JP4919043B2 - 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、半透過型液晶表示装置に用いられる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法に関するものである。

液晶表示装置として、外光の反射と、バックライト光の透過光とを利用した半透過型液晶表示装置が開発され、この半透過型液晶表示装置は、外光を利用して表示を行なう従来の反射型カラー液晶表示装置に、バックライトを兼ね備え、周囲が暗い場合でもバックライトによる表示（透過表示）が行なえる、という利点を有する。

しかしながら、このような半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタにおいて、外光が入射光および反射光として着色層を２回通過することから、外光により表示が行われる反射光用領域の色特性と、バックライト光によって表示が行われる透過光用領域との色特性が異なるという問題を有する場合があった。

このような問題を解決するため、例えば上記透過光用領域に膜厚の厚い着色層を形成し、上記反射光用領域に膜厚の薄い着色層を形成する方法等、それぞれの領域に異なる着色層を形成する方法等が採用されていた。しかしながら、この方法では、３色（赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ））の着色層を有するカラーフィルタを形成する際、例えばフォトリソグラフィー法等を６回繰り返し行わなければならず、工程が煩雑であった。

そこで、例えば図２に示すように、反射光用領域ｒにおける透明基板１上に、透明樹脂層２を形成し、その透明樹脂層２を覆うように着色層３を形成する方法が提案されている（特許文献１）。この方法によれば、透明樹脂層２上に形成された着色層３の膜厚を薄くすることができ、反射光用領域ｒの着色層３の膜厚と、透過光用領域ｔでの着色層３の膜厚とを異なるものとすることができるため、それぞれの領域の色特性を調整することができる。またこの際、上記反射光用領域ｒと透過光用領域ｔとの着色層表面に生じる段差によって、カラーフィルタを対向基板と対向させて配置した際のセルギャップを調整し、反射光用領域および透過光用領域における光の光路差も調整することができる、という利点も有する。

しかしながら上記方法においては、例えば図２に示すように、上記反射光用領域ｒと透過光用領域ｔとの間で、透明樹脂層２の端部で着色層３が傾斜して形成される傾斜部分（図中、αで示される領域）が生じることとなる。この部分、すなわち透過光用領域側の着色層の端部では着色層の膜厚が厚くなることから、色ムラが生じる等の問題があった。

そこで、例えば透明樹脂層上に塗布された着色層形成用塗工液を露光する際、透明樹脂層の端部、すなわち反射光用領域と透過光用領域との境界部を遮光して露光する方法が提案されている（特許文献２参照）。しかしながらこの場合、例えば図３に示すように、形成された反射光用領域の着色層と透過光用領域の着色層との間に隙間が生じてしまい、この部分から光漏れが生じてしまうこと等があった。また透過光用領域側の着色層の端部の形状を平坦なものとすることができず、この場合にも色ムラが生じてしまうという問題もあった。

特開２００４−１０２２４３公報 特開２００６−２９３２２８公報

そこで高純度な色表示が可能であり、かつ光漏れが生じること等のない高品質な半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の提供が望まれている。

本発明は、透明基板と、上記透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層と、上記透明基板および上記透明樹脂層を覆うように形成された着色層とを有し、上記透明基板と上記透明樹脂層と上記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、上記透明基板と上記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、上記透明基板および上記透明樹脂層を有するカラーフィルタ用基板上に、上記透明基板および透明樹脂層を覆うように着色層形成用塗工液を塗布し、着色層形成用層を形成する着色層形成用塗工液塗布工程と、上記着色層形成用層を、上記透明樹脂層の端部領域に対応する領域が半透明領域とされた階調マスクを介して露光する露光工程と、上記着色層形成用層を現像する現像工程とを有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供する。

本発明によれば、上記透明樹脂層の端部領域に対応する領域が半透明領域とされた階調マスクを用いて着色層形成用層を露光することから、透明樹脂層の端部領域上に形成される着色層の膜厚を細かく調整することが可能となり、反射光用領域の着色層と透過光用領域の着色層との間に隙間が生じてしまうことや、透過光用領域側の着色層の端部の膜厚が厚くなってしまうことが少ないものとすることができる。

上記発明においては、上記露光工程に用いられる階調マスクが、上記反射光用領域に対応する領域も半透明領域とされていてもよい。これにより、上記反射光用領域に形成される着色層の膜厚をより細かく調整することが可能となるからである。

上記発明においては、上記露光工程に用いられる階調マスクの、上記透明樹脂層の上記端部領域に対応する領域の透過率と、上記反射光用領域に対応する領域の透過率とが異なっていてもよい。この場合、上記反射光用領域、および上記透明樹脂層の端部領域に形成される着色層の膜厚をより細かく調整することが可能となる。

本発明によれば、透明樹脂層の端部領域上に形成される着色層の膜厚を細かく調整することが可能となり、反射光用領域の着色層と透過光用領域の着色層との間に隙間が生じてしまうことや、透過光用領域側の着色層の端部の膜厚が厚くなってしまうことが少ないものとすることができるという効果を奏する。

本発明は、半透過型液晶表示装置に用いられる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法に関する。以下、詳しく説明する。

本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、透明基板と、上記透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層と、上記透明基板および上記透明樹脂層を覆うように形成された着色層とを有し、上記透明基板と上記透明樹脂層と上記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、上記透明基板と上記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、上記透明基板および上記透明樹脂層を有するカラーフィルタ用基板上に、上記透明基板および上記透明樹脂層を覆うように着色層形成用塗工液を塗布し、着色層形成用層を形成する着色層形成用塗工液塗布工程と、上記着色層形成用層を、上記透明樹脂層の端部領域に対応する領域が半透明領域とされた階調マスクを介して露光する露光工程と、上記着色層形成用層を現像する現像工程とを有することを特徴とする方法である。

本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、例えば図１に示すように、透明基板１とその透明基板１上にパターン状に形成された透明樹脂層２とを有するカラーフィルタ用基板１１上（図１（ａ））に、透明基板１および透明樹脂層２を覆うように着色層形成用塗工液を塗布し、着色層形成用層３を形成する着色層形成用塗工液塗布工程（図１（ｂ））と、上記着色層形成用層３を、上記透明樹脂層２の端部領域に対応する領域が半透明領域１２ａとされているフォトマスク１２を用いて着色層形成用層３を露光する露光工程（図１（ｃ））と、上記着色層形成用層３を現像する現像工程（図１（ｄ））とを有する方法である。本発明により製造される半透過型液晶表示装置は、透明基板１および着色層３のみが積層された領域（ｔで示される領域）が透過光用領域、透明基板１、透明樹脂層２、および着色層３が積層された領域（ｒで示される領域）が反射光用領域として用いられる。ここで、上記透明樹脂層の端部領域とは、上記透明樹脂層の断面を観察した際、透明樹脂層が傾斜を有する領域（ａで示される領域）をいうこととし、傾斜とは、長さ６μｍの範囲において、高さが１μｍ以上変化する領域をいうこととする。このような変化は、例えば半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの断面形状を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等で撮影したもの等から算出することができる。

本発明によれば、上記透明樹脂層の端部領域に対応する領域が半透明領域とされた階調マスクを用いて着色層形成用層を露光することから、透明樹脂層の端部領域上に形成される着色層の膜厚を細かく調整することが可能となる。例えば透明樹脂層の端部上に形成される着色層の膜厚を、それ以外の領域に形成される着色層の膜厚より薄いもの等とすることもできる。これにより、透過光用領域側の着色層の端部の膜厚が厚くなってしまうことが少ないものとすることができる。また上記透過光用領域と反射光用領域との間で着色層が途切れてしまうことがないものとすることができ、透過光用領域と反射光用領域との間から光漏れが生じること等も少ないものとすることができる。
以下、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の各工程について説明する。

１．着色層形成用塗工液塗布工程
まず、本発明の着色層形成用塗工液塗布工程について説明する。本発明における着色層形成用塗工液塗布工程は、透明基板と、上記透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層とを有するカラーフィルタ用基板上に、上記透明基板および上記透明樹脂層を覆うように着色層形成用塗工液を塗布し、着色層形成用層を形成する工程であり、上記カラーフィルタ用基板上に上記着色層形成用層を形成することが可能な方法であれば、その形成方法は特に限定されるものではない。上記着色層形成用塗工液を塗布する方法としては、例えばスピンコート法等が挙げられる。

本工程により形成される着色層形成用層の膜厚としては、形成する着色層の種類等により適宜選択されることとなるが、通常透過光用領域に形成される着色層形成用層の膜厚が１．５μｍ〜２．５μｍ程度、中でも１．７μｍ〜２．４μｍ程度とされることが好ましい。ここで本工程に用いられる着色層形成用塗工液としては、顔料分散法による着色層の形成の際に一般的に用いられる着色層形成用塗工液と同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。

また上記カラーフィルタ用基板に用いられる透明樹脂層としては、透明基板上にパターン状に形成されるものであり、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタのうち、反射光用領域として用いられる領域に形成されるものである。

このような透明樹脂層としては、上記反射光用領域に形成される着色層の膜厚を調整することが可能であり、また上記反射光用領域および透過光用領域における着色層表面に生じる段差によって、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを対向基板と対向させて配置した際のセルギャップを調整することが可能なものであれば、その形状等は特に限定されるものではない。例えば断面形状が矩形状や台形状のもの等とすることができる。

また、透明樹脂層の膜厚としては、着色層の種類等により適宜選択されるものであるが、通常、透明樹脂層の中心部の膜厚が１μｍ〜６μｍの範囲内、中でも２μｍ〜５μｍの範囲内とされることが好ましい。これにより、上記透過光用領域および反射光用領域に形成される着色層の膜厚差を異なるものとすること等ができるからである。

ここで、上述したような透明樹脂層に用いられる材料としては、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタに入射した外光およびその外光が反射された反射光に対して透明なものであれば特に限定されるものではない。このような透明樹脂層に用いられる材料としては、たとえば感光性アクリル樹脂、感光性ポリイミド、ポジレジスト、カルド樹脂、ポリシロキサン、ベンゾシクロブテン等が挙げられる。また、上記透明樹脂層の形成方法としては、上記材料を用いて例えばフォトリソグラフィー法等により、形成することが可能である。

また上記カラーフィルタ用基板に用いられる透明基板は、上記透明樹脂層を形成可能であり、可視光に対して透明な基板であれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタに用いられる透明基板と同様のものとすることができる。

具体的には、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材等が挙げられる。

２．露光工程
次に、本発明における露光工程について説明する。本発明における露光工程は、上記着色層形成用層を、上記透明樹脂層の端部領域に対応する領域が半透明領域とされた階調マスクを介して露光する工程である。

本工程において露光に用いられる階調マスクとしては、上記透明樹脂層の端部領域に対応する領域が少なくとも半透明領域とされているものであればよく、例えば上記透明樹脂層の端部領域に対応する領域のみが半透明領域とされ、上記透過光用領域および反射光用領域に対応する領域が透明領域とされた階調マスクであってもよい。また例えば上記透明樹脂層の端部領域に対応する領域、および反射光用領域に対応する領域が半透明領域とされ、透過光用領域に対応する領域が透明領域とされた階調マスクであってもよい。なお上記透明樹脂層の端部領域に対応する領域、および反射光用領域に対応する領域が半透明領域とされる場合には、上記透明樹脂層の端部領域に対応する領域と、反射光用領域に対応する領域とは、異なる透過率とされてもよく、また同一の透過率とされていてもよい。

本発明においては、上記透明樹脂層の端部領域上に形成される、現像後の着色層の平均膜厚が０．３μｍ〜１．０μｍ程度、中でも０．５μｍ〜０．８μｍ程度となるような透過率の半透明領域を有する階調マスクを用いることが好ましい。これにより、透過光用領域と反射光用領域との間で色ムラや光もれ等のない高品質な半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを製造することができるからである。上記階調マスクの上記透明樹脂層の端部領域に対応する領域のｉ線透過率として具体的には１０％〜５０％程度、中でも１０％〜３５％程度、特に１０％〜３０％程度とされることが好ましい。

また上記反射光用領域に形成される現像後の着色層の膜厚、すなわち透明樹脂層上に形成される着色層の膜厚が、透過光用領域に形成される着色層の膜厚を１とした場合に、０．２〜０．５の範囲内、中でも０．３〜０．３５の範囲内となるように反射光用領域の透過率を調整することが好ましい。上記階調マスクの上記反射光用領域に対応する領域のi線透過率として具体的には１５％〜１００％程度、中でも２０％〜１００％程度とされることが好ましい。

上述したような階調マスクとしては、例えば透明基材と、遮光膜と、透過率調整機能を有する半透明膜とが順不同に積層されたもの等とすることができ、遮光膜が形成されている領域が遮光領域、透明基材上に上記半透明膜のみが形成された領域が半透明領域、透明基材上に遮光膜および半透明膜のいずれも設けられていない領域が透明領域とされる。なお、上記半透明膜は、単層であってもよく、複数の層で構成されていてもよい。また単層の半透明膜内で透過率が段階的に変化しているものであってもよい。半透明膜が複数の層で構成されている場合や、透過率が段階的に変化している場合等には、多階調の階調マスクとすることができる。上記階調マスクに用いられる遮光膜や半透明膜、透明基材等については、一般的な階調マスクに用いられるものと同様とすることができる。

また上記感光性樹脂層を現像する方法としては、特に限定されるものではなく、上記感光性樹脂層の種類に合わせて適宜選択される。このような現像方法については、一般的なカラーフィルタの製造方法において行なわれる方法と同様とすることができる。

なお、本工程において照射するエネルギーや照射条件等については、一般的なカラーフィルタの製造の際に用いられるものと同様のものとすることができる。

３．現像工程
次に、本発明における現像工程について説明する。本発明における現像工程は、上記着色層形成用層を現像する工程であり、不要な着色層形成用層を除去することが可能であれば、その方法等は特に限定されるものではない。本工程により現像を行うことにより、上記透明樹脂層の端部領域上に塗布された着色層形成用層についても、不要な部分を除去することが可能となるのである。

このような現像に用いられる現像液や現像方法等については、一般的なカラーフィルタの製造の際に用いられる方法と同様の方法とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。

４．その他の工程
本発明は、上述した着色層形成用塗工液塗布工程、露光工程、および現像工程以外に必要な工程を適宜有していてもよい。例えば上記カラーフィルタ用基板を形成するカラーフィルタ用基板形成工程や、上記着色層上に配向膜を形成する配向膜形成工程、透明電極層を形成する透明電極層形成工程等が挙げられる。このような各工程については、一般的なカラーフィルタの製造方法の際に行なわれる方法と同様とすることができる。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

以下、本発明について実施例および比較例を用いて具体的に説明する。
[実施例１]
（遮光部の形成）
透明基板として、３００ｍｍ×４００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製１３１７ガラス）を準備した。この透明基板を定法にしたがって洗浄し、透明基板の片側にスパッタ法によりクロム薄膜（厚み１６００Å）を形成した。このクロム薄膜上にポジ型感光性レジスト（東京応化工業（株）製ＯＦＰＲ−８００）を塗布し、所定のマスクを介して露光し、レジストパターンを形成した。次いで、このレジストパターンをマスクとしてクロム薄膜をエッチングし、線幅1０μｍの遮光部を形成した。

（透明樹脂層の形成）
続いて、上記透明基板および遮光部を覆うようにして、下記組成の透明樹脂層形成用塗工液を塗布し、乾燥させた。この透明樹脂層形成用塗工液を、所定のフォトマスクを介して露光し、現像を行った。その後、２３０℃で、３０分間焼成し、透明樹脂層を形成した。この際、表示領域上における透明樹脂層の平均膜厚は、３．５μｍであった。

〈透明樹脂層形成用塗工液〉
・メタクリル酸メチル−スチレン−メタクリル酸共重合体 ・・・４２重量部
・エピコート１８０ｓ７０（三菱油化シェル（株）製） ・・・１８重量部
・ペンタエリスリトールペンタアクリレート ・・・３２重量部
・イルガキュア９０７（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）・・８重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・３００重量部

（赤色着色層の形成）
上記透明樹脂層を覆うように、上記透明基板上に、下記組成の赤色着色層用の着色層形成用塗工液（ネガ型感光性樹脂組成物）をスピンコート法により塗布した。続いて、上記赤色パターン用の階調マスク(透過光用領域上のi線透過率が１００%・透明樹脂層の端部領域上のi線透過率が２０%・反射光用領域上のi線透過率が１００%)を用いて露光、現像した。その後、焼成することにより赤色着色層を形成した。なお、反射光用領域における赤色着色層の平均膜厚は０．９５μｍであり、透過光用領域における赤色着色層の平均膜厚は２．４μｍであった。上記各膜厚は、赤色着色層の断面形状を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等で撮影したものから算出した。

〈赤色着色層形成用塗工液〉
・赤色顔料（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 クロモフタルレッドＡ２Ｂ）
・・・４．８重量部
・黄色顔料（ＢＡＳＦ社製 パリオトールイエローＤ１８１９）・・１．２重量部
・分散剤（ビックケミー社製 ディスパービック１６１）・・・３．０重量部
・モノマー（サートマー社製 ＳＲ３９９） ・・・４．０重量部
・ポリマーＩ ・・・５．０重量部
・イルガキュア９０７（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）・・・１．４重量部
・（２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール） ・・・０．６重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・８０．０重量部
なおポリマーＩは、ベンジルメタクリレート：スチレン：アクリル酸：２−ヒドロキシエチルメタクリレート＝１５．６：３７．０：３０．５：１６．９（モル比）の共重合体１００モル％に対して、２‐メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを１６．９モル％付加したものであり、重量平均分子量は４２５００である。

（緑色着色層の形成）
上記赤色着色層が形成された透明基板上に、下記組成の緑色着色層用の着色層形成用塗工液（ネガ型感光性樹脂組成物）を用いて、赤色着色層と同様の方法により緑色着色層を形成した。なお、反射光用領域における緑色着色層の平均膜厚は０．９５μｍであり、透過光用領域における緑色着色層の平均膜厚は２．４μｍであった。上記膜厚は、緑色着色層の断面形状を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等で撮影したものから算出した。

〈緑色着色層形成用塗工液〉
・緑色顔料（アビシア社製 モナストラルグリーンθＹ−Ｃ）・・・４．２重量部
・黄色顔料（ＢＡＳＦ社製 パリオトールイエローＤ1819）・・・１．８重量部
・分散剤（ビックケミー社製 ディスパービック１６１）・・・３．０重量部
・モノマー（サートマー社製 ＳＲ３９９） ・・・４．０重量部
・ポリマーＩ ・・・５．０重量部
・イルガキュア９０７（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）・・・１．４重量部
・（２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル‐１，２´−ビイミダゾール） ・・・０．６重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・８０．０重量部

（青色着色層の形成）
上記赤色着色層および緑色着色層が形成された透明基板上に、下記組成の青色着色層用の着色層形成用塗工液（ネガ型感光性樹脂組成物）を用いて、赤色着色層と同様の方法により青色着色層を形成した。なお、反射光用領域における青色着色層の平均膜厚は０．９５μｍであり、透過光用領域における青色着色層の平均膜厚は２．４μｍであった。上記膜厚は、青色着色層の断面形状を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等で撮影したものから算出した。

〈青色着色層形成用塗工液〉
・青色顔料（ＢＡＳＦ社製 ヘイオゲンブルーＬ６７００Ｆ）・・・６．０重量部
・顔料誘導体（アビシア社製 ソルスパース６０００） ・・・０．６重量部
・分散剤（ビックケミー社製 ディスパービック１６１）・・・２．４重量部
・モノマー（サートマー社製 ＳＲ３９９） ・・・４．０重量部
・ポリマーＩ ・・・５．０重量部
・イルガキュア９０７（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）・・・１．４重量部
・（２，２´−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４´，５´−テトラフェニル−１，２´−ビイミダゾール） ・・・０．６重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・８０．０重量部

[実施例２]
階調マスクの透明樹脂層の端部領域上のi線透過率を１０%、反射光用領域上のi線透過率を２５%とした以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタを形成した。なお、この際、反射光用領域における赤色着色層、緑色着色層および青色着色層の平均膜厚は０．８０μｍであり、透過光用領域における赤色着色層、緑色着色層および青色着色層の平均膜厚は２．４μｍであった。

[比較例１]
透過光用領域、透明樹脂層の端部領域、および反射光用領域に対応する領域の透過率が１００％のマスクを使用したこと以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタを形成した。なお、この際、反射光用領域における赤色着色層、緑色着色層および青色着色層の平均膜厚は０．９５μｍであり、透過光用領域における赤色着色層、緑色着色層および青色着色層の平均膜厚は２．４μｍであった。

[比較例２]
透明樹脂層の端部領域に対応する領域の透過率が０％、反射光用領域に対応する領域の透過率が１００％のマスクを使用したこと以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタを形成した。なお、この際、反射光用領域における赤色着色層、緑色着色層および青色着色層の平均膜厚は０．９５μｍであり、透過光用領域における赤色着色層、緑色着色層および青色着色層の平均膜厚は２．４μｍであった。

[評価]
透明樹脂層の端部領域に対応する領域が半透明領域とされたフォトマスクを用いて露光した実施例１および実施例２では、色むらが生じなかった。一方、比較例１および比較例２では、透過光用領域および反射光用領域の境界で色ムラが生じた。
また実施例１および実施例２では、光漏れも生じていなかった。

本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を説明するための工程図である。 従来の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを説明するための概略断面図である。 従来の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを説明するための概略断面図である。

符号の説明

１ … 透明基板
２ … 透明樹脂層
３ … 着色層

Claims (3)

1. 透明基板と、前記透明基板上にパターン状に形成された透明樹脂層と、前記透明基板および前記透明樹脂層を覆うように形成された着色層とを有し、前記透明基板と前記透明樹脂層と前記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、前記透明基板と前記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、
   前記透明基板および前記透明樹脂層を有するカラーフィルタ用基板上に、前記透明基板および前記透明樹脂層を覆うように着色層形成用塗工液を塗布し、着色層形成用層を形成する着色層形成用塗工液塗布工程と、
   前記着色層形成用層を、前記透明樹脂層の端部領域に対応する領域が半透明領域とされた階調マスクを介して露光する露光工程と、
   前記着色層形成用層を現像する現像工程と
   を有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
2. 前記露光工程に用いられる階調マスクが、前記反射光用領域に対応する領域も半透明領域とされていることを特徴とする請求項１に記載の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
3. 前記露光工程に用いられる階調マスクの、前記透明樹脂層の前記端部領域に対応する領域の透過率と、前記反射光用領域に対応する領域の透過率とが異なることを特徴とする請求項２に記載の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。

Images