JP2009258329A - 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本発明は、透明基板と、上記透明基板上の反射光用領域に形成された透明樹脂層と、上記透明樹脂層上に形成された反射光用着色層および上記透明基板上の透過光用領域に形成された透過光用着色層を含む着色層とを有するカラーフィルタ用基板の、上記透明基板および上記着色層を覆うように感光性樹脂を含有する感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光および現像し、柱状スペーサ、および上記反射光用着色層または上記透過光用着色層上に光路差調整層を同時に形成するスペーサ・光路差調整層形成工程とを有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。
【選択図】図1
Description
以下、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の各工程について詳しく説明する。
まず、本発明における感光性樹脂層形成工程について説明する。本工程は、透明基板と、上記透明基板上の反射光用領域に形成された透明樹脂層と、上記透明樹脂層上に形成された反射光用着色層および上記透明基板上の透過光用領域に形成された透過光用着色層を含む着色層とを有するカラーフィルタ用基板の、上記透明基板および上記着色層を覆うように感光性樹脂を含有する感光性樹脂層を形成する工程である。本発明においては、例えば透明基板および着色層の全面を覆うように感光性樹脂層を形成してもよく、また透明基板および着色層の一部を覆うように感光性樹脂層を形成してもよい。
次に、本発明におけるスペーサ・光路差調整層形成工程について説明する。本工程は、上記感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光および現像し、柱状スペーサ、および上記反射光用着色層または透過光用着色層上に光路差調整層を形成する工程であり、本工程により、高さの異なる柱状スペーサと光路差調整層とが一括して形成されることとなる。
本発明は、上述した感光性樹脂層形成工程、およびスペーサ・光路差調整層形成工程以外に必要な工程を適宜有していてもよい。例えば上記カラーフィルタ用基板を形成するカラーフィルタ用基板形成工程や、上記スペーサ・光路差調整形成工程後に、上記着色層上に配向膜を形成する配向膜形成工程、透明電極層を形成する透明電極層形成工程等が挙げられる。このような各工程については、一般的なカラーフィルタの製造方法の際に行なわれる方法と同様とすることができる。
(階調マスクの作製)
光学研磨された390mm×610mmの合成石英基板上にクロム膜(遮光膜)が厚み100nmで成膜されている常用のマスクブランク上に、市販のフォトレジスト(東京応化工業社製 ip−3500)を厚み600nmで塗布し、120℃に加熱されたホットプレートで15分ベークした後、フォトマスク用レーザ描画装置(マイクロニック社製 LRS11000−TFT3)で、所望の遮光膜中間パターンを描画した。
次に、専用のデベロッパー(東京応化工業社製 NMD3)で現像し、遮光膜用レジストパターンを得た。
次に、レジストパターンをエッチング用マスクとし、クロム膜をエッチングし、さらに残ったレジストパターンを剥膜することで、所望の遮光膜中間パターンを得た。クロム膜のエッチングには、市販の硝酸セリウム系ウェットエッチャント(ザ・インクテック社製 MR−ES)を用いた。クロム膜のエッチング時間は、60秒であった。
<成膜条件>
・ガス流量比 Ar:CO2:N2=1:5:1
・パワー:1.3kW
・ガス圧:3.5mTorr
酸化窒化炭化クロム膜の膜厚は35nmとした。
次に、酸化窒化炭化クロム膜上に市販のフォトレジスト(東京応化製 ip−3500)を再度、厚み600nmで塗布し、120℃に加熱されたホットプレート上で15分ベークした。
続いて半透明膜パターンとなる像を再度、レーザ描画装置(マイクロニック社製 LRS11000−TFT3)で描画し、専用デベロッパー(東京応化社製 NMD3)で現像し、レジストパターンを得た。
次に、レジストパターンをマスクとして、市販の硝酸セリウム系ウェットエッチャント(ザ・インクテック社製 MR−ES)で半透明膜および遮光膜をエッチングし、半透明膜パターンおよび遮光膜パターンを得た。エッチングは半透明膜および遮光膜に対して行った。
最後に残ったレジストを剥膜し、パターン寸法検査、パターン欠陥検査などの検査工程を経て、必要に応じてパターン修正を行い、階調マスクを得た。
基板として、大きさが100mm×100mm、厚みが0.7mmのガラス基板(コーニング社製1737ガラス)を準備した。この基板を定法にしたがって洗浄した後、基板の片側全面にスパッタリング法によりクロム薄膜(厚み1000Å)を形成した。このクロム薄膜上にポジ型感光性レジスト(東京応化工業(株)製 OFPR−800)を塗布し、所定のマスクを介して露光、現像してレジストパターンを形成した。次いで、このレジストパターンをマスクとして、クロム薄膜をエッチングして、線幅20μm、ピッチ100μmのブラックマトリックスを形成した。
・メタクリル酸メチル−スチレン−メタクリル酸共重合体 42重量部
・エピコート180s70(三菱油化シェル(株)製) 18重量部
・ペンタエリスリトールペンタアクリレート 32重量部
・イルガキュア907(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製) 8重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 300重量部
・赤顔料(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 クロモフタルレッドA2B)
4.8重量部
・黄顔料(BASF社製 パリオトールイエローD1819) 1.2重量部
・分散剤(ビックケミー社製ディスパービック161) 3.0重量部
・モノマー(サートマー社製 SR399) 4.0重量部
・ポリマーI 5.0重量部
・開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア907)
1.4重量部
・開始剤(2,2´−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4´,5´−テトラフェニル−1,2´−ビイミダゾール) 0.6重量部
・溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート) 80.0重量部
・緑顔料(アビシア社製 モナストラルグリーン9Y−C) 4.2重量部
・黄顔料(BASF社製 パリオトールイエローD1819) 1.8重量部
・分散剤(ビックケミー社製ディスパービック161) 3.0重量部
・モノマー(サートマー社製 SR399) 4.0重量部
・ポリマーI 5.0重量部
・開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア907)
1.4重量部
・開始剤(2,2´−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4´,5´−テトラフェニル−1,2´−ビイミダゾール) 0.6重量部
・溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート) 80.0重量部
・青顔料(BASF社製 ヘリオゲンブルーL6700F) 6.0重量部
・顔料誘導体(アビシア社製 ソルスパース5000) 0.6重量部
・分散剤(ビックケミー社製ディスパービック161) 2.4重量部
・モノマー(サートマー社製 SR399) 4.0重量部
・ポリマーI 5.0重量部
・開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア907)
1.4重量部
・開始剤(2,2´−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4´,5´−テトラフェニル−1,2´−ビイミダゾール) 0.6重量部
・溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート) 80.0重量部
<露光条件>
・露光量:60mJ/cm2(I線換算)
・露光ギャップ:150μm
(マスクの作製)
スペーサ露光用、及び光路差調整層露光用の計2種のマスクを、実施例1と同様の条件にて、石英基板上に成膜されたクロム膜のみをパターニングすることで作製した。
実施例1と同様にして、ブラックマトリクス、透明樹脂層及び着色層を形成したガラス基板上に、ネガ型感光性樹脂組成物(JSR製 オプトマーNN850)をスピンコート法により塗布し、減圧乾燥後、100℃にて3分間プリベークした。その後、光路差調整層露光用のマスクを介して下記条件にて露光した。
・露光量:60mJ/cm2(I線換算)
・露光ギャップ:150μm
・露光量:60mJ/cm2(I線換算)
・露光ギャップ:150μm
実施例1、比較例1にて作製したカラーフィルタを用いて液晶表示装置を作製し、点灯表示したところ、ともに反射表示、透過表示それぞれギャップ異常なく均一な表示が可能であった。
2 … 透明樹脂層
3 … 着色層
3t…透過光用着色層
3r…反射光用着色層
4 … 光路差調整層
5 … 柱状スペーサ
Claims (1)
- 透明基板と、前記透明基板上の反射光用領域に形成された透明樹脂層と、前記透明樹脂層上に形成された反射光用着色層および前記透明基板上の透過光用領域に形成された透過光用着色層を含む着色層とを有するカラーフィルタ用基板の、前記透明基板および前記着色層を覆うように感光性樹脂を含有する感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、
前記感光性樹脂層を、階調マスクを用いて露光および現像し、柱状スペーサ、および前記反射光用着色層または前記透過光用着色層上に光路差調整層を同時に形成するスペーサ・光路差調整層形成工程と
を有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008106439A JP2009258329A (ja) | 2008-04-16 | 2008-04-16 | 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 |
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JP2009258329A true JP2009258329A (ja) | 2009-11-05 |
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ID=41385854
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JP2008106439A Pending JP2009258329A (ja) | 2008-04-16 | 2008-04-16 | 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010266579A (ja) * | 2009-05-13 | 2010-11-25 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ基板 |
CN104101929A (zh) * | 2013-04-01 | 2014-10-15 | 株式会社科西纳 | 变迹滤光器及其制造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007078718A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-29 | Dainippon Printing Co Ltd | 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタおよび半透過型液晶表示装置 |
JP2008046624A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-28 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
-
2008
- 2008-04-16 JP JP2008106439A patent/JP2009258329A/ja active Pending
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