CN105182580B - 液晶显示面板及其制造方法、液晶显示面板母板 - Google Patents

液晶显示面板及其制造方法、液晶显示面板母板 Download PDF

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Abstract

一种液晶显示面板及其制造方法、液晶显示面板母板。根据本发明的实施例，一方面通过对液晶屏阵列基板的掩模版进行设计，在阵列基板母板的相同曝光区域中的不同单元显示面板区域形成标识图案，将同批次曝光的单元显示屏区分开来；另一方面，通过彩膜基板母板的单元显示面板区域内彩色滤光片的排列方式，将不同批次曝光的单元显示面板区分开来，从而实现同一张母板玻璃内所有单元显示面板的标记。根据本发明的实施例能够解决目前面板标识的标记工艺影响产线产能的问题，又能够解决面板标识占用显示屏周边较大空间的问题。

Description

液晶显示面板及其制造方法、液晶显示面板母板
技术领域
本发明的实施例涉及一种液晶显示面板及其制造方法、液晶显示面板母板。
背景技术
在显示技术领域中，液晶显示面板以其体积小、功耗低、无辐射、分辨率高等优点，备广泛地应用于现代数字信息化设备中。
对于面板厂商，同一张母板玻璃切出的单元显示屏越多，产线盈利性就越强。为了区分每一块单元显示屏，在制作过程中，会在每个单元显示屏上制作面板标识(Panel ID)。由于每块单元屏的面板标识都不一样，产线上用激光笔对每快单元屏依次标号。当一块母板玻璃中的单元屏数量少的时候，面板标识的标记工作比较简单，占用产线的产能较少；但当一块母板玻璃上的单元屏数量较多的时候，面板标识的标记工作就会比较繁琐，占用较多的产线产能。尤其是目前各面板世代线做的单元屏的尺寸越来越小，一块母板玻璃上基板上有几百个单元屏，面板标识的标记工作就变得比较棘手。有的时候为了产线产能的考虑，就不再进行标记面板标识，这样对后段制作工序中出现的问题无法追溯到前段工序，大大降低了产线效率。另一方面，目前小尺寸的显示屏周边区域越来越小，面板标识本身会占用一定的空间，需要探索小尺寸显示屏的面板标识的标记方法。
发明内容
根据本发明的一些实施例提供一种制备液晶显示面板的方法，包括：
准备第一衬底基板，所述第一衬底基板被划分为多个第一区域，每个所述第一区域包括用于制备单元显示面板的阵列基板的多个第一子区域，每个第一子区域包括显示区域和位于显示区域周边的外围区域，通过使用掩模板的图案化工艺在所述第一衬底基板的每个第一区域中形成薄膜图案层以形成阵列基板母板，所述薄膜图案层包括位于所述第一子区域的外围区域中的标识图案，所述标识图案被构造为区分每个第一区域中的多个第一子区域；
准备第二衬底基板，所述第二衬底基板被划分为与所述第一衬底基板的多个第一区域对应的多个第二区域，每个第二区域包括与所述多个第一子区域对应的多个第二子区域，每个第二子区域包括与所述第一子区域的显示区域对应的显示区域，在每个所述第二区域中形成不同颜色的彩色滤光片阵列以形成彩膜基板母板，使得不同的第二区域中所述第二子区域的显示区域的所述彩色滤光片的排列方式不同，且同一第二区域的多个第二子区域的显示区域中的彩色滤光片排列方式相同；以及
将所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板对盒，使得所述阵列基板母板上的第一子区域的显示区域与所述彩膜基板母板上的第二子区域的显示区域在垂直于所述第一衬底基板或所述第二衬底基板的方向上对齐。
在一些示例中，所述第一区域和所述第二区域为一次曝光工艺所能覆盖的曝光区域。
在一些示例中，通过使用掩模板的图案化工艺在所述第一衬底基板的每个第一区域中形成所述薄膜图案层包括：使用不同的掩模板进行图案化，依次形成多个薄膜图案层，所述标识图案包括在所述多个薄膜图案层之一中。
在一些示例中，所述多个薄膜图案层包括栅电极图案层和源漏电极图案层，所述标识图案包括在所述栅电极图案层和所述源漏电极图案层之一中。
在一些示例中，所述不同颜色的彩色滤光片阵列中包括红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片，在所述阵列的每一行中所述红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片的排列顺序在不同的第二区域不同。
在一些示例中，在制备不同颜色的彩色滤光片的步骤中，不同颜色的彩色滤光片通过使用相同掩模板的图案化工艺形成，至少形成一种颜色的彩色滤光片的掩模板在相应的第二区域中的相对位置在不同的第二区域是不同的，以使得在所述彩色滤光片阵列的每一行中所述红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片的排列顺序在不同的第二区域不同。
在一些示例中，将所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板对盒包括将封框胶设置在所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板之间，并且所述封框胶围绕所述第一子区域和所述第二子区域。
在一些示例中，制备液晶显示面板的方法还包括将对盒后的所述阵列基板母板的第一子区域和所述彩膜基板母板的第二子区域分割，以形成单元显示面板。
在一些示例中，制备液晶显示面板的方法还包括在所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板之间施加液晶材料。
在一些示例中，所述标识图案设置在面积为1平方毫米的矩形区域内。
根据本发明的一些实施例提供一种液晶显示面板母板，包括彼此对盒的阵列基板母板和彩膜基板母板以及位于阵列基板母板和彩膜基板母板之间的液晶材料，其中，
所述液晶显示面板母板包括多个第一区域，每个所述第一区域包括多个单元显示面板区域，所述单元显示面板区域包括显示区域和外围区域，
所述阵列基板母板包括设置在每个单元显示面板区域的外围区域中的标识图案，所述标识图案被构造为区分每个所述第一区域中的多个阵列基板单元区域，
所述彩膜基板母板包括不同颜色的彩色滤光片的阵列，位于不同所述第一区域中的彩色滤光片的排列方式不同，且位于同一所述第一区域的单元显示面板区域中的彩色滤光片排列方式相同。
在一些示例中，所述阵列基板母板包括多个薄膜图案层，所述标识图案设置在所述多个薄膜图案层之一中。
在一些示例中，所述多个薄膜图案层包括栅电极图案层和源漏电极图案层，所述标识图案包括在所述栅电极图案层和所述源漏电极图案层之一中。
在一些示例中，所述不同颜色的彩色滤光片阵列中包括红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片，在所述彩色滤光片阵列的每一行中所述红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片的排列顺序在不同的所述第一区域不同。
在一些示例中，封框胶设置在所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板之间，并且所述封框胶围绕所述单元显示面板区域的显示区域。
在一些示例中，所述液晶材料位于所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板之间由所述封框胶围绕的显示区域内。
在一些示例中，所述标识图案设置在面积为1平方毫米的矩形区域内。
根据本发明的一些实施例提供一种液晶显示面板，包括彼此对盒的阵列基板和彩膜基板以及设置在所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶材料，其中，
所述液晶显示面板包括显示区域和位于显示区域周边的外围区域，所述阵列基板包括设置在所述外围区域中的标识图案。
在一些示例中，所述阵列基板包括多个薄膜图案层，所述标识图案设置在所述多个薄膜图案层中的一层中。
在一些示例中，所述多个薄膜图案层包括栅电极图案层和源漏电极图案层，所述标识图案包括在所述栅电极图案层和所述源漏电极图案层之一中。
在一些示例中，所述标识图案设置在面积为1平方毫米的矩形区域内。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制。
图1是用于制备阵列基板母板的衬底基板的示意图。
图2是对曝光区域的膜层进行图案化工艺中的曝光工艺的示意图。
图3是阵列基板母板上标识图案的示意图。
图4和图5是形成彩色滤光片的结构示意图。
图6至图11示意性地示出了不同曝光区域中对应于一个单元显示面板的彩色滤光片排列情况。
图12和13为被切割后的独立单元显示面板的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。
对于液晶显示面板，一般包括彼此面对的阵列基板和彩膜基板，在阵列基板和彩膜基板之间形成的液晶盒中设置有液晶材料。阵列基板和彩膜基板可以单独制作，例如，阵列基板和彩膜基板分别在第一衬底基板(例如，玻璃基板)上和第二衬底基板(例如玻璃基板)上制作。对于阵列基板，是指其上形成了阵列排布的薄膜晶体管和像素电极以及施加信号栅线、数据线等等的基板。对于彩膜基板，是指其上形成对应于阵列基板上的各个像素区域的不同颜色的彩色滤光片的基板，通过各个彩色滤光片，使得经过各个像素的光能够呈现不同的颜色，从而能够进行彩色显示。例如，彩膜基板可以包括形成在基板上的黑矩阵(BM)、彩色滤光片、保护层等。
对于阵列基板和彩膜基板的制备，是在大面积的母板玻璃(衬底基板)上制备各种薄膜图案，然后再切割成单元显示面板。随着液晶面板制备技术的逐步发展，用于制造液晶面板的母板玻璃越来越大，因此，可以在一块液晶面板母板中切割出多个单元显示面板。例如，5代线最高阶段的基板尺寸是1200mm×1300mm，而8代线的基板尺寸则可达2160mm×2460mm。在这样大的基板上进行各种薄膜图案的制备时，进行图案化的曝光工艺不可能在整个基板上进行一次曝光，而是在同一基板上根据曝光工艺的条件分几个区域分批次曝光。在这里，在基板上进行一次曝光所能覆盖的区域称为曝光区域。此外，在每个曝光区域中，也可以包括对应于多个要形成的单元显示面板的区域，在阵列基板母板中，可以称为阵列基板单元区域，在彩膜基板母板中则可称为彩膜基板单元区域。每个单元显示面板区域还可以包括显示区域以及位于显示区域周边的外围区域，那么阵列基板母板中的阵列基板单元区域和彩膜基板母板中的彩膜基板单元区域也包含相应的区域。因此，在制造的液晶面板母板中切割出的多个单元显示面板，需要对其进行标记，以区分是在哪次曝光工艺中(即，在哪个曝光区域中)的哪个单元显示面板。
根据本公开的实施例涉及对单元显示面板进行标记的问题，一方面通过对液晶屏阵列基板的掩模版进行设计，将同批次曝光的单元显示屏区分开来；另一方面，通过单元屏内彩膜侧色阻的设置，在保证彩膜色阻功能的前提下，将不同批次曝光的显示屏区分开来，从而实现同一张母板玻璃内所有单元显示屏的面板标识的标记。根据本发明的实施例能够解决目前面板标识的标记工艺影响产线产能的问题，又能够解决面板标识占用显示屏周边较大空间的问题。根据本发明的实施例通过简单的工艺设计和变更，能够有效地提高产线产能，同时优化显示屏周边区域的设计空间。
下面针对本发明的一个实施例进行更详细地说明。根据本发明的一些实施例，制造液晶显示面板母板的方法包括以下步骤：
准备第一衬底基板，所述第一衬底基板包括多个第一曝光区域，每个所述第一曝光区域包括多个阵列基板单元区域，每个阵列基板单元区域包括显示区域和位于显示区域周边的外围区域，通过使用掩模板的图案化工艺在所述第一衬底基板的每个第一曝光区域中形成薄膜图案层以形成阵列基板母板，所述薄膜图案层包括位于所述阵列基板单元区域的外围区域中的标识图案，所述标识图案被构造为区分每个曝光区域中的多个阵列基板单元区域；
准备第二衬底基板，所述第二衬底基板包括与所述第一衬底基板的多个第一曝光区域对应的多个第二曝光区域，每个第二曝光区域包括与所述多个阵列基板单元区域对应的多个彩膜基板单元区域，每个彩膜基板单元区域包括与所述阵列基板单元区域的显示区域对应的显示区域，在每个所述第二曝光区域中形成不同颜色的彩色滤光片阵列以形成彩膜基板母板，使得不同的第二曝光区域中的对应于所述彩膜基板单元区域的显示区域的所述彩色滤光片的排列方式不同，且同一第二曝光区域的多个彩膜基板单元区域的显示区域中的彩色滤光片排列方式相同；以及
将所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板对盒，使得所述阵列基板母板上的阵列基板单元区域的显示区域与所述彩膜基板母板上的彩膜基板单元区域的显示区域在垂直于所述第一衬底基板或所述第二衬底基板的方向上对齐。
需要说明的是，上述制造阵列基板母板的步骤和制造彩膜基板母板的步骤没有特别限制，可以在制造彩膜基板母板的步骤之前制造阵列基板母板，也可以在制造阵列基板母板的步骤前制造彩膜基板母板，或者可以同时制造阵列基板母板和彩膜基板母板。
下面结合一些实施例对上述方法的每个步骤进行更详细地介绍。
在上面所述的制造阵列基板母板的过程中，是在第一衬底基板上的每个曝光区域中形成薄膜图案。该第一衬底基板可以为透明基板，例如，可以为透明玻璃基板。该薄膜图案层可以有多层，而标识图案可以位于该多个薄膜图案层中的一层中。在制造多个薄膜图案层的过程中，可以使用多个不同的掩模板来制造每个薄膜图案层。因此，以上所述的掩模板可以包括用于制造多个薄膜图案层的多个不同的掩模板。然而，由于在不同的曝光区域中的薄膜图案可以相同，因此，这些多个不同的掩模板可以依次用于多个曝光区域的图案化工艺中，也就是说，不同的曝光区域可以使用同一套掩模板。
首先介绍阵列基板的制造过程。在第一衬底基板上，形成各个电路图案以及薄膜晶体管。图1示意性地示出了第一衬底基板，也就是用于制备阵列基板母板的衬底基板的示意图。如图1所示，第一衬底基板100可以划分为六个曝光区域101，如图中的六个区域A1、A2、A3、A4、A5和A6所示。曝光区域101的划分可以是根据可以进行一次曝光的最大区域划分的。另外，在每个曝光区域中，还可以划分为用于制作单元显示面板所需要的阵列基板的区域，为了方便，将其称为阵列基板单元区域102。如图1所示，每个曝光区域101包括九个阵列基板单元区域102。虽然上面以每块第一衬底基板包括六个曝光区域，每个曝光区域包括九个阵列基板单元区域为例进行了描述，然而，根据本发明的实施例对这些数量没有特别限制，可以根据母板基板的大小、曝光工艺的条件、以及要最终制备的单元显示面板的大小等因素而任意调节。
在阵列基板的形成过程中，需要在衬底基板上有规则地制作TFT器件、像素等图案的过程。例如，阵列工艺包含洗净技术、化学气相沉积(CVD)成膜技术、溅射成膜技术、光刻胶涂覆、显影与剥离技术、曝光技术、干刻技术等，最终在玻璃基板上形成4-5层薄膜的图案。每层薄膜的图案形成过程可以包括：清洗、成膜(例如金属可以利用溅射的方式成膜，非金属可以利用CVD的方式成膜)、在成膜后的基板上涂覆光刻胶、并用掩模板进行曝光，把需要的图案从掩模板转印到光刻胶上，经过显影形成光刻胶的图案，接着利用光刻胶图案为掩模蚀刻要被图案化的膜层，最后去掉剩余的光刻胶。以五层薄膜图案的工艺为例，根据成膜的先后顺序，可以依次为栅线工艺、有源层工艺、数据工艺、接触孔工艺和像素电极工艺。在栅线工艺中，形成TFT的栅电极和栅线，在有源层工艺中形成用于TFT的有源层的半导体图案，在数据工艺中，形成TFT的源漏电极以及数据线，在接触孔工艺中形成像素电极与TFT的漏电极电连接的接触孔等，在像素电极工艺中，形成像素电极的图案。也就是说，阵列基板的制作过程可以包括多层电路图案或其他图案的制作，例如包括：薄膜晶体管的栅电极、栅线、有源层的图形、薄膜晶体管的源漏电极、数据线、像素电极等等。根据本发明的实施例对于阵列基板的各种层的顺序及其具体结构没有特别的限制。对于每层薄膜图案的制作，可以包括膜层的制备、光致抗蚀剂的涂覆、曝光、显影、蚀刻以及光致抗蚀剂的去除等工艺，这些工艺可以采用任何合适的工艺，本发明的实施例对此没有特别的限定。
上述工艺仅仅是可以本发明实施例可以采用的一些示例性工艺，根据本发明的实施例并不限于上述具体的制作工艺，而是可以选取任何合适的制造工艺。例如，在平面电场模式的液晶显示面板中，阵列基板的制造工艺中还可以包括公共电极的制造工艺。在制造栅线的同时，还可以包括制造公共电极线的工艺等。另外，还可以包括形成取向层的工艺等。
图2示出了对曝光区域的膜层进行图案化工艺中的曝光工艺的示意图。如图2(a)所示，在第一衬底基板100上的所有曝光区域A1-A6(图2中的截面图中仅仅画出了A1-A3)上形成膜层103，然后在膜层103上形成光致抗蚀剂层104。先利用掩模30对第一曝光区域A1进行曝光，然后利用掩模30对第一曝光区A2进行曝光，然后对第一曝光区A2、A3、A4、A5和A6依次进行曝光，如图2(b)所示。在曝光之后，对光致抗蚀剂进行显影工艺，形成光致抗蚀剂图案，如图2(c)所示。在形成光致抗蚀剂图案之后，可以利用光致抗蚀剂图案作为蚀刻掩模对膜层103进行蚀刻，以形成期望的图案。另外，对于不同的膜层图案，可以使用不同的掩模。需要说明的是，由于阵列基板上需要多个膜层图案，因此上面的流程可能需要重复多次，这里就不再赘述。
在上面形成多层薄膜图案中，可以任选一层作为其中形成标识图案的薄膜图案。例如，上面的薄膜图案可以包括栅电极图案层、源漏电极图案层等。标识图案可以形成在栅电极图案层和源漏电极图案层的任一层中。除了标识图案外，栅电极图案层可以包括薄膜晶体管的栅极、栅线等，源漏电极图案层可以包括薄膜晶体管的源漏电极、数据线等。另外，标识图案可以构造为任意能够区分同一曝光区域中的不同阵列基板单元区域的字符或其他任意形状。例如，在每个曝光区域中的九个阵列基板单元区域中，标识图案可以分别为S1、S2、S3、S4、S5、S6、S7、S8和S9。如图3所示，在同一个曝光区域内，不同的阵列基板单元区域被标示为S1、S2、S3、S4、S5、S6、S7、S8和S9。虽然图3中示意性地示出S1-S9位于阵列基板单元区域内，但标识图案只需占据很小的面积，例如可以设置在显示面板的外围区域，这在后面将进行描述。通过上述标识图案能够区分在同一曝光区域内的不同阵列基板单元区域。然而，可以知道，虽然上述标识图案可以将同一曝光区域中的不同阵列基板单元区域区分开，但对与不同曝光区域的阵列基板单元区域不能区分。例如，第一曝光区域A1中的阵列基板单元区域S1与第一曝光区域A2中的阵列基板单元区域S1是不能被区分开的。根据本发明的实施例，对于单元显示面板来说，除了通过上述标识图案来区分外，还通过彩膜基板上的彩色滤光片的排列方式来区分。下面，将对彩膜基板母板的制备进行描述。
在形成彩膜基板的母板的过程中，需要在彩膜基板上按照顺序形成一系列的彩色滤光片图案阵列。相邻的彩色滤光片图案之间可以由黑矩阵来间隔，以避免相邻子像素之间的串扰。
在制造彩膜基板的母板的过程中，对应于阵列基板上的每个曝光区域，也可以在第二衬底基板上划分为对应的多个曝光区域。通过在各个曝光区域进行图案化以形成各种颜色的彩色滤光片。
例如，一种示例性的形成彩色滤光片的方法可以参照以下的步骤：
步骤101(如图4所示)：在第二衬底基板200上形成黑矩阵201，所述黑矩阵201围成像素区域。例如，可以在基板上旋涂或刮涂一层由光刻胶制成的黑矩阵材料层，采用刻画有图形的掩膜板对基板进行曝光，然后，对曝光后的基板进行显影，得到黑矩阵的图形。例如，所述黑矩阵图形的厚度可以为1-5μm。对于黑矩阵的制备方法没有限制，例如，黑矩阵的制备也可以通过真空镀膜法完成。
步骤102(如图5所示)：在所述黑矩阵201之间形成所述像素树脂层以形成彩色滤光片203。由于彩色滤光片203可能包含各种颜色的像素树脂层例如红色像素树脂层、绿色像素树脂层、和蓝色像素树脂层，或者还可以包含透明的像素树脂层，因此每种颜色的像素树脂层通常需要分别形成。像素树脂层的厚度可以为1.0至1.3微米。首先，将能够与像素树脂材料相溶的溶剂分散添加到像素树脂材料中。在一些示例中，所述溶剂为低沸点溶剂，其在常压沸点低于70℃，例如，可以采用乙醇、乙醚、戊烷、丙酮或氯仿。接下来，在形成有黑矩阵的第一衬底基板上涂覆添加有溶剂的像素树脂材料。接下来，对涂覆有像素树脂材料的衬底基板进行热处理，使得像素树脂材料中分散的溶剂挥发。此热处理即为光刻工艺中的前烘过程。所述热处理温度可以为90-110℃，时间可以为3-5min。接下来，采用刻画有图形的掩膜板对热处理后的基板进行曝光，并经显影和热处理后，形成像素树脂层的图形。对于各种颜色的像素树脂层，重复以上步骤，即可得到完整的像素树脂层。制备所述像素树脂层的方法不限于以上所示例的方法，还可以使用染色法、印刷法、电沉积法及喷墨法制备。
此外，制备彩膜基板母板的过程还可以包括形成平坦层的步骤。可以采用涂布、烘烤等工艺来形成平坦层。所述平坦层可以是有机材料制成的。一般而言，平坦层是透明的，其作用是保护像素树脂层不受磨损，提高其耐热性，并使表面平坦化。另外，制备彩膜基板母板的过程还可以包括形成取向层的步骤。
如果在各个曝光区域中通过使用掩模的方式进行图案化来形成各种颜色的彩色滤光片，则每个曝光区域中用于形成不同颜色的彩色滤光片的掩模可以相同，只是在一定方向上进行位置平移即可。另外，对于不同曝光区域，也可以使用相同的掩模，在制备不同颜色的彩色滤光片的步骤中，至少形成一种颜色的彩色滤光片的掩模板在相应的曝光区域中的相对位置在不同的第二曝光区域是不同的。例如，在一个曝光区域，形成一种颜色的彩色滤光片的掩模板距该曝光区域的边缘第一距离；在另一个曝光区域中，形成这种颜色的彩色滤光片的掩模板距该另一个曝光区域的相应边缘第二距离。这样，在所述阵列的每一行中所述红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片的排列顺序在不同的第二曝光区域不同。彩膜基板母板形成过程中所划分的曝光区域以及使用掩模依次进行曝光的方式可以参照图1和2关于阵列基板的描述，这里不再赘述。
需要说明的是，第二衬底基板上的曝光区域可以和第一衬底基板上的多个曝光区域一一对应。另外，彩膜基板母板上的每个曝光区域中也可以包括多个对应于阵列基板单元区域的彩膜基板单元区域。第二衬底基板上的彩膜基板单元区域中的显示区域与第一衬底基板中阵列基板单元区域中的显示区域一一对应。这里“对应”是指在将阵列基板母板和彩膜基板母板对盒后，可以使得阵列基板母板上的阵列基板单元区域的显示区域与对应的彩膜基板母板上的彩膜基板单元区域的显示区域在垂直于第一衬底基板或第二衬底基板的方向上对齐，从而使得阵列基板单元区域和彩膜基板单元区域能够被切割为单元显示面板。
下面以红色、绿色和蓝色彩色滤光片为例，结合附图对每个曝光区域中的彩膜排列方式的不同进行描述。如图6-11所示，其中示意性地示出了不同曝光区域中对应于一个单元显示面板的彩色滤光片排列情况。在这些附图中，彩色滤光片203分别用“R”、“G”和“B”表示红色、绿色和蓝色的彩色滤光片；图中的粗实线框表示彩膜基板单元区域中的显示区域204。在图6中，在显示区域204的每个行中，三色彩色滤光片从左至右以R、G和B为单元重复设置。在图7中，在显示区域204的每个行中，三色彩色滤光片从左至右以R、B和G为单元重复设置。在图8中，在显示区域204的每个行中，三色彩色滤光片从左至右以B、R和G为单元重复设置。在图9中，在显示区域204的每个行中，三色彩色滤光片从左至右以B、G和R为单元重复设置。在图10中，在显示区域204的每个行中，三色彩色滤光片从左至右以G、R和B为单元重复设置。在图11中，在显示区域204的每个行中，三色彩色滤光片从左至右以G、B和R为单元重复设置。从图6-11来看，三种彩色滤光片的排列顺序各不相同，因此，通过这种显示区域中彩色滤光片排列顺序不同的方式，可以区分不同的曝光区域中产生的彩膜基板。上述图6-11的实施例中以R、G和B三种颜色的彩色滤光片为例进行了描述，然而根据本发明的实施例不限于上述三种颜色以及图中所示的排列顺序，只要在不同曝光区域中对应显示区域的彩色滤光片排列顺序相同即可。此外，可以设置为在同一曝光区域内，对应于显示区域的彩色滤光片排列顺序均相同。
最后，将制造完成的阵列基板母板和彩膜基板母板对盒，使得所述阵列基板母板上的阵列基板单元区域的显示区域与所述彩膜基板母板上的彩膜基板单元区域的显示区域在垂直于所述第一衬底基板或所述第二衬底基板的方向上对齐。例如，阵列基板母板中形成薄膜图案层的一侧与彩膜基板母板的形成彩色滤光片的一侧彼此面对。
例如，将封框胶设置在所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板之间，并且所述封框胶围绕所述阵列基板单元区域和所述彩膜基板单元区域。此外，还可以在所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板之间的显示区域施加液晶材料。本发明的实施例对施加液晶的方式没有特别限制，可以是在对盒之前液晶施加到阵列基板母板或彩膜基板母板的任何之一上，也可以是在对盒之后注入到阵列基板母板和彩膜基板母板之间。例如，液晶材料被施加到由封框胶包围的显示区域中。
在完成对盒的液晶显示面板母板中，阵列基板母板中的对应于单元显示面板的区域(阵列基板单元区域)与彩膜基板中对应于单元显示面板的区域(彩膜基板单元区域)彼此面对。另外，在单元显示面板的显示区域中，不同的曝光区域的彩膜基板母板形成了具有不同的彩色滤光片的排列方式，而阵列基板母板包括设置在每个单元显示面板区域的外围区域中的标识图案，该标识图案被构造为区分每个曝光区域中的多个阵列基板单元区域。因此，在该液晶显示面板母板中，不同的曝光区域通过每个单元显示面板中的显示区域的彩色滤光片的排列方式区分，而在同一曝光区域中，通过阵列基板上形成的标识来区分。这样就能够区分同一母板上生产的每个单元显示面板。
根据本发明的一些实施例还提供一种液晶显示面板母板，包括彼此对盒的阵列基板母板和彩膜基板母板以及位于阵列基板母板和彩膜基板母板之间的液晶材料，其中，所述液晶显示面板母板包括多个第一区域，每个所述第一区域包括多个单元显示面板区域，所述单元显示面板区域包括显示区域和外围区域，所述阵列基板母板包括设置在每个单元显示面板区域的外围区域中的标识图案，所述标识图案被构造为区分每个所述第一区域中的多个阵列基板单元区域，所述彩膜基板母板包括不同颜色的彩色滤光片的阵列，位于不同所述第一区域中的彩色滤光片的排列方式不同，且位于同一所述第一区域的单元显示面板区域中的彩色滤光片排列方式相同。
例如，所述阵列基板母板包括多个薄膜图案层，所述标识图案设置在所述多个薄膜图案层之一中。
例如，所述多个薄膜图案层包括栅电极图案层和源漏电极图案层，所述标识图案包括在所述栅电极图案层和所述源漏电极图案层之一中。
例如，所述不同颜色的彩色滤光片阵列中包括红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片，在所述彩色滤光片阵列的每一行中所述红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片的排列顺序在不同的所述第一区域不同。
例如，封框胶设置在所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板之间，并且所述封框胶围绕所述单元显示面板区域的显示区域。
例如，所述液晶材料位于所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板之间由所述封框胶围绕的显示区域内。
此外，对于液晶显示面板母板其他结构，可以参照根据本发明实施例的制备液晶显示面板母板的描述，这里就不再赘述。
另外，制作上述液晶显示母板之后，可以将各个单元显示面板进行分割，以形成独立的单元显示面板。制成的单元显示面板中在阵列基板上具有区分上述同一曝光区域内形成的不同单元显示面板的标识图案，并且彩膜基板上的不同颜色的彩色滤光片的排列顺序不同，因此，能够区分每个单元显示面板是出于哪个位置的单元显示面板。此外，关于切割后的单元显示面板(也就是液晶显示面板)的其他详细结构，也可以参照上述根据本发明实施例的制备液晶显示面板母板的描述，这里不再赘述。
图12和13为被切割后的独立单元显示面板的结构示意图。为了简洁起见，图12和13仅仅示意性地画出了液晶显示面板的部分部件。如图12和13所示，该单元显示面板包括彼此对盒的阵列基板301和彩膜基板302。阵列基板301和彩膜基板302之间可以设置有液晶材料307。该显示面板包括显示区域304和位于显示区域304周边的外围区域303。例如，对应于外围区域303的部分彩膜基板可以被切除，以露出外围区域303。标识图案306就是上面所述的阵列基板上的标识图案。标识图案306可以设置在阵列基板的外围区域303中。例如，标识图案306可以设置在1平方毫米的矩形区域内，例如1mm×1mm的矩形区域内。在常规的标识图案中，由于需要记录不同曝光区域以及不同曝光区域的不同单元显示面板的区域等各种信息，因此，所需的面积比较大。例如，常规的标识图案可能会占用1mm×10mm的面积。因此，根据本发明实施例可以大大缩小标识图案的占用面积，有利于实现更窄边框的显示装置。
以上所述仅是本发明的示范性实施方式，而非用于限制本发明的保护范围，本发明的保护范围由所附的权利要求确定。

Claims (17)

1.一种制备液晶显示面板的方法，包括：
准备第一衬底基板，所述第一衬底基板被划分为多个第一区域，每个所述第一区域包括用于制备单元显示面板的阵列基板的多个第一子区域，每个第一子区域包括显示区域和位于显示区域周边的外围区域，通过使用掩模板的图案化工艺在所述第一衬底基板的每个第一区域中形成薄膜图案层以形成阵列基板母板，所述薄膜图案层包括位于所述第一子区域的外围区域中的标识图案，所述标识图案被构造为区分每个第一区域中的多个第一子区域；
准备第二衬底基板，所述第二衬底基板被划分为与所述第一衬底基板的多个第一区域对应的多个第二区域，每个第二区域包括与所述多个第一子区域对应的多个第二子区域，每个第二子区域包括与所述第一子区域的显示区域对应的显示区域，在每个所述第二区域中形成不同颜色的彩色滤光片阵列以形成彩膜基板母板，使得不同的第二区域中所述第二子区域的显示区域的所述彩色滤光片的排列方式不同，且同一第二区域的多个第二子区域的显示区域中的彩色滤光片排列方式相同；以及
将所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板对盒，使得所述阵列基板母板上的第一子区域的显示区域与所述彩膜基板母板上的第二子区域的显示区域在垂直于所述第一衬底基板或所述第二衬底基板的方向上对齐。
2.根据权利要求1所述的制备液晶显示面板的方法，其中，所述第一区域和所述第二区域为一次曝光工艺所能覆盖的曝光区域。
3.根据权利要求1所述的制备液晶显示面板的方法，其中，通过使用掩模板的图案化工艺在所述第一衬底基板的每个第一区域中形成所述薄膜图案层包括：使用不同的掩模板进行图案化，依次形成多个薄膜图案层，所述标识图案包括在所述多个薄膜图案层之一中。
4.根据权利要求3所述的制备液晶显示面板的方法，其中，所述多个薄膜图案层包括栅电极图案层和源漏电极图案层，所述标识图案包括在所述栅电极图案层和所述源漏电极图案层之一中。
5.根据权利要求1所述的制备液晶显示面板的方法，其中，所述不同颜色的彩色滤光片阵列中包括红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片，在所述阵列的每一行中所述红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片的排列顺序在不同的第二区域不同。
6.根据权利要求5所述的制备液晶显示面板的方法，其中，在制备不同颜色的彩色滤光片的步骤中，不同颜色的彩色滤光片通过使用相同掩模板的图案化工艺形成，至少形成一种颜色的彩色滤光片的掩模板在相应的第二区域中的相对位置在不同的第二区域是不同的，以使得在所述彩色滤光片阵列的每一行中所述红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片的排列顺序在不同的第二区域不同。
7.根据权利要求1所述的制备液晶显示面板的方法，其中，将所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板对盒包括将封框胶设置在所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板之间，并且所述封框胶围绕所述第一子区域和所述第二子区域。
8.根据权利要求1所述的制备液晶显示面板的方法，还包括将对盒后的所述阵列基板母板的第一子区域和所述彩膜基板母板的第二子区域分割，以形成单元显示面板。
9.根据权利要求1所述的制备液晶显示面板的方法，还包括在所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板之间施加液晶材料。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的制备液晶显示面板的方法，其中，所述标识图案设置在面积为1平方毫米的矩形区域内。
11.一种液晶显示面板母板，包括彼此对盒的阵列基板母板和彩膜基板母板以及位于阵列基板母板和彩膜基板母板之间的液晶材料，其中，
所述液晶显示面板母板包括多个第一区域，每个所述第一区域包括多个单元显示面板区域，所述单元显示面板区域包括显示区域和外围区域，
所述阵列基板母板包括设置在每个单元显示面板区域的外围区域中的标识图案，所述标识图案被构造为区分每个所述第一区域中的多个阵列基板单元区域，
所述彩膜基板母板包括不同颜色的彩色滤光片的阵列，位于不同所述第一区域中的彩色滤光片的排列方式不同，且位于同一所述第一区域的单元显示面板区域中的彩色滤光片排列方式相同。
12.根据权利要求11所述的液晶显示面板母板，其中，所述阵列基板母板包括多个薄膜图案层，所述标识图案设置在所述多个薄膜图案层之一中。
13.根据权利要求12所述的液晶显示面板母板，其中，所述多个薄膜图案层包括栅电极图案层和源漏电极图案层，所述标识图案包括在所述栅电极图案层和所述源漏电极图案层之一中。
14.根据权利要求11所述的液晶显示面板母板，其中，所述不同颜色的彩色滤光片阵列中包括红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片，在所述彩色滤光片阵列的每一行中所述红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片的排列顺序在不同的所述第一区域不同。
15.根据权利要求11所述的液晶显示面板母板，其中，封框胶设置在所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板之间，并且所述封框胶围绕所述单元显示面板区域的显示区域。
16.根据权利要求15所述的液晶显示面板母板，其中，所述液晶材料位于所述阵列基板母板和所述彩膜基板母板之间由所述封框胶围绕的显示区域内。
17.根据权利要求11-16中任一项所述的液晶显示面板母板，其中，所述标识图案设置在面积为1平方毫米的矩形区域内。
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