮光材料优选为黑色油墨，使用黑色油墨的优点是费用低，可降低成本，当然在具体实施过程中也可以是其它材质的遮光材料，此处不一一列举。
在步骤S308中，将所述可镂空件20移走，请一并参阅图4I。在图4I中，所述待补充遮光区33由于涂覆有遮光材料因而形成一遮光层35。
在步骤S309中，使用形成有所述遮光层35的光罩30对某一光刻胶层进行曝光，之后进行显影处理。检查所述遮光层35是否遮光，若所述遮光层35对应的光刻胶层未被刻蚀掉，则说明修正成功，否则说明修正失败，则继续进行步骤S301。
其中在图4A中，其中所述光罩30具有遮光区31、透光区32、待补充遮光区33，以及根据该待补充遮光区33选定的对位区34。所述遮光区31用于在光罩制程中遮挡光线，所述透光区32用于在光罩制程中使得光线透过，所述遮光区31对应的光刻胶层未被光线照射，因此在显影过程中保留下来；所述透光区32对应的光刻胶层被透过的光线照射，其内部发生化学反应，因此在显影过程中被刻蚀掉。
请继续参阅图4A，为了更准确的对所述待补充遮光区33进行修正，本发明还选定有对位区34。本发明选定的四个对位区34构成一方形区域，而四个对位区34分别位于所述该方形区域的四角上，所述对位区34用于对所述待补充遮光区33进行准确的圈定定位。每个所述对位区34具有第一对位图案，所述第一对位图案包括四个环形相邻的遮光区31中每个遮光区31的一角、以及上述四个遮光区33环绕包围的透光区32。当然在一些其它实施例中，所述对位区34还可以选定为其它的形式，只要能够对所述待补充遮光区33进行准确的对位即可，此处不一一列举。
在图4B中，所述光罩模板40上标示有示意图案，所述示意图案与未形成所述待补充遮光区33之前的光罩30的光罩图案形状相同。其中可能存在不同之处在于，所述光罩模板40上的示意图案与所述光罩30上的光罩图案的比例不同，所述光罩模板40上的示意图案与所述光罩30上的光罩图案的比例譬如为1:5，当然所述光罩模板40上的示意图案也可以与所述光罩30上的光罩图案的比例相同，只要使得所述光罩模板40方便进行压印即可。其中，所述光罩30的光罩图案为所述遮光区31和透光区32共同形成的图案。
请继续参阅图4B，所述光罩模板40上包括有用于标识所述光罩30的遮光区31的遮光标识区41，用于标识所述光罩30的透光区32的透光标识区42。
在图4C中，该可镂空件20优选为方形，其大小与所述光罩30的四个对位区34圈定的方形区域大致相同。所述可镂空件20优选为透明薄膜，当然也可以为其它材质，譬如易切割的板材，此处不一一详述。
在图4E中，所述打印区51的大小与所述光罩30上四个对位区34圈定的方形区域大致相同。其中所述打印板50可以为普通的纸张，只要能够方便将所述参照区43扩大压印于所述打印版50上形成所述打印区51即可，此处不一一列举。
在图4F中，所述修补区21具有与所述打印区51形状和大小均相同的图案，所述修补区21包括修补遮光区211和修补透光区212。
当然，在具体实施过程中，还可以直接将所述打印区51扩大至所述可镂空件20形成所述修补区21，该方式可以省略步骤S303中的打印板50，进而节省成本。
在图4G中，所述镂空区23对应所述光罩30的待补充遮光区33，所述四个对位部22分别对应所述光罩30的四个对位区34。其中每个对位部22具有第二对位图案，该第二对位图案是与所述光罩30上每个定位区34的第一对位图案的大小和形状相同。
在图4H中，在将形成有所述镂空区23的可镂空件20贴合所述光罩30时，通过四个对位部22分别对应所述光罩30上的四个对位区34，以使得所述镂空区23对齐所述待补充遮光区33。
更具体的，在将形成有所述镂空区23的可镂空件20贴合所述光罩30时，使用光线和放大镜进行四角对位，使得所述可镂空件20的四个对位部22分别对齐所述光罩30的四个对位区34，进而实现所述镂空区23与所述待补充遮光区33的准确对位。
当然，本发明的光罩的修正方法并不限于对残缺缺陷进行修正，在一些其它实施例中，还可以对完整、但是需要扩充遮光区的光罩进行修正，譬如请参阅图5A至5C。
在图5A中，光罩50包括有遮光区51和透光区52，由于待生产产品的要求，需要沿方向A扩大所述遮光区51的宽度，譬如图5A中的待补充遮光区53。此时若将所述光罩50返回原厂进行扩充，无疑仍存在成本高、周期长的问题，而使用本发明提供的光罩的修正方法，则可避免上述问题。
对应上文，首先提供可镂空件60以及光罩模板(图未示出)，其中该光罩模板譬如为所述光罩50的说明书，该光罩模板具有与所述光罩50形状相同的光罩图案。之后将所述光罩模板的图案放大后打印至所述可镂空件60，之后对所述可镂空件60进行镂空处理，形成扩充镂空区61，譬如请参阅图5B。其中所述扩充镂空区61对应所述光罩50的待补充遮光区53。
之后将图5B中形成有所述扩充镂空区61的可镂空件60贴合图5A中所述光罩50，使得所述可镂空件60上的扩充镂空区61对齐所述光罩50上的待补充遮光区53。之后在形成有所述扩充镂空区61的可镂空件60上涂布遮光材料，最后将形成有所述扩充镂空区61的可镂空件60移走，则所述光罩50形成图5C所示的形状，涂布在所述待补充遮光区53的遮光材料形成遮光层70。
当然，在具体实施过程中，对所述可镂空件60进行镂空处理时，还同时形成用于对位的部件，具体请参阅上文，此处不再赘述。
请参阅图6，图6为本发明提供的光罩的一较佳实施例结构示意图。
所述光罩80包括遮光区81和透光区82，所述遮光区81包括第一遮光区811和第二遮光区812，其中所述第一遮光区811和所述第二遮光区812的遮光材料不同，所述第一遮光区811的遮光材料譬如为金属铬，而所述第二遮光区812的材料譬如为黑色油墨等价格较低的遮光材料。而且所述第二遮光区812是在形成第一遮光区811之后涂布形成的，譬如请参阅图4A至图4I的光罩修补过程示意图，此处不再详述。
本发明中的光罩具有待补充遮光区，譬如残缺缺陷或者需要扩充的遮光区，而本发明是通过将光罩模板中对应所述待补充遮光区的图案放大至可镂空件上，在所述可镂空件上镂空一镂空区，该镂空区是对应所述光罩的待补充遮光区，之后将该可镂空件贴合所述光罩，使得该可镂空件的镂空区对齐所述光罩的待补充遮光区，并在所述可镂空件上涂布遮光材料，以使得所述遮光材料填充至所述待补充遮光区形成遮光层，显然本发明不仅成本低、修正周期短，而且修正的效率较高。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种光罩的修正方法，其特征在于：所述方法包括以下步骤：
提供可镂空件、光罩及光罩模板，所述光罩具有待补充遮光区，所述光罩模板具有示意图案，该示意图案与未形成所述待补充遮光区之前的光罩的光罩图案形状相同；
在所述光罩模板的示意图案中选定一参照区，并使得所述参照区对应所述光罩的待补充遮光区，根据所述参照区的图案在所述可镂空件上形成一修补区，该修补区的图案与所述光罩的光罩图案具有相同的比例；
对所述可镂空件的修补区进行镂空处理形成镂空区，所述镂空区对应所述光罩的待补充遮光区；
将形成有所述镂空区的可镂空件贴合所述光罩，并使得所述镂空区对应所述待补充遮光区；
在形成有所述镂空区的可镂空件上涂布遮光材料，以在所述待补充遮光区形成一遮光层。
2.根据权利要求1所述的光罩的修正方法，其特征在于：根据所述参照区的图案在所述可镂空件上形成一修补区的步骤具体包括：
提供一打印板；
根据所述光罩模板中选定的参照区在所述打印板上形成一打印区，所述打印区的图案与所述参照区的图案形状相同，所述打印区与所述光罩的光罩图案具有相同的比例；
将所述打印板贴合所述可镂空件，并将所述打印区压印于所述可镂空件，以在所述可镂空件上形成所述修补区。
3.根据权利要求1所述的光罩的修正方法，其特征在于：在提供具有待补充遮光区的光罩后，所述方法还包括以下步骤：
在所述待补充遮光区所属区域选定定位区；
其中对所述可镂空件的修补区进行镂空处理形成镂空区的同时，还包括以下步骤：
在所述可镂空件上形成对位部，并使得所述对位部对应所述光罩上选定的定位区；
其中在将形成有所述镂空区的可镂空件贴合所述光罩时，还包括以下步骤：
将所述可镂空件的对位部对齐所述光罩的对位区，以使得所述可镂空件的镂空区对齐所述光罩的待补充遮光区。
4.根据权利要求3所述的光罩的修正方法，其特征在于：所述光罩上选定四个对位区，该四个对位区构成一方形区域，且所述四个对位区分别位于该方形区域的四角；
其中所述可镂空件为方形，所述可镂空件上包括四个对位部，该四个对位部分别位于所述可镂空件的四角；
在将所述可镂空件的对位部对齐所述光罩的对位区时，通过光线以及放大镜将所述可镂空件的四个对位部与所述光罩的四个对位区分别进行四角对位。
5.根据权利要求1所述的光罩的修正方法，其特征在于：所述遮光材料为黑色油墨。
6.根据权利要求1所述的光罩的修正方法，其特征在于：所述待补充遮光区为所述光罩上需要修补的残缺缺陷。
7.根据权利要求1所述的光罩的修正方法，其特征在于：所述待补充遮光区为所述光罩上需要扩充的遮光区。
8.根据权利要求1所述的光罩的修正方法，其特征在于：在所述可镂空件上涂布遮光材料形成所述遮光层后，所述方法还包括以下步骤：
提供一光刻胶层；
使用形成有所述遮光层的光罩对所述光刻胶层进行曝光，之后对所述光刻胶层进行显影处理；
检查所述遮光层对应的光刻胶层是否刻蚀掉，若被刻蚀掉，则重新对所述光罩进行修正。
9.一种按照如权利要求1所述的方法制造的光罩，其特征在于：包括第一遮光区和第二遮光区，所述第一遮光区由第一遮光材料形成，所述第二遮光区由第二遮光材料涂布形成，其中所述第二遮光材料是形成于所述第一遮光材料之后；
所述光罩具有待补充遮光区，所述第二遮光区是通过将所述光罩模板中对应所述待补充遮光区的图案放大至所述可镂空件上，在所述可镂空件上镂空一镂空区，之后将该可镂空件贴合所述光罩，使得该可镂空件的镂空区对齐所述光罩的待补充遮光区，并在所述可镂空件上涂布遮光材料，以使得所述遮光材料填充至所述待补充遮光区形成的，所述镂空区对应所述光罩的待补充遮光区。
10.根据权利要求9所述的光罩，其特征在于：所述第二遮光材料为黑色油墨。
CN201210199257.5A 2012-06-15 2012-06-15 一种光罩及其修正方法 Active CN102736405B (zh)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210199257.5A CN102736405B (zh) 2012-06-15 2012-06-15 一种光罩及其修正方法
US13/638,081 US8741506B2 (en) 2012-06-15 2012-07-16 Mask and repairing method therefor
PCT/CN2012/078669 WO2013185401A1 (zh) 2012-06-15 2012-07-16 一种光罩及其修正方法
DE112012006295.7T DE112012006295B4 (de) 2012-06-15 2012-07-16 Maske und Reparaturverfahren dafür

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210199257.5A CN102736405B (zh) 2012-06-15 2012-06-15 一种光罩及其修正方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102736405A CN102736405A (zh) 2012-10-17
CN102736405B true CN102736405B (zh) 2014-07-16

Family

ID=46992133

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210199257.5A Active CN102736405B (zh) 2012-06-15 2012-06-15 一种光罩及其修正方法

Country Status (3)

Country Link
CN (1) CN102736405B (zh)
DE (1) DE112012006295B4 (zh)
WO (1) WO2013185401A1 (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103969945B (zh) * 2013-01-25 2018-08-24 上海微电子装备（集团）股份有限公司 刮伤掩模修补装置及方法
CN106569387B (zh) * 2015-10-09 2021-03-23 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 光罩及其修复方法
CN109471328A (zh) * 2019-01-07 2019-03-15 成都中电熊猫显示科技有限公司 光配向掩膜版修复方法
CN110161800A (zh) * 2019-04-26 2019-08-23 信利光电股份有限公司 一种光罩损伤修复方法
CN110956196B (zh) * 2019-10-11 2024-03-08 东南大学 一种城市建筑物窗墙比自动识别方法
CN114284323A (zh) * 2021-12-16 2022-04-05 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制作方法、移动终端

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101311821A (zh) * 2007-05-23 2008-11-26 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 修补带缺陷光罩图形的方法
CN101344720A (zh) * 2007-07-12 2009-01-14 Hoya株式会社 灰阶掩模及其缺陷修正方法、其制造方法、图案转印方法
CN101419399A (zh) * 2007-07-11 2009-04-29 欧姆龙激光先进株式会社 光掩模的白缺陷修正方法
CN101685254A (zh) * 2008-09-28 2010-03-31 Hoya株式会社 光掩模制造方法以及光掩模

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1981003628A1 (en) * 1980-06-19 1981-12-24 Master Images Inc Process for forming a defect-free photomask or repairing defects in an existing photomask and product thereof
EP0961168B1 (en) * 1998-05-18 2009-04-08 International Business Machines Corporation Method for repair of photomasks
DE60325629D1 (de) * 2002-10-21 2009-02-12 Nanoink Inc Verfahren zur herstellung von strukturen im nanometerbereich zur anwendung im bereich der maskenreparatur
US7005219B2 (en) * 2003-05-08 2006-02-28 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Defect repair method employing non-defective pattern overlay and photoexposure
CN100561338C (zh) * 2006-07-10 2009-11-18 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 修补光罩图形的方法
KR100762245B1 (ko) * 2006-09-29 2007-10-01 주식회사 하이닉스반도체 포토마스크의 패턴 결함 수정 방법
JP2012073553A (ja) * 2010-09-30 2012-04-12 Hoya Corp フォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの製造方法、及びフォトマスク、並びにパターン転写方法
JP5740895B2 (ja) * 2010-10-01 2015-07-01 凸版印刷株式会社 Ｅｕｖマスク白欠陥修正方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101311821A (zh) * 2007-05-23 2008-11-26 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 修补带缺陷光罩图形的方法
CN101419399A (zh) * 2007-07-11 2009-04-29 欧姆龙激光先进株式会社 光掩模的白缺陷修正方法
CN101344720A (zh) * 2007-07-12 2009-01-14 Hoya株式会社 灰阶掩模及其缺陷修正方法、其制造方法、图案转印方法
CN101685254A (zh) * 2008-09-28 2010-03-31 Hoya株式会社 光掩模制造方法以及光掩模

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP特开2012-73553A 2012.04.12
JP特开2012-78561A 2012.04.19

Also Published As

Publication number Publication date
DE112012006295B4 (de) 2021-04-22
WO2013185401A1 (zh) 2013-12-19
DE112012006295T5 (de) 2015-01-29
CN102736405A (zh) 2012-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102736405B (zh) 一种光罩及其修正方法
US20150192823A1 (en) Exposure method for glass substrate of liquid crystal display
CN103676468B (zh) 光掩模及其制造方法、转印方法及平板显示器的制造方法
CN201974631U (zh) 掩膜版及掩膜版组
CN102854656A (zh) 彩色滤光基板以及其相关制作方法
CN103092005B (zh) 玻璃基板的曝光对位方法
CN104808451A (zh) 一种对位曝光方法
US10620526B2 (en) Mask, manufacturing method thereof, patterning method employing mask, optical filter
CN102866532A (zh) 彩色滤光基板以及其相关制作方法
CN103777406A (zh) 用于在液晶面板的制造中固化框胶的方法及液晶面板
CN101986206A (zh) 利用功能掩膜板制造封接胶固化用掩膜基板的方法
CN104614931A (zh) 掩模板及制造彩膜基板的方法和彩膜基板
CN104281014A (zh) 掩模板、曝光设备及紫外掩模基板的制备方法
CN108196421A (zh) 灰阶掩膜版制作方法
CN105929639B (zh) 曝光机镜组条纹的改善方法
CN202003137U (zh) 一种半色调掩模板
CN106200275A (zh) 曝光方法
US20050226492A1 (en) Acceptable defect positioning and manufacturing method for large-scaled photomask blanks
US9372369B2 (en) Liquid crystal panel and manufacturing method thereof
CN107065312B (zh) 一种平曲面共用改善液晶显示穿透率的方法
US7582396B2 (en) Hybrid phase-shift mask and manufacturing method thereof
CN105404050A (zh) 彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN109358455A (zh) 一种光配向处理方法、光配向掩模板及光配向掩模板组
CN101846878B (zh) 一种大尺寸菲林母版设计及其组合方法
CN104199203A (zh) 液晶显示面板及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant