KR101683894B1 - 칼라필터 제조용 포토마스크 - Google Patents

칼라필터 제조용 포토마스크 Download PDF

Info

Publication number
KR101683894B1
KR101683894B1 KR1020100046312A KR20100046312A KR101683894B1 KR 101683894 B1 KR101683894 B1 KR 101683894B1 KR 1020100046312 A KR1020100046312 A KR 1020100046312A KR 20100046312 A KR20100046312 A KR 20100046312A KR 101683894 B1 KR101683894 B1 KR 101683894B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
color filter
mask pattern
pitch
diameter
region
Prior art date
Application number
KR1020100046312A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20110126837A (ko
Inventor
김종선
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지이노텍 주식회사 filed Critical 엘지이노텍 주식회사
Priority to KR1020100046312A priority Critical patent/KR101683894B1/ko
Publication of KR20110126837A publication Critical patent/KR20110126837A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101683894B1 publication Critical patent/KR101683894B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H01L21/0274—Photolithographic processes
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/20—Masks or mask blanks for imaging by charged particle beam [CPB] radiation, e.g. by electron beam; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

본 발명은 칼라필터 제조에 이용되는 포토마스크에 관한 것으로, 특히 투명기판상에 칼라필터영역에 대응되는 마스크패턴영역을 적어도 2 이상 구비하되, 상기 마스크패턴영역은 차광층에 일정한 직경을 가지는 다수의 나노홀을 일정한 피치로 형성한 구조로 구비되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 칼라필터 제조시 1 개의 바이너리 형 마스크로 LCD 용 풀칼라를 구현할 수 있으며, 이를 통해 화소의 개구율을 높이고, 칼라필터의 제조단가 및 제조시간을 현저하게 감축할 수 있는 효과가 있다.

Description

칼라필터 제조용 포토마스크{Photomask for Color filter}
본 발명은 표면 플라즈몬을 이용한 칼라필터 대체용 풀 칼라 필터 제조를 위한 포토마스크에 관한 것이다.
액정표시장치(LCD)는 일반적으로 액정층을 이루는 액정분자들의 전기 광학 특성을 이용하여 화상을 표시할 수 있는 장치이다. 이러한 액정표시장치는 액정층을 사이에 두고 서로 대향 되는 박막트랜지스터 기판 및 칼라필터 기판을 포함하여 이루어진다. 특히 TFT-LCD의 칼라 화면은 백라이트의 백색광의 투과율을 조절하는 TFT와 액정(Cell)의 동작과 Red, Green, Blue의 칼라필터를 투과해 나오는 3 원색의 가법 혼색을 통하여 이루어진다.
이러한 LCD의 제조에 있어서 기본이 되는 공정은 기본적인 전극을 형성하는 박막트랜지스터공정과 칼라필터제조공정, 상기 두 공정을 거친 기판을 합착하는 셀(Cell)공정, 모듈공정을 거쳐서 이루어진다.
특히, LCD와 같은 경우는 PDP나 OLED처럼 각 셀이 스스로 발광하는 것이 아니라 백라이트에서 나오는 일정한 빛을 각 셀에 있는 액정의 배열을 조절하여 빛의 밝기를 조절한다. 특히 백라이트 자체는 백색광이므로 액정배열을 변화시켜 빛의 양을 조절하지만, 색을 구현하기 위한 R, G, B로 만들기 위해서는 칼라필터(CF)가 중요한 역할을 하게 된다. 이러한 칼라필터의 제조공정은 기본적으로 투명한 절연 기판상에 화소 영역을 정의하는 블랙 매트릭스를 형성하고, 노출된 전면에 컬러 감광제를 도포한 후, 기형성된 액정 셀을 상기 블랙 매트릭스 및 화소 영역과 대응하도록 정렬하며, 이후에 상기 액정 셀의 서브-픽셀을 구동하고, 상기 컬러 감광제에 대응하는 컬러필터 패턴을 노광 및 현상하여 컬러필터를 형성하게 된다.
이러한 공정을 도 1a 및 도 1b를 통하여 간략히 설명한다.
글라스(1) 위에 블랙매트릭스(Black Matrix; BM) 패턴(2)을 형성하는 공정을 거치며(S 1), 이는 증착, 세정, 감광물질코팅, 노광, 현상, 식각, 박리 순의 패턴공정이 필요로 하게 된다. 이후에 화소별 공정으로 Red, Green, Blue의 3가지 셀을 가지므로, 각 셀을 형성하기 위하여 셀 별로 별도의 패턴공정이 필요하게 된다. 이 패턴 공정은 일반적으로 상술한 2가지 공정과는 다른 공정으로 증착, 세정과정이 필요 없이 컬러를 갖는 감광물질을 도포하여 노광, 현상공정을 거쳐서 이루어지게 된다(S 2~S 4). 그 다음, ITO등의 투명전극재료(4)를 BM 공정처럼 패턴공정을 통하여 생성함이 일반적이다(S 5). 이처럼 색을 입히는 공정에서 염색성의 수용성 고분자재료에 감광물질을 첨가하여 감광하고 그것을 포토리소그라피 공정에 의해 원하는 형상에 패터닝 후, 착색패턴을 형성하는 것을 염색법이라고 한다. 이러한 공정을 3회 되풀이하게 되면, 적색(R),녹색(G), 청색(B)의 착색층을 형성하게 되는 것이다.
그러나 이러한 종래의 액정 표시장치용 컬러필터 제조 시 각각의 색깔별로 리소그라피공정을 진행한 후에 픽셀 어레이를 형성하고, 각각의 칼라를 주입하여 컬러필터를 형성한다. 각 칼라형성공정 마다 리소그라피공정을 진행해야하며, 리소그라피 공정마다 포토마스크가 필요하게 되며, 이러한 공정의 반복으로 인해 잉크 등의 재료비 또한 비용이 많이 들어가게 되어 제조비용을 증가시키는 문제가 발생하였다.
본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 칼라필터 제조시 1 개의 바이너리 형 마스크로 LCD 용 풀칼라를 구현할 수 있으며, 이를 통해 화소의 개구율을 높이고, 칼라필터의 제조단가 및 제조시간을 현저하게 감축할 수 있는 포토마스크를 제공하는 데 있다.
상술한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 본 발명은 칼라필터 제조용 포토마스크에 있어서, 투명기판상에 칼라필터영역에 대응되는 마스크패턴영역을 적어도 2 이상 구비하되, 상기 마스크패턴영역은 차광층에 일정한 직경을 가지는 다수의 나노홀을 일정한 피치로 형성한 구조로 구비되는 것을 특징으로 하는 칼라필터 제조용 포토마스크를 제공할 수 있도록 한다. 이 경우 상기 나노홀은 직경이 200~450nm, 인접하는 나노홀 간의 피치는 400~900nm로 배치될 수 있다.
또한, 상술한 구조에서 상기 마스크패턴영역은, 상기 차광층 상에 직경(x)이 410~450nm인 나노홀이 820~900nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 레드(Red)칼라필터 영역에 대응하는 제1마스크패턴영역; 상기 차광층 상에 직경(x)이 310~350nm인 나노홀이 620~700nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 그린(Green)칼라필터 영역에 대응하는 제2마스크패턴영역; 상기 차광층 상에 직경(x)이 260~310nm인 나노홀이 520~620nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 블루(Blue)칼라필터 영역에 대응하는 제3마스크패턴영역; 중에서 선택되는 2 이상의 마스크패턴영역을 구비하는 것으로 형성할 수 있다.
여기에 본 발명에 따른 상기 마스크패턴영역은, 상기 차광층 상에 직경(x)이 380~410nm인 나노홀이 760~820nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 오렌지(Orange)칼라필터 영역에 대응하는 제4마스크패턴영역, 상기 차광층 상에 직경(x)이 350~380nm인 나노홀이 700~760nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 엘로우(Yellow)칼라필터 영역에 대응하는 제5마스크패턴영역, 상기 차광층 상에 직경(x)이 200~260nm인 나노홀이 400~520nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 바이올렛(Violet)칼라필터 영역에 대응하는 제6마스크패턴영역 중 어느 하나 이상을 더 포함하여 구비되도록 형성하는 것도 가능하다. 아울러, 상기 차광층은 Cr 또는 CrOx로 이루어질 수 있다.
본 발명에 따르면, 칼라필터 제조시 1 개의 바이너리 형 마스크로 LCD 용 풀칼라를 구현할 수 있으며, 이를 통해 화소의 개구율을 높이고, 칼라필터의 제조단가 및 제조시간을 현저하게 감축할 수 있는 효과가 있다.
도 1a 및 도 1b는 종래 기술에 따른 칼라필터 제조공정을 도시한 공정도 및 개념도이다.
도 2 및 도 3은 본 발명에 따른 포토마스크의 평면도 및 측면도를 도시한 것이다.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 구성 및 작용을 구체적으로 설명한다. 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성요소는 동일한 참조부여를 부여하고, 이에 대한 중복설명은 생략하기로 한다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
도 2는 본 발명에 따른 포토마스크를 상부에서 바라본 평면도를 도시한 것이다.
도시된 도면을 참조하면, 본 발명에 따른 칼라필터 제조용 포토마스크(M)는, 투명기판상에 칼라필터영역에 대응되는 마스크패턴영역(a~f)을 적어도 2 이상 구비하는 것을 특징으로 한다. 특히 상기 마스크패턴영역은 차광층에 일정한 직경(x)을 가지는 다수의 나노홀(H)을 일정한 피치(y)로 어레이 하여 형성할 수 있다.
도시된 것처럼, 기판상에 다수의 마스크패턴영역을 형성하는 경우, 상기 마스크 패턴영역을 다수의 나노홀의 배치로 구성함에 있어서, 각 칼라필터의 색상에 따른 홀의 크기 및 배치를 다르게 구성할 수 있으며, 이러한 마스크 패턴영역을 2 개이상 형성함으로써, 포토리소그라피 공정을 줄일 수 있으며, 이에 따라 포토마스크의 개수도 줄어들며 잉크 등의 재료비도 줄어들게 된다.
도 2의 확대된 이미지를 살펴보면, 각각의 마스크의 표면은 차광층을 구비하고 있으며, 상기 차광층을 가공하여 나노홀(H)를 형성할 수 있게 된다. 상기 나노홀(H)은 일정한 직경(x)을 가지는 다수의 나노홀(H)을 일정한 피치(y)로 어레이 하여 형성할 수 있다. 여기에서 피치란 이웃하는 나노홀의 중심 간의 거리로 정의한다.
아래의 {표 1}은 본 발명에 따른 마스크패턴영역의 구현 실시예를 도시한 것이다. 이를 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 설명하면 다음과 같다. 전체적으로는 본 발명에 따른 상기 나노홀은 직경이 200~450nm, 인접하는 나노홀 간의 피치는 400~900nm의 범위에서 형성될 수 있다.
{표 1}
Figure 112010031709982-pat00001
더욱 바람직하게는, 본 발명의 상기 마스크패턴영역은, 상기 차광층 상에 직경(x)이 410~450nm인 나노홀이 820~900nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 레드(Red)칼라필터 영역에 대응하는 제1마스크패턴영역(a)과 상기 차광층 상에 직경(x)이 310~350nm인 나노홀이 620~700nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 그린(Green)칼라필터 영역에 대응하는 제2마스크패턴영역(d), 상기 차광층 상에 직경(x)이 260~310nm인 나노홀이 520~620nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 블루(Blue)칼라필터 영역에 대응하는 제3마스크패턴영역(e) 중에서 선택되는 2 이상의 마스크패턴영역을 구비하도록 형성할 수 있다. 만일 위 제1 내지 제3 마스크패턴영역이 모두 형성되는 경우에는 한 번의 포토리소그라피 공정으로 풀 칼라필터의 R, G, B 패턴을 구현할 수 있게 되는 것이다.
아울러, 상술한 조합의 기본 마스크패턴영역이 형성되는 경우에, 추가하여 상기 차광층 상에 직경(x)이 380~410nm인 나노홀이 760~820nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 오렌지(Orange)칼라필터 영역에 대응하는 제4마스크패턴영역(b), 상기 차광층 상에 직경(x)이 350~380nm인 나노홀이 700~760nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 엘로우(Yellow)칼라필터 영역에 대응하는 제5마스크패턴영역(c), 상기 차광층 상에 직경(x)이 200~260nm인 나노홀이 400~520nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 바이올렛(Violet)칼라필터 영역에 대응하는 제6마스크패턴영역(f), 중 어느 하나 이상을 더 포함하여 형성하는 것도 가능하다.
도 2에 도시된 평면도를 측면에서 바라본 개념도를 도 3에 도시하였다.
도 3의 (a)에 도시한 것은 투명기판(10) 상에 차광층(20)을 적층 한 베이스구조를 도시한 것이고, (b)에 도시한 것은 상기 차광층(20)을 패터닝하여 투명기판이 노출되는 나노홀(H)을 다수 형성한 구조(21)를 도시한 것이다. 식별부호 a~f는 도 2의 a~f의 마스크패턴영역에 대응되는 부분이다. 이 경우 상기 차광층은 Cr 또는 CrOx로 형성될 수 있으며, 투명기판은 석영(Qz)재를 사용할 수 있다. 물론, 상술한 차광층에 나노홀(H)를 형성하는 공정은 포토리소그라피를 이용하여 차광층을 노광, 현상 공정을 통해 패터닝하여 형성할 수 있다. 이러한 공정은 기존의 e-beam lithography의 한계를 포토마스크(photomask)를 이용한 노광 기술로 대체함으로써 생산 수율을 비약적으로 향상시킬 수 있다.
전술한 바와 같은 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였다. 그러나 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 변형이 가능하다. 본 발명의 기술적 사상은 본 발명의 기술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
10: 투명기판
20: 차광층
a: 제1마스크패턴영역
b: 제4마스크패턴영역
c: 제5마스크패턴영역
d: 제2마스크패턴영역
e: 제3마스크패턴영역
f: 제6마스크패턴영역
x: 나노홀 직경
y: 나노홀 간 피치

Claims (5)

  1. 칼라필터 제조용 포토마스크에 있어서,
    투명기판상에 칼라필터영역에 대응되는 마스크패턴영역을 적어도 2 이상 구비하되,
    상기 마스크패턴영역은 차광층에 일정한 직경을 가지는 다수의 나노홀을 일정한 피치로 형성한 구조로 구비되며,
    상기 마스크패턴영역은 상기 차광층 상에 직경(x)이 410~450nm인 나노홀이 820~900nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 레드(Red)칼라필터 영역에 대응하는 제1마스크패턴영역과, 상기 차광층 상에 직경(x)이 310~350nm인 나노홀이 620~700nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 그린(Green)칼라필터 영역에 대응하는 제2마스크패턴영역과, 상기 차광층 상에 직경(x)이 260~310nm인 나노홀이 520~620nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 블루(Blue)칼라필터 영역에 대응하는 제3마스크패턴영역 중에서 선택되는 2 이상의 마스크패턴영역을 구비하는, 칼라필터 제조용 포토마스크.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 마스크패턴영역은
    상기 차광층 상에 직경(x)이 380~410nm인 나노홀이 760~820nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 오렌지(Orange)칼라필터 영역에 대응하는 제4마스크패턴영역,
    상기 차광층 상에 직경(x)이 350~380nm인 나노홀이 700~760nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 옐로우(Yellow)칼라필터 영역에 대응하는 제5마스크패턴영역 및 상기 차광층 상에 직경(x)이 200~260nm인 나노홀이 400~520nm의 피치(y)로 배치되어 구성되는 바이올렛(Violet)칼라필터 영역에 대응하는 제6마스크패턴영역 중 어느 하나 이상을 더 포함하여 구비되는, 칼라필터 제조용 포토마스크.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 차광층은 Cr 또는 CrOx로 이루어지는 칼라필터 제조용 포토마스크.

KR1020100046312A 2010-05-18 2010-05-18 칼라필터 제조용 포토마스크 KR101683894B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100046312A KR101683894B1 (ko) 2010-05-18 2010-05-18 칼라필터 제조용 포토마스크

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100046312A KR101683894B1 (ko) 2010-05-18 2010-05-18 칼라필터 제조용 포토마스크

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110126837A KR20110126837A (ko) 2011-11-24
KR101683894B1 true KR101683894B1 (ko) 2016-12-07

Family

ID=45395719

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100046312A KR101683894B1 (ko) 2010-05-18 2010-05-18 칼라필터 제조용 포토마스크

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101683894B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101445844B1 (ko) * 2012-09-07 2014-10-02 한국과학기술원 레이저 간섭 리소그래피를 이용한 표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100563638B1 (ko) * 1999-02-24 2006-03-23 인더스트리얼 테크놀로지 리써치 인스티튜트 칼라 필터의 제조방법

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004233803A (ja) * 2003-01-31 2004-08-19 Renesas Technology Corp 半導体製造用マスク、半導体装置の製造方法および半導体製造用マスクの製造方法
KR20060121423A (ko) * 2005-05-24 2006-11-29 삼성전자주식회사 마스크 및 이를 이용한 칼라 필터 기판의 제조방법
KR20070096922A (ko) * 2006-03-24 2007-10-02 주식회사 에스앤에스텍 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크 및 이를 이용한 포토마스크

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100563638B1 (ko) * 1999-02-24 2006-03-23 인더스트리얼 테크놀로지 리써치 인스티튜트 칼라 필터의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110126837A (ko) 2011-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7616274B2 (en) Color filter substrate comprising spacers, black matrix, and protrusions made of the same material and method of manufacturing the same
US7212262B2 (en) Liquid crystal display device and method of fabricating the same
KR101578692B1 (ko) 액정표시장치의 칼라필터 어레이 및 그 제조방법
US7545466B2 (en) Liquid crystal display device and substrate therefor
WO2017008369A1 (zh) Coa型液晶显示面板及其制作方法
CN102681068A (zh) 彩色滤光片及其制作方法
US10620526B2 (en) Mask, manufacturing method thereof, patterning method employing mask, optical filter
JP2008281919A (ja) カラーフィルタ形成基板の作製方法およびカラーフィルタ形成基板
CN111610657A (zh) 显示基板的制备方法和显示基板、显示面板、显示装置
WO2018120022A1 (zh) 彩色滤光片、显示装置及制备彩色滤光片的方法
JP2009163062A (ja) 液晶表示素子およびその製造方法、並びに液晶表示装置
KR20050032836A (ko) 컬러필터 기판의 제조방법
KR101070796B1 (ko) 칼라필터기판 및 이의 제조방법
KR101683894B1 (ko) 칼라필터 제조용 포토마스크
JP2007034250A (ja) カラーフィルタの製造方法
KR101250236B1 (ko) 칼라필터기판 및 이를 포함하는 액정표시소자의 제조방법
US8993043B2 (en) Method for fabricating color filter layer of liquid crystal display device and method for fabricating liquid crystal display device using the same
KR101683895B1 (ko) 칼라필터 제조용 포토마스크
CN100397107C (zh) 彩色滤光板的制作方法
KR20070003180A (ko) 액정표시소자의 칼라필터기판 제조방법
KR100662781B1 (ko) 액정표시소자의 컬러필터기판 제조방법
KR100937103B1 (ko) 액정표시장치
CN109188759B (zh) 一种彩膜基板及其制造方法
KR101068354B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
JP2007121484A (ja) 液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法および該製造方法に用いられる露光用マスク

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191111

Year of fee payment: 4