JP2007121484A - 液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法および該製造方法に用いられる露光用マスク - Google Patents

Abstract

【課題】作製工程が少なく生産性の良い、半透過型の液晶表示装置用カラーフィルタ形成基板の製造方法及び露光用マスクを提供する。
【解決手段】カラーフィルタ形成用基板１０Ａに、ネガ型の感光性の着色層用材料１３を塗布形成する着色層塗布工程と、着色層形成領域をプロキシミティ露光方法により露光用マスク２０を介して一括露光する露光工程と、現像処理、乾燥、ベーキング処理のプロセス処理工程とを行い、着色層を形成する。前記露光用マスクにおいて、液晶表示装置の透過表示領域に対応する第１の領域には、第１の領域を全部開口とする開口パターン２５が設けられ、反射表示領域に対応する第２の領域には、露光により前記各着色層用材料を解像しない程度の微細開口パターン２６が設けられており、各領域の着色層用材料への露光量を制御し、該各領域における着色層の膜厚を、所望の厚さに制御する。
【選択図】図１

Description

本発明は、反射表示機能と透過表示機能との両方の表示機能を有する半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板の製造方法と、該製造方法において用いられる露光用マスクに関する。

近年、液晶表示装置は、テレビあるいはパソコン等の表示装置として広く利用されており、最近では、小型や中型の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精細のモニターにまで使用されている。
このような中、特に、携帯情報端末などのように、屋外、屋内の両方にわたって使用される機器に用いられる液晶表示装置においては、外光が十分強い環境下では表示装置の照明手段として積極的に外光を利用し、また、外光が弱い環境下ではバックライトを照明手段として使用する、液晶表示装置が主流になっている。
このような、反射表示と透過表示の両方の表示機能を有する液晶表示装置を、半透過型の液晶表示装置あるいは反射透過両用型液晶表示装置と言う。

当初、カラーフィルタを備えた半透過型の液晶表示装置においては、バックライトからの光で表示される透過領域と外光を用いて表示される反射領域とでは、表示される光がカラーフィルタを通過する回数が異なり、光路長が異なるため、透過領域および反射領域の両方を明るく、かつ、色純度が高い（色再現性が高い）表示を実現することが、困難であった。
この問題を解決するために、特開２０００−１１１９０２号公報（特許文献１）に記載のものは、反射領域の一部にカラーフィルタ層が形成されていない領域を有する液晶表示装置を開示している。
特開２０００−１１１９０２号公報 しかし、ここに記載のものは、反射領域における透過率の低下が低減されて光の利用効率が高くなるものの、色純度が十分に高い表示が得られない欠点があった。

これに対応して、特開２００４−８５９８６号公報（特許文献２）に記載のものは、透過領域および反射領域の両方で明るく、かつ、色純度が高い表示ができる液晶表示装置を提案している。
特開２００４−８５９８６号公報 ここでは、図７に示すような、反射領域に透明な絶縁性樹脂１１２を配し、その上に着色層１１３を形成した着色層形成基板１１０と、反射領域に反射電極１２３を配したアクティブマトリクス基板１２０とを用いて、両基板間に液晶層を配した構造の液晶表示装置が挙げられている。 ここに記載の着色層形成基板１１０は、その一部断面の概略図を図４（ａ）に示すように、透明な絶縁性樹脂（着色膜厚調整層とも言う）を１１２を形成した後に、着色層１１３をフォトリソ法で形成することを前提としており、透過領域Ｔａの着色層１１３と反射領域Ｒａの着色層の膜厚を、所望の厚に制御することができず、これが問題となっていた。 この方法では、反射領域Ｒａに目標より大きい膜厚の着色層が形成されてしまう。 この方法の処理ステップのフローを示すと、図５に示すようになる。

一方、透過領域と反射領域において、それぞれ、所望の膜厚を得、また所望の色純度を得るために、その一部断面の概略図を図４（ｂ）に示すように、透過領域Ｔａ、反射領域Ｒａにおいて、それぞれ、別々に、着色層を形成する方法も採られている。
この方法においては、反射領域と透過領域との表示の色品位を上げるために、それぞれの色を設定し、かつ、液晶膜厚を制御する為に、着色膜厚を制御することを行っている。 例えば、各着色層毎、膜厚を厚く形成する反射領域Ｒａにおいては、顔料濃度の薄い着色材料を用いて、所定の露光量でマスク露光し、また、膜厚を薄く形成する透過領域Ｔａは、顔料濃度の濃い着色材料を用いて、所定の露光量でマスク露光して、それぞれ、着色層を形成する。
このため、この方法の処理ステップのフローは、図６のようになり、図５に示す、特開２００４−８５９８６号公報にて開示されている方法に比べて、処理工程が長くなり、この方法では、生産性の低下や、着色層用材料が多種になることによる作業の煩雑化が問題となっていた。

上記のように、近年、携帯情報端末などのように、屋外、屋内の両方にわたって使用される機器においては、反射表示と透過表示の両方の表示機能を有する、半透過型の液晶表示装置が盛んに用いられるようになってきたが、このような半透過型の液晶表示装置に供された場合に表示の色品位を上げることができるカラーフィルタ形成基板の製造方法で、その作製工程が少なく生産性の良い、カラーフィルタ形成基板の製造方法が求められていた。
本発明はこれに対応するもので、半透過型の液晶表示装置に供された場合に表示の色品位を上げることができるカラーフィルタ形成基板の製造方法で、その作製工程が少なく生産性の良い、カラーフィルタ形成基板の製造方法を提供しようとするものである。
更には、そのような製造方法に用いられる露光ようマスクを提供しようとするものである。

本発明の液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法は、反射表示機能と透過表示機能の両方の表示機能を有する半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板の製造方法であって、カラーフィルタ形成用基板の一面に、前記液晶表示装置の反射領域に対応する領域に、この領域における着色層の厚さ方向の位置を調整するための、所定厚の透明な絶縁性樹脂層（枕あるいはホワイト層とも言う）を配設した後、形成する着色層の色毎に、前記カラーフィルタ形成用基板の、前記所定厚の透明な絶縁性樹脂層を配設した側に、それぞれ、順に、未露光のネガ型の感光性の所定の着色層用材料を塗布形成する着色層塗布工程と、着色層形成領域のみをプロキシミティ露光方法により露光用マスクを介して一括露光する露光工程と、現像処理、乾燥、ベーキング処理のプロセス処理工程とを行い、着色層を形成するもので、且つ、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の透過表示領域に対応する第１の領域には、第１の領域を全部開口とする開口パターンが設けられており、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の反射表示領域に対応する第２の領域には、その全域にわたり、露光により前記各着色層用材料を解像しない程度の複数の微細開口を有する所定開口率の微細開口パターンが設けられており、前記一括露光において、前記露光用マスクを用いることにより、前記第１の領域および前記第２の領域に対応して露光される各領域における着色層用材料への露光量を制御し、該各領域における着色層の膜厚を、所望の厚さに制御するものであることを特徴とするものである。
そして、上記の液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法であって、前記微細パターンの複数の微細開口は、ライン状、円形状、楕円形状、三角形状、四角形状、六角形状の１以上からなることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかの液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法であって、前記微細開口パターンの開口率が５％以上、６０％以下であることを特徴とするものである。
尚、開口率とは、ここでは、露光用マスクの第２の領域に設けられた微細開口パターン領域の面積に対する全微細開口の面積を合わせた面積の占める割合を意味します。
あるいは、本発明の液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法は、反射表示機能と透過表示機能の両方の機能を有する半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板の製造方法であって、カラーフィルタ形成用基板の一面に、前記液晶表示装置の反射領域に対応する領域に、この領域における着色層の厚さ方向の位置を調整するための、所定厚の透明な絶縁性樹脂層（枕あるいはホワイト層とも言う）を配設した後、形成する着色層の色毎に、前記カラーフィルタ形成用基板の、前記所定厚の透明な絶縁性樹脂層を配設した側に、それぞれ、順に、未露光のネガ型の感光性の所定の着色層用材料を塗布形成する着色層塗布工程と、着色層形成領域のみをプロキシミティ露光方法により露光用マスクを介して一括露光する露光工程と、現像処理、乾燥、ベーキング処理のプロセス処理工程とを行い、着色層を形成するもので、且つ、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の透過表示領域に対応する第１の領域には、第１の領域を全部開口とする開口パターンが設けられており、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の反射表示領域に対応する第２の領域には、その全域にわたり、所定透過率のハーフトーン層が設けられており、前記一括露光において、前記露光用マスクを用いることにより、前記第１の領域および前記第２の領域に対応して露光される各領域における着色層用材料への露光量を制御し、該各領域における着色層の膜厚を、所望の厚さに制御するものであることを特徴とするものである。

本発明の露光用マスクは、反射表示機能と透過表示機能の両方の表示機能を有する半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板の製造方法において、プロキシミティ露光の際に用いられる露光用マスクであって、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の透過表示領域に対応する第１の領域には、第１の領域を全部開口とする開口パターンが設けられており、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の反射表示領域に対応する第２の領域には、その全域にわたり、露光により前記各着色層用材料を解像しない程度の複数の微細開口を有する所定開口率の微細開口パターンが、あるいは、その全域にわたり、所定透過率のハーフトーン層が設けられていることを特徴とするものである。

（作用）
本発明の液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法は、このような構成にすることにより、半透過型の液晶表示装置に供された場合に表示の色品位を上げることができるカラーフィルタ形成基板の製造方法で、その作製工程が少なく生産性の良い、カラーフィルタ形成基板の製造方法の提供を可能としている。
具体的には、カラーフィルタ形成用基板の一面に、前記液晶表示装置の反射領域に対応する領域に、この領域における着色層の厚さ方向の位置を調整するための、所定厚の透明な絶縁性樹脂層（枕あるいはホワイト層とも言う）を配設した後、形成する着色層の色毎に、前記カラーフィルタ形成用基板の、前記所定厚の透明な絶縁性樹脂層を配設した側に、それぞれ、順に、未露光のネガ型の感光性の所定の着色層用材料を塗布形成する着色層塗布工程と、着色層形成領域のみをプロキシミティ露光方法により露光用マスクを介して一括露光する露光工程と、現像処理、乾燥、ベーキング処理のプロセス処理工程とを行い、着色層を形成するもので、且つ、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の透過表示領域に対応する第１の領域には、第１の領域を全部開口とする開口パターンが設けられており、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の反射表示領域に対応する第２の領域には、その全域にわたり、露光により前記各着色層用材料を解像しない程度の複数の微細開口を有する所定開口率の微細開口パターンが設けられており、前記一括露光において、前記露光用マスクを用いることにより、前記第１の領域および前記第２の領域に対応して露光される各領域における着色層用材料への露光量を制御し、該各領域における着色層の膜厚を、所望の厚さに制御するものである、請求項１の発明の形態にすることにより、あるいは、上記において、所定開口率の微細開口パターンに代え、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の反射表示領域に対応する第２の領域には、その全域にわたり、所定透過率のハーフトーン層を設け、前記一括露光において、前記露光用マスクを用いることにより、前記第１の領域および前記第２の領域に対応して露光される各領域における着色層用材料への露光量を制御し、該各領域における着色層の膜厚を、所望の厚さに制御するものである、請求項４の発明の形態にすることにより、これを達成している。
ここでは、露光用マスクを工夫し、前記第１の領域および前記第２の領域に対応して露光される各領域における着色層用材料への露光量を制御することにより、該各領域における着色層の膜厚を、所望の厚さに制御することを可能としている。
即ち、図７に示す液晶表示装置１００おいて、透過領域Ｔａにおける着色層１１３の厚さ、および反射領域Ｒａにおける着色層１１３の厚さを制御でき、結果、着色層形成基板１１０と反射電極１２３を配したアクティブマトリクス基板１２０との間の、透過領域Ｔａ、反射領域Ｒａにおける液晶層１５０の厚さＴｔ、Ｔｒを、それぞれ、制御できるものとしている。
請求項１に発明の形態において、微細パターンの複数の微細開口は、ライン状、円形状、楕円形状、三角形状、四角形状、六角形状の１以上からなる、請求項２の形態が挙げられる。
また、前記微細開口パターンの開口率が５％以上、６０％以下である、請求項３の発明の形態とすることにより、通常の、各色の着色層用材料の感度に対応して、実用レベルで所望の膜厚を実現できるものとしている。
開口率が５％以下では、露光量が低くなりすぎて十分な硬化が得られずパターンが形成されない。
また、６０％以上では、第１の領域との露光量の差が小さく十分な効果が得られない。 そして、前記微細開口パターンの開口率が１０％以上、３０％以下である場合には、特に好ましい。

本発明は、上記のように、半透過型の液晶表示装置に供された場合に表示の色品位を上げることができるカラーフィルタ形成基板の製造方法で、その作製工程が少なく生産性の良い、カラーフィルタ形成基板の製造方法の提供を可能とした。
同時に、そのような製造方法に用いられる露光用マスクの提供を可能とした。

本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１（ａ）は本発明の液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法の実施の形態の１例の特徴部の露光処理を示した断面図で、図１（ｂ）は図１（ａ）に対応する箇所の形成された着色層を示した断面図で、図２（ａ）は本発明の露光用マスクの１例の一部を示した平面図で、図２（ｂ）は他の本発明の露光用マスクの１例の一部を示した平面図で、図３（ａ）、図３（ｂ）は本発明の液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の画素部における着色層の形成を説明するための図である。
図１〜図３中、１０はカラーフィルタ形成基板、１０Ａはカラーフィルタ形成用基板、１１は透明基板、１２は透明な絶縁性樹脂層（枕あるいはホワイト層とも言う）、１３は（未露光の）着色層用材料、１３ａは（第１の領域に対応して露光される領域の）着色層、１３ｂは（第２の領域に対応して露光される領域の）着色層、２０、２０ａは露光用マスク、２１は透明基板、２５は（第１の領域の）開口、２６は（第２の領域の）開口、２７は遮光膜、２８はハーフトーン膜、３０は露光光、４０ａは画素領域、４０は着色画素部、４１は（透過領域に対応する領域の）着色層、４１ａは（反射領域に対応する領域の）着色層、４２は（透過領域に対応する領域の）着色層、４２ａは（反射領域に対応する領域の）着色層、４３は（透過領域に対応する領域の）着色層、４３ａは（反射領域に対応する領域の）着色層、Ｇｐはギャップである。

はじめに、本発明の液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法の実施の形態の１例を図１に基づいて説明する。
本例の液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法は、反射表示機能と透過表示機能の両方の表示機能を有する半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板を製造する方法である。
本例では、簡単には、先ず、カラーフィルタ形成用基板のベース基板であるガラスなどからなる透明基板１１の一面上に、図示していない樹脂層からなるブラックマトリクス（ＢＭとも言う）を形成し、更に、ブラックマトリクス（ＢＭとも言う）形成側の面に、液晶表示装置の反射領域に対応する領域に、この領域における着色層の厚さ方向の位置を調整するための、所定厚の透明な絶縁性樹脂層（枕あるいはホワイト層とも言う、図１（ａ）の１２）を配設しておく。
上記の所定厚の透明な絶縁性樹脂層１２の形成は、例えば、ネガ型の透明アクリル系感光材（例えば日本合成ゴム社製アクリル樹脂）を活性光でパターン露光し、次いで、アルカリ現像液による現像、水洗を行い、その後、熱処理を行って形成するが、形成方法はこれに限定されない、エッチングによるパターニングや印刷、あるいは転写などの方法を用いても良い。
通常、絶縁性樹脂層１２の膜厚としては、１μｍ〜6 μｍの範囲内で、中でも2 μｍ〜5 μｍの範囲内とされることが望ましい。
そして、形成する着色層の色毎に、カラーフィルタ形成用基板１０Ａの、前記所定厚の透明な絶縁性樹脂層１２を配設した側に、それぞれ、順に、未露光のネガ型の感光性の所定の着色層用材料を塗布形成する着色層塗布工程と、着色層形成領域のみをプロキシミティ露光方法により露光用マスクを介して一括露光する露光工程と、現像処理、乾燥、ベーキング処理のプロセス処理工程とを行い、全着色層を形成する。
着色層用材料としては、例えば、アクリル系顔料分散感光材を用いる。

ここで、本例の液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法において特徴とする露光処理を説明する。
図１（ａ）に示すように、前記所定厚の透明な絶縁性樹脂層１２を覆い、平坦な着色層用材料１３に対し、露光用マスク２０を用いて、着色層形成領域のみをプロキシミティ露光方法にて露光を行う。
露光用マスク２０は、図２（ａ）に示すように、透過表示領域に対応する第１の領域には全部開口とする開口パターン２５を配し、絶縁性樹脂層１２が配設されている反射表示領域に対応する第２の領域には、露光により前記各着色層用材料を解像しない程度の複数の微細開口を有する所定開口率の微細開口パターンが設けられており、第１の領域から着色層１３の透過領域相当部を露光し、第２の領域から着色層１３の反射領域相当部を露光する。
第１の領域からの着色層１３への露光における露光量を１００とした場合、第２の領域から着色層１３への露光における露光量を、通常、５〜３０の範囲と制御するため、これに合わせ、第２の領域における微細パターンの開口率を５％〜３０％としている。
従来の、透明な絶縁性樹脂層（枕あるいはホワイト層とも言う、図４（ａ）の１１２）を設けて、その上に着色層を塗布して、反射領域相当部、透過領域相当部を共に同じ露光量で露光して現像する方法においても、反射領域相当部の着色層の膜厚を、透過領域相当部の着色層の膜厚に比べて薄く形成することができるが、この方法よりも、本例の場合は、反射領域相当部の着色層１３ｂの膜厚を、透過領域相当部の着色層１３ａの膜厚に比べ、効果的に薄く形成することができる。
プロキシミティ露光方法では、１００μｍ〜２００μｍ程度のギャップＧｐで露光を行うが、この場合、８μｍ幅程度が解像限界といわれているため、ここでは、図２（ａ）に示すように、４μｍ幅以下のライン状の開口２６を、開口率に合わせて、所定のピッチで第２の領域に配している。
本例においては、一括露光の露光時間と、上記開口率とを、適当に選択することにより、透過領域相当部、反射領域相当部において、それぞれ、所望の厚さを得ることができる。
尚、微細パターンの複数の微細開口２６は、ここではライン状であるが、これに限定はされない。
ライン状、円形状、楕円形状、三角形状、四角形状、六角形状の１以上からなるものが適用できる。
また、露光用マスク２０は、公知のレーザを用いた描画露光装置や電子ビームを用いたＥＢ描画露光装置を用いたフォトリソ法により形成される。
遮光膜２７としては、クロム系の膜が通常用いられるが、これに限定はされない。

各画素領域４０ａについては、はじめに、図３（ａ）に示すように、着色層４１、４１ａが形成され、次いで、図３（ｂ）に示す着色層４２、４２ａが形成され、最後に、図３（ｂ）に示す着色層４３、４３ａが形成されて、全体として着色画素部４０が形成される。（図３（ｂ）参照）
ここでは、着色層４１、４２、４３は、それぞれ、透過領域に対応する領域の着色層で厚く、着色層４１ａ、４２ａ、４３ａは、それぞれ、反射領域に対応する領域の着色層で、着色層４１、４２、４３に比べて、薄く形成される。
このようにして、各画素領域４０ａに全着色層が形成された、カラーフィルタ形成基板１０が得られる。

本例における露光用のマスクの、第２の領域における微細パターンに代えて、第２の領域、全体にわたり、露光光に対して先の微細パターンの露光光の透過特性に対応する透過率特性を有するハーフトーン膜を形成して、同様に、露光を行う形態も挙げられる。
ハーフトーン膜としては、酸化クロム、酸化窒化クロム、クロム、タンタル等からなる膜が挙げられる。

図１（ａ）は本発明の液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法の実施の形態の１例の特徴部の露光処理を示した断面図で、図１（ｂ）は図１（ａ）に対応する箇所の形成された着色層を示した断面図である。 図２（ａ）は本発明の露光用マスクの１例の一部を示した平面図で、図２（ｂ）は他の本発明の露光用マスクの１例の一部を示した平面図である。 図３（ａ）、図３（ｂ）は本発明の液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の画素部における着色層の形成を説明するための図である。 従来の着色層形成による一部の断面を示した断面図である。 従来の着色層形成の処理フローを示したフロー図である。 従来の別の着色層形成の処理フローを示したフロー図である。 半透過型液晶表示装置の一部の断面図である。

符号の説明

１０ カラーフィルタ形成基板
１０Ａ カラーフィルタ形成用基板
１１ 透明基板
１２ 透明な絶縁性樹脂層（枕あるいはホワイト層とも言う）
１３ （未露光の）着色層用材料
１３ａ （第１の領域に対応して露光される領域の）着色層
１３ｂ （第２の領域に対応して露光される領域の）着色層
２０、２０ａ 露光用マスク
２１ 透明基板
２５ （第１の領域の）開口
２６ （第２の領域の）開口
２７ 遮光膜
２８ ハーフトーン膜
３０ 露光光
４０ａ 画素領域
４０ 着色画素部
４１ （透過領域に対応する領域の）着色層
４１ａ （反射領域に対応する領域の）着色層
４２ （透過領域に対応する領域の）着色層
４２ａ （反射領域に対応する領域の）着色層
４３ （透過領域に対応する領域の）着色層
４３ａ （反射領域に対応する領域の）着色層
Ｇｐ ギャップ
１００ 液晶表示装置
１１０ 着色層形成基板
１１１ 透明絶縁性基板
１１２ 透明絶縁性樹脂層（透明誘電体層、枕、ホワイト層とも言う）
１１３ 着色層
１２０ アクティブマトリクス基板
１２１ 透明絶縁性基板
１２２ 透明電極
１２３ 反射電極（単に反射層とも言う）
１３０、１３５ 偏光板
１４０ バックライト
１５０ 液晶層
１６０ 反射表示光
１６５ 透過表示光
Ｔａ 透過領域
Ｒａ 反射領域
Ｔｔ （透過領域の液晶層の）厚さ
Ｔｒ （反射領域の液晶層の）厚さ

Claims (5)

1. 反射表示機能と透過表示機能の両方の表示機能を有する半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板の製造方法であって、カラーフィルタ形成用基板の一面に、前記液晶表示装置の反射領域に対応する領域に、この領域における着色層の厚さ方向の位置を調整するための、所定厚の透明な絶縁性樹脂層（枕あるいはホワイト層とも言う）を配設した後、形成する着色層の色毎に、前記カラーフィルタ形成用基板の、前記所定厚の透明な絶縁性樹脂層を配設した側に、それぞれ、順に、未露光のネガ型の感光性の所定の着色層用材料を塗布形成する着色層塗布工程と、着色層形成領域のみをプロキシミティ露光方法により露光用マスクを介して一括露光する露光工程と、現像処理、乾燥、ベーキング処理のプロセス処理工程とを行い、着色層を形成するもので、且つ、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の透過表示領域に対応する第１の領域には、第１の領域を全部開口とする開口パターンが設けられており、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の反射表示領域に対応する第２の領域には、その全域にわたり、露光により前記各着色層用材料を解像しない程度の複数の微細開口を有する所定開口率の微細開口パターンが設けられており、前記一括露光において、前記露光用マスクを用いることにより、前記第１の領域および前記第２の領域に対応して露光される各領域における着色層用材料への露光量を制御し、該各領域における着色層の膜厚を、所望の厚さに制御するものであることを特徴とする液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法。
2. 請求項１に記載の液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法であって、前記微細パターンの複数の微細開口は、ライン状、円形状、楕円形状、三角形状、四角形状、六角形状の１以上からなることを特徴とする液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法。
3. 請求項１ないし２のいずれか１項に記載の液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法であって、前記微細開口パターンの開口率が５％以上、６０％以下であることを特徴とする液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法。
4. 反射表示機能と透過表示機能の両方の機能を有する半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板の製造方法であって、カラーフィルタ形成用基板の一面に、前記液晶表示装置の反射領域に対応する領域に、この領域における着色層の厚さ方向の位置を調整するための、所定厚の透明な絶縁性樹脂層（枕あるいはホワイト層とも言う）を配設した後、形成する着色層の色毎に、前記カラーフィルタ形成用基板の、前記所定厚の透明な絶縁性樹脂層を配設した側に、それぞれ、順に、未露光のネガ型の感光性の所定の着色層用材料を塗布形成する着色層塗布工程と、着色層形成領域のみをプロキシミティ露光方法により露光用マスクを介して一括露光する露光工程と、現像処理、乾燥、ベーキング処理のプロセス処理工程とを行い、着色層を形成するもので、且つ、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の透過表示領域に対応する第１の領域には、第１の領域を全部開口とする開口パターンが設けられており、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の反射表示領域に対応する第２の領域には、その全域にわたり、所定透過率のハーフトーン層が設けられており、前記一括露光において、前記露光用マスクを用いることにより、前記第１の領域および前記第２の領域に対応して露光される各領域における着色層用材料への露光量を制御し、該各領域における着色層の膜厚を、所望の厚さに制御するものであることを特徴とする液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法。
5. 反射表示機能と透過表示機能の両方の表示機能を有する半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ形成基板の製造方法において、プロキシミティ露光の際に用いられる露光用マスクであって、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の透過表示領域に対応する第１の領域には、第１の領域を全部開口とする開口パターンが設けられており、前記露光用マスクの前記液晶表示装置の反射表示領域に対応する第２の領域には、その全域にわたり、露光により前記各着色層用材料を解像しない程度の複数の微細開口を有する所定開口率の微細開口パターンが、あるいは、その全域にわたり、所定透過率のハーフトーン層が設けられていることを特徴とする露光用マスク。
   
   

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