CN105404050A - 彩膜基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种彩膜基板的制作方法，包括：在衬底基板的第一表面上形成掩膜图形，所述掩膜图形包括镂空部和不透光部，所述不透光部包括第一不透光子部，所述第一不透光子部的厚度小于不透光部其他部分的厚度；在衬底基板的第二表面形成黑矩阵材料层；从形成有掩膜图形的一侧对黑矩阵材料层进行曝光并显影，以形成黑矩阵；进行第一次灰化，以将第一不透光子部去除，不透光部的其他部分保留一部分；在衬底基板的第二表面形成第一颜色的色阻材料层；从形成有掩膜图形的一侧对所述第一颜色的色阻材料层进行曝光并显影，以形成第一颜色的色阻块。相应地，本发明还提供一种彩膜基板和一种显示装置。本发明能够减少掩膜板的使用数量，降低生产成本。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
液晶显示面板包括对盒在一起的阵列基板和彩膜基板以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。如图1所示，彩膜基板包括衬底基板1、黑矩阵2和多种彩色的色阻块3，彩膜基板的每个子像素区内均设置有一个相应颜色的色阻块3。现有在彩膜基板的制作过程中，通常利用不同的掩膜板分别制作黑矩阵2和不同颜色的色阻块3，例如，当彩膜基板包括红、绿、蓝三种颜色的子像素区时，在制作黑矩阵、红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块时，各使用一张掩膜板进行曝光，掩膜板使用数量较多，造成生产成本较高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种彩膜基板及其制作方法、显示装置，以减少彩膜基板制作过程中掩膜板的使用，降低生产成本。
为了实现上述目的，本发明提供一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板包括多种不同颜色的子像素区，所述制作方法包括：
在衬底基板的第一表面上形成掩膜图形，所述掩膜图形包括镂空部和不透光部，所述镂空部的位置与待形成黑矩阵的位置相对应，所述不透光部包括与所述彩膜基板的第一颜色子像素区对应的第一不透光子部，所述第一不透光子部的厚度小于所述不透光部的其他部分的厚度；
在所述衬底基板的与第一表面相对的第二表面形成黑矩阵材料层；
从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述黑矩阵材料层进行曝光并显影，以形成黑矩阵；
对所述不透光部进行第一次灰化，以将所述第一不透光子部去除，所述不透光部的其他部分保留一部分；
在所述衬底基板的第二表面形成第一颜色的色阻材料层；
从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第一颜色的色阻材料层进行曝光并显影，以形成第一颜色的色阻块。
优选地，所述彩膜基板包括三种颜色的子像素区以及位于所有子像素区和黑矩阵周围的外围区，所述不透光部还包括对应于第二颜色子像素区的第二不透光子部、对应于第三颜色子像素区的第三不透光子部以及对应于外围区的外围不透光子部，所述第三不透光子部和所述外围不透光子部的厚度均大于所述第二不透光子部的厚度；
从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第一颜色的色阻材料层进行曝光并显影，之后还包括：
对剩余的不透光部进行第二次灰化，以将所述第二不透光子部去除，所述第三不透光子部和所述外围不透光子部均保留一部分；
在所述衬底基板的形成有黑矩阵的一侧形成第二颜色的色阻材料层；
从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第二颜色的色阻材料层进行曝光并显影，以形成第二颜色的色阻块。
优选地，所述第三不透光子部的厚度小于所述外围不透光子部的厚度，从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对第二颜色的色阻材料层进行曝光并显影，之后还包括；
对剩余的不透光部进行第三次灰化，以将所述第三不透光子部去除，所述外围不透光子部保留一部分；
在所述衬底基板的形成有黑矩阵的一侧形成第三颜色的色阻材料层；
从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第三颜色的色阻材料层进行曝光并显影，以形成第三颜色的色阻块。
优选地，从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第三颜色的色阻材料层进行曝光并显影，之后还包括：
将所述掩膜图形剩余的部分去除。
优选地，进行所述显影时，通过喷淋的方式向所述衬底基板的形成有黑矩阵的一侧喷淋显影液。
优选地，所述在衬底基板的第一表面上形成掩膜图形，具体包括：
形成掩膜材料层；
对所述掩膜材料层进行构图工艺，以将待形成黑矩阵的位置对应的掩膜材料去除，形成所述镂空部，其余部分保留形成所述不透光部，并且，在所述不透光部中，第二颜色子像素区对应的掩膜材料的厚度大于第一颜色子像素区对应的光刻胶厚度、并小于第三颜色子像素区对应的光刻胶厚度，所述第三颜色子像素区对应的掩膜材料的厚度小于所述外围区对应的掩膜材料的厚度。
优选地，所述掩膜材料层为不透光的光刻胶层，所述构图工艺包括利用掩膜板对所述不透光的光刻胶层进行曝光并显影。
优选地，所述掩膜材料层为不透光的负性光刻胶层，对所述掩膜材料层进行构图工艺之前还包括：
提供透明基板；
在所述透明基板的对应于所述彩膜基板的黑矩阵的位置形成不透光膜、在对应于所述彩膜基板的第一颜色子像素区的位置形成第一半透光膜、在对应于所述彩膜基板的第二颜色子像素区的位置形成第二半透光膜、在对应于所述彩膜基板的第三颜色子像素区的位置形成第三半透光膜，以形成所述掩膜板；其中，所述第二半透光膜的透光率小于第三半透光膜的透光率并大于所述第一半透光膜的透光率。
优选地，所述掩膜材料层为不透光的正性光刻胶层，对所述掩膜材料层进行构图工艺之前还包括：
提供透明基板；
在所述透明基板的对应于所述彩膜基板的外围区的位置形成不透光膜、在对应于所述彩膜基板的第一颜色子像素区的位置形成第一半透光膜、在对应于所述彩膜基板的第二颜色子像素区的位置形成第二半透光膜、在对应于所述彩膜基板的第三颜色子像素区的位置形成第三半透光膜，以形成所述掩膜板；其中，所述第二半透光膜的透光率大于第三半透光膜的透光率并小于所述第一半透光膜的透光率。
优选地，形成所述不透光膜的材料为铬。
相应地，本发明还提供一种上述制作方法制作的彩膜基板，包括多个子像素区，每个子像素区均设置有相应颜色的色阻块，所述彩膜基板还包括设置在每相邻两个所述色阻块之间的黑矩阵，相邻两个所述色阻块之间的黑矩阵与该两个色阻块接触、且与该两个色阻块均无交叠。
相应地，本发明还提供一种显示装置，包括阵列基板和与所述阵列基板对盒设置的彩膜基板，其中，所述彩膜基板为本发明提供的上述彩膜基板。
本发明在制作彩膜基板时，可以只利用一张掩膜板对不透光的光刻胶层曝光并显影，以形成掩膜图形，所述掩膜图形可以作为掩膜来对黑矩阵材料层曝光形成黑矩阵，在后续每形成一种颜色的色阻块时，就可以对掩膜图形进行一次灰化，并利用掩膜图形的剩余部分和黑矩阵共同作为掩膜对色阻材料层进行曝光。因此，本发明所提供的彩膜基板的制作方法中，只需要利用一张掩膜板即可。另外，在形成色阻块时，黑矩阵也起到掩膜作用，因此，形成的色阻块与黑矩阵的位置更加匹配。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1是现有技术中彩膜基板的结构示意图；
图2是本发明提供的彩膜基板的制作方法的流程图；
图3至图20是所述彩膜基板制作过程示意图。
其中，附图标记为：
1、现有技术中的衬底基板；2、现有技术中的黑矩阵；3、现有技术中色阻块；
10、衬底基板；21、第一不透光子部；22、第二不透光子部；23、第三不透光子部；24、外围不透光子部；30、黑矩阵材料层；31、黑矩阵；41、第一颜色的色阻材料层；41a、第一颜色的色阻块；42、第二颜色的色阻材料层；42a、第二颜色的色阻块；43、第三颜色的色阻材料层；43a、第三颜色的色阻块；50、掩膜板；51、透明基板；52a、第一半透光膜；52b、第二半透光膜；52c、第三半透光膜；53、不透光膜。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
作为本发明的一个方面，提供一种彩膜基板的制作方法，图2是本发明提供的彩膜基板的制作方法的流程图，图3至图20是所述彩膜基板制作过程示意图，请一并参阅图2至图20，所述彩膜基板包括多种不同颜色的子像素区，所述制作方法包括：
S1、在衬底基板10的第一表面上形成掩膜图形，所述掩膜图形包括镂空部25和不透光部，镂空部25的位置与待形成黑矩阵的位置相对应，所述不透光部包括与所述彩膜基板的第一颜色子像素区p1对应的第一不透光子部21，第一不透光子部21的厚度小于所述不透光部的其他部分的厚度，如图5所示。
S2、在衬底基板10的与第一表面相对的第二表面形成黑矩阵材料层30，如图6所示。
S3、从衬底基板10的形成有掩膜图形的一侧对黑矩阵材料层30进行曝光(如图7所示)，本发明附图中的箭头均表示曝光的光线，然后对曝光后的黑矩阵材料层30显影，以形成黑矩阵31(如图8所示)。
S4、对掩膜图形的不透光部进行第一次灰化，以将第一不透光子部21去除，所述不透光部的其他部分保留一部分，如图9所示。
S5、在衬底基板10的第二表面形成第一颜色的色阻材料层41，如图10所示。
S6、从衬底基板10的形成有掩膜图形的一侧对所述第一颜色的色阻材料层41进行曝光(如图11所示)并显影，以形成第一颜色的色阻块41a(如图12所示)。
因此，在形成黑矩阵31时，可以利用所述掩膜图形进行曝光；在形成第一颜色的色阻块41a时，可以利用灰化后的掩膜图形进行曝光，不需要再额外引入新的掩膜板。在现有技术中，为了形成黑矩阵31和第一颜色的色阻块41a，需要分别使用两张掩膜板进行曝光。而本发明中，利用构图工艺形成掩膜图形时，可以使用一次掩膜板对掩膜材料层进行曝光，形成黑矩阵31和第一颜色的色阻块41a时，不再需要掩膜板，因而至少节省了一张掩膜板的使用，从而降低了制作成本。
本发明中的黑矩阵材料层30和第一颜色的色阻材料层41为负性有机膜层，即未受到光照的部分能够溶于显影液。对黑矩阵层31进行曝光时，所述掩膜图形的不透光部会对光线进行遮挡，使得黑矩阵材料层30对应于不透光部的部分溶于显影液而被去除。由于步骤S4的第一次灰化后，第一不透光子部21被去除，不透光部的其余部分(对应于其他颜色子像素区的部分)保留一定厚度，因此，曝光时，黑矩阵31和不透光部的剩余部分对光线进行遮挡，使得第一颜色的色阻材料层41对应于第一颜色子像素区p1的部分保留、其他部分被去除，从而形成第一颜色的色阻块41a。
本发明中第一颜色子像素区p1以及下文中所述的第二颜色子像素区p2、第三颜色子像素区p3均表示一个区域。
本发明对上述步骤S1至步骤S5的先后顺序不作限定，例如，步骤S1可以在步骤S2之前或之后进行，步骤S4可以在步骤S5之前或之后进行。
具体地，如图4至图8所示，所述彩膜基板包括三种颜色的子像素区(第一颜色子像素区p1、第二颜色子像素区p2、第三颜色子像素区p3)以及位于所有子像素区和黑矩阵周围的外围区(图中未示出)，三种颜色的子像素区可以包括红、绿、蓝三种颜色的子像素区，即，衬底基板上需要形成红、绿、蓝三种颜色的色阻块。所述不透光部中还包括对应于第二颜色子像素区的第二不透光子部22、对应于第三颜色子像素区p3的第三不透光子部23以及对应于所述外围区的外围不透光子部24，第三不透光子部23和外围不透光子部24的厚度均大于第二不透光子部22的厚度。进一步地，如图2所示，在步骤S6之后还包括：
S7、对第一次灰化后剩余的不透光部进行第二次灰化，以将第二不透光子部22去除，第三不透光子部23和外围不透光子部24保留一部分，如图13所示；
S8、在衬底基板10的形成有黑矩阵30的一侧形成第二颜色的色阻材料层42，如图14所示；
S9、从衬底基板10的形成有掩膜图形的一侧对第二颜色的色阻材料层42进行曝光(如图15所示)并显影，以形成第二颜色的色阻块42a，第二颜色的色阻块42a的结构如图16所示。
本发明中第二颜色的色阻材料层同样为负性有机膜层，即未受到光照的部分能够溶于显影液。对第二颜色的色阻材料层42曝光时，黑矩阵、第一颜色的色阻块以及第三颜色子像素区处的不透光部会对光线进行遮挡，从而使得这些区域的第二颜色的色阻材料层溶于显影液而被去除，第二颜色子像素区的第二颜色的色阻材料层保留，形成第二颜色的色阻块。在形成第二颜色的色阻块的过程中，黑矩阵以及第二次灰化后的掩膜图形起到掩膜作用，因此，也不需要额外使用掩膜板。
进一步地，在步骤S9之后还包括：
S10、对第二次灰化后剩余的不透光部进行第三次灰化，以将第三不透光子部23去除、外围不透光子部24保留一部分，如图17所示；
S11、在衬底基板10的形成有黑矩阵31的一侧形成第三颜色的色阻材料层43，如图18所示；
S12、从衬底基板10的形成有掩膜图形的一侧对第三颜色的色阻材料层43进行曝光(如图19所示)并显影，以形成如图20中第三颜色的色阻块43a。
和第一颜色的色阻材料层41、第二颜色的色阻材料层42相同地，第三颜色的色阻材料层43也是负性有机材料。对第三颜色的色阻材料层43曝光时，第一颜色的色阻块41a、第二颜色的色阻块42a以及黑矩阵30对光线进行遮挡，从而使得第三颜色的色阻材料层的位于第三颜色子像素区的部分被保留，以形成第三颜色的色阻块43a。在此过程中，第一颜色的色阻块41a、第二颜色的色阻块42a以及黑矩阵30起到掩膜作用，而不需要额外使用掩膜板。
为了防止显影过程中显影液接触到掩膜图形而影响掩膜图形，在步骤S6、步骤S9、步骤S12中进行显影时，采用喷淋的方式向彩膜基板的设置有黑矩阵的一侧喷淋显影液。
当第一颜色的色阻块41a、第二颜色的色阻块42a和第三颜色的色阻块43a形成完毕之后，再将掩膜图形所剩余的部分去除即可。
具体地，步骤S1具体包括：
S1a、形成掩膜材料层20a，如图3所示；
S1b、对掩膜材料层20a进行构图工艺，以将待形成黑矩阵的位置对应的掩膜材料去除，形成所述镂空部，其余部分保留形成所述不透光部，并且，在所述不透光部中，第二颜色子像素区对应的掩膜材料的厚度大于第一颜色子像素区对应的掩膜材料的厚度、并小于第三颜色子像素区对应的掩膜材料的厚度，所述第三颜色子像素区对应的掩膜材料的厚度小于所述外围区对应的掩膜材料的厚度。即，第一颜色子像素区对应的掩膜材料形成为所述第一不透光子部，第二颜色子像素区对应的掩膜材料形成为所述第二不透光子部，第三颜色子像素区对应的掩膜材料形成为所述第三不透光子部。
其中，所述掩膜材料层20a为不透明的光刻胶层，所述构图工艺包括利用掩膜板50对不透光的光刻胶层进行曝光(如图4所示)并对曝光后的光刻胶层进行显影。
所述光刻胶层可以为正性光刻胶，也可以为负性光刻胶，实际生产中，可以根据生产所使用的光刻胶类别来制作掩膜板，制作完成的掩膜板可以用于在同一批次的衬底基板上形成掩膜图形。
当掩膜材料层20a采用负性光刻胶时，对掩膜材料层20a进行构图工艺之前还包括：
提供透明基板51。
在透明基板51的对应于所述彩膜基板的黑矩阵的位置形成不透光膜53、在透明基板51的对应于所述彩膜基板的第一颜色子像素区的位置形成第一半透光膜52a、在透明基板51的对应于所述彩膜基板的第二颜色子像素区的位置形成第二半透光膜52b、在透明基板51的对应于所述彩膜基板的第三颜色子像素区的位置形成第三半透光膜52c，从而形成如图4中所示的掩膜板；其中，第二半透光膜52b的透光率小于第三半透光膜52c的透光率并大于第一半透光膜52a的透光率。
利用掩膜板50对负性光刻胶层进行曝光并显影后，黑矩阵对应的光刻胶被显影掉，第二颜色子像素区对应的光刻胶的厚度大于第一颜色子像素区对应的光刻胶厚度并小于第三颜色子像素区对应的光刻胶厚度。
当掩膜材料层为正性光刻胶时，对掩膜材料层20a进行构图工艺之前还包括：
提供透明基板。
在透明基板的对应于所述彩膜基板的外围区的位置形成不透光膜、在透明基板的对应于所述彩膜基板的第一颜色子像素区的位置形成第一半透光膜、在透明基板的对应于所述彩膜基板的第二颜色子像素区的位置形成第二半透光膜、在透明基板的对应于所述彩膜基板的第三颜色子像素区的位置形成第三半透光膜，以形成第二种结构的掩膜板；其中，所述第二半透光膜的透光率大于第三半透光膜的透光率并小于所述第一半透光膜的透光率。
利用这种掩膜板对正性光刻胶层进行曝光并显影后，同样使得黑矩阵对应的正性光刻胶被显影掉，第二颜色子像素区对应的正性光刻胶的厚度大于第一颜色子像素区对应的正性光刻胶厚度并小于第三颜色子像素区对应的正性光刻胶厚度。
其中，在上述两种结构的掩膜板中，不透光膜53的可以利用金属材料制成，具体地，在本发明，不透光膜53的材料为铬。第一不透光膜52a、第二不透光膜52b和第三不透光膜52c可以根据实际生产情况制作，以达到所需的透光率。例如，在图4中的掩膜板中，第一不透光膜52a的透光率可以为25％，第二不透光膜52b的透光率可以为50％，第三不透光膜52c的透光率可以为75％。
本发明中所提供的制作方法还可以用于制作四种颜色子像素区的彩膜基板，这种情况下，掩膜图形同样包括镂空部和不透光部，和制作三种颜色子像素区的彩膜基板所不同的是，不透光部分为四个部分，对应于第一颜色子像素区的部分、对应于第二颜色子像素区的部分、对应于第三颜色子像素区的部分和对应于第四颜色子像素区的部分，并且，这四个部分的厚度依次增大。形成前三种颜色的色阻块时，方法与上述方法相同，在形成三种颜色的色阻块后，进行第四次灰化，去除不透光部对应于第四颜色子像素区的部分，然后对第四颜色的色阻材料层进行曝光显影即可。依次类推，彩膜基板的子像素区的颜色数为其他数量时，也可以利用本发明提供的制作方法。
可以看出，本发明在制作彩膜基板时，可以只利用一张掩膜板对不透光的光刻胶层曝光并显影，以形成掩膜图形，所述掩膜图形可以作为掩膜来对黑矩阵材料层曝光形成黑矩阵，在后续每形成一种颜色的色阻块时，就可以对掩膜图形进行一次灰化，并利用掩膜图形的剩余部分和黑矩阵共同作为掩膜对色阻材料层进行曝光。因此，本发明所提供的彩膜基板的制作方法中，只需要利用一张掩膜板即可。另外，在形成色阻块时，黑矩阵也起到掩膜作用，因此，形成的色阻块与黑矩阵的位置更加匹配。
作为本发明的另一方面，提供一种彩膜基板，如图20所示，所述彩膜基板包括多个子像素区，每个子像素区均设置有相应颜色的色阻块(如图中所示的41a、42a、43a)，所述彩膜基板还包括设置在每相邻两个色阻块之间的黑矩阵31，相邻两个色阻块之间的黑矩阵31与该两个色阻块31接触、且与该两个色阻块31均无交叠。
在图1所示的现有技术的彩膜基板中，黑矩阵2与色阻块3之间形成交叠，使得在子像素区面积一定的情况下，色阻块设置的较大，造成材料浪费。而本发明中，色阻块31与黑矩阵接触且无交叠，二者的匹配度更高，从而在保证不漏光的情况下，减少了色阻块材料的使用。
作为本发明的再一方面，提供一种显示装置，包括阵列基板和与所述阵列基板对盒设置的彩膜基板，所述彩膜基板为本发明提供的上述彩膜基板。
由于制作彩膜基板时掩膜板的使用数量较少，使得彩膜基板的制作成本降低，因此，所述显示装置的制作成本也相应降低，并且，由于制作色阻块时，黑矩阵起到挡光作用，因此形成的色阻块与黑矩阵接触且无交叠，提高二者之间的匹配度，从而在保证显示装置的显示效果的情况下减少色阻块材料的使用。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (12)
1.一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板包括多种不同颜色的子像素区，其特征在于，所述制作方法包括：
在衬底基板的第一表面上形成掩膜图形，所述掩膜图形包括镂空部和不透光部，所述镂空部的位置与待形成黑矩阵的位置相对应，所述不透光部包括与所述彩膜基板的第一颜色子像素区对应的第一不透光子部，所述第一不透光子部的厚度小于所述不透光部的其他部分的厚度；
在所述衬底基板的与第一表面相对的第二表面形成黑矩阵材料层；
从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述黑矩阵材料层进行曝光并显影，以形成黑矩阵；
对所述不透光部进行第一次灰化，以将所述第一不透光子部去除，所述不透光部的其他部分保留一部分；
在所述衬底基板的第二表面形成第一颜色的色阻材料层；
从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第一颜色的色阻材料层进行曝光并显影，以形成第一颜色的色阻块。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板包括三种颜色的子像素区以及位于所有子像素区和黑矩阵周围的外围区，所述不透光部还包括对应于第二颜色子像素区的第二不透光子部、对应于第三颜色子像素区的第三不透光子部以及对应于外围区的外围不透光子部，所述第三不透光子部和所述外围不透光子部的厚度均大于所述第二不透光子部的厚度；
从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第一颜色的色阻材料层进行曝光并显影，之后还包括：
对剩余的不透光部进行第二次灰化，以将所述第二不透光子部去除，所述第三不透光子部和所述外围不透光子部均保留一部分；
在所述衬底基板的形成有黑矩阵的一侧形成第二颜色的色阻材料层；
从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第二颜色的色阻材料层进行曝光并显影，以形成第二颜色的色阻块。
3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述第三不透光子部的厚度小于所述外围不透光子部的厚度，从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对第二颜色的色阻材料层进行曝光并显影，之后还包括；
对剩余的不透光部进行第三次灰化，以将所述第三不透光子部去除，所述外围不透光子部保留一部分；
在所述衬底基板的形成有黑矩阵的一侧形成第三颜色的色阻材料层；
从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第三颜色的色阻材料层进行曝光并显影，以形成第三颜色的色阻块。
4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第三颜色的色阻材料层进行曝光并显影，之后还包括：
将所述掩膜图形剩余的部分去除。
5.根据权利要求1至4中任意一项所述的制作方法，其特征在于，进行所述显影时，通过喷淋的方式向所述衬底基板的形成有黑矩阵的一侧喷淋显影液。
6.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板的第一表面上形成掩膜图形，具体包括：
形成掩膜材料层；
对所述掩膜材料层进行构图工艺，以将待形成黑矩阵的位置对应的掩膜材料去除，形成所述镂空部，其余部分保留形成所述不透光部，并且，在所述不透光部中，第二颜色子像素区对应的掩膜材料的厚度大于第一颜色子像素区对应的光刻胶厚度、并小于第三颜色子像素区对应的光刻胶厚度，所述第三颜色子像素区对应的掩膜材料的厚度小于所述外围区对应的掩膜材料的厚度。
7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述掩膜材料层为不透光的光刻胶层，所述构图工艺包括利用掩膜板对所述不透光的光刻胶层进行曝光并显影。
8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述掩膜材料层为不透光的负性光刻胶层，对所述掩膜材料层进行构图工艺之前还包括：
提供透明基板；
在所述透明基板的对应于所述彩膜基板的黑矩阵的位置形成不透光膜、在对应于所述彩膜基板的第一颜色子像素区的位置形成第一半透光膜、在对应于所述彩膜基板的第二颜色子像素区的位置形成第二半透光膜、在对应于所述彩膜基板的第三颜色子像素区的位置形成第三半透光膜，以形成所述掩膜板；其中，所述第二半透光膜的透光率小于第三半透光膜的透光率并大于所述第一半透光膜的透光率。
9.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述掩膜材料层为不透光的正性光刻胶层，对所述掩膜材料层进行构图工艺之前还包括：
提供透明基板；
在所述透明基板的对应于所述彩膜基板的外围区的位置形成不透光膜、在对应于所述彩膜基板的第一颜色子像素区的位置形成第一半透光膜、在对应于所述彩膜基板的第二颜色子像素区的位置形成第二半透光膜、在对应于所述彩膜基板的第三颜色子像素区的位置形成第三半透光膜，以形成所述掩膜板；其中，所述第二半透光膜的透光率大于第三半透光膜的透光率并小于所述第一半透光膜的透光率。
10.根据权利要求8或9所述的制作方法，其特征在于，形成所述不透光膜的材料为铬。
11.一种采用权利要求1至10任一所述的彩膜基板的制作方法制作的彩膜基板，包括多个子像素区，每个子像素区均设置有相应颜色的色阻块，其特征在于，所述彩膜基板还包括设置在每相邻两个所述色阻块之间的黑矩阵，相邻两个所述色阻块之间的黑矩阵与该两个色阻块接触、且与该两个色阻块均无交叠。
12.一种显示装置，包括阵列基板和与所述阵列基板对盒设置的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板为权利要求11所述的彩膜基板。
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