KR100662781B1 - 액정표시소자의 컬러필터기판 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 공정을 단순화하여 생산력을 향상시킬 수 있는 액정표시소자의 제조방법에 관한 것으로, 투명한 기판을 준비하는 단계와, 상기 기판 상에 블랙매트릭스를 형성하는 단계와, 상기 블랙매트릭스 상에 스페이서를 형성하는 단계와, 상기 기판 위에 컬러필터를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 액정표시소자의 컬러필터 제조방법을 제공한다.

Description

액정표시소자의 컬러필터기판 제조방법{METHOD OF BABRICATING A COLOR FILTER SUBSTRATE OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}

도 1은 일반적인 액정표시소자의 단면도.

도 2a∼도 2f는 종래 액정표시소자의 컬러필터기판의 제조방법을 나타낸 공정단면도.

도 3a∼도 3e는 본 발명에 의한 컬러필터기판의 제조방법을 나타낸 공정단면도.

도 4a∼4f는 본 발명에 의한 컬러필터의 형성방법을 나타낸 공정단면도.

도 5는 본 발명에 의한 다른 컬러필터의 형성방법을 나타낸 공정 단면도.

도 6은 본 발명에 의한 컬러필터기판을 나타낸 평면도.

*** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ***

121: 투명기판 122: 블랙매트릭스

123a: R 컬러필터 123b: G 컬러필터

123c: B 컬러필터 127: 스페이서

본 발명은 액정표시소자의 제조방법에 관한 것으로, 특히 공정을 단순화하고 제조비용을 절감하여 생산력을 향상시킬 수 있는 액정표시소자의 컬러필터기판 제조방법에 관한 것이다.

근래, 핸드폰(Mobile Phone), PDA, 노트북컴퓨터와 같은 각종 휴대용 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 경박단소용의 평판표시장치(Flat Panel Display Device)에 대한 요구가 점차 증대되고 있다. 이러한 평판표시장치로는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등이 활발히 연구되고 있지만, 양산화 기술, 구동수단의 용이성, 고화질의 구현이라는 이유로 인해 현재에는 액정표시소자(LCD)가 각광을 받고 있다.

도 1은 일반적인 액정표시소자의 단면을 개략적으로 나타낸 것이다. 도면에 도시한 바와 같이, 액정표시소자(1)는 하부기판(5)과 상부기판(3) 및 상기 하부기판(5)과 상부기판(3) 사이에 형성된 액정층(7)으로 구성되어 있다. 하부기판(5)은 구동소자 어레이(Array)기판으로써, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 하부기판(5)에는 복수의 화소가 형성되어 있으며, 각각의 화소에는 박막트랜지스터(Thin Film Transistor)와 같은 구동소자가 형성되고, 상부기판(3)은 컬러필터(Color Filter)기판으로써, 실제 칼라를 구현하기 위한 컬러필터층이 형성되어 있다. 또한, 상기 하부기판(5) 및 상부기판(3)에는 각각 화소전극 및 공통전극이 형성되어 있으며 액정층(7)의 액정분자를 배향하기 위한 배향막이 도포되어 있다.

상기 하부기판(5) 및 상부기판(3)은 기판의 외곽에 형성된 실런트(sealant;미도시)에 의해 합착되며, 이들(상부기판 및 하부기판) 사이에 형성된 스페이서(spacer;미도시)에 의해 일정한 셀갭을 유지한다. 그리고, 상기 기판들(3,5) 사이에 형성된 액정층(7)이 상기 하부기판(5)에 형성된 구동소자에 의해 액정분자를 구동하여 액정층을 투과하는 광량을 제어함으로써 정보를 표시하게 된다.

상기와 같이 구성된 액정표시소자는 하부기판(5)에 구동소자를 형성하는 구동소자 어레이기판공정에 의해서 형성되고, 상기 상부기판(3)은 컬러필터를 형성하는 컬러필터기판공정에 의해서 형성된다. 이후에, 스페이서 및 실런트형성공정을 통해 액정표소자가 완성된다.

구동소자 어레이기판공정은 하부기판(5)상에 배열되어 화소영역을 정의하는 복수의 게이트라인(Gate Line) 및 데이터라인(Date Line)을 형성하고 상기 화소영역 각각에 상기 게이트라인과 데이터라인에 접속되는 구동소자인 박막트랜지스터(9)를 형성한 후, 박막트랜지스터에 접속되어 박막트랜지스터를 통해 신호가 인가됨에 따라 액정층을 구동하는 화소전극(6)을 형성함으로써 이루어진다.

또한, 컬러필터기판 공정은 상부기판(3)에 블랙매트릭스를 형성한 후, 그 상부에 R(red), G(green), B(blue) 색상의 컬러필터(2)를 형성한 다음, 그 위에 공통전극(4)을 한다.

그리고, 상기 스페이서는 볼(ball) 또는 칼럼(colum)으로 형성할 수 있으며, 상기 볼스페이서는 산포방식에 의해 형성되고, 상기 칼럼스페이서는 기판에 유기 고분자 물질을 증착 또는 코팅한 후, 이를 선택적으로 제거하는 사진식각공정에 의해 형성된다.

그러나, 산포방식은 빛이 투과하는 화소영역에도 스페이서가 존재하기 때문에 액정의 배향을 방해하고 개구율을 저하시키게 된다. 따라서, 이를 개선하기 위하여, 원하는 위치에 패터닝된 스페이서를 형성하는 칼럼스페이서가 제안되었다.

R,G,B,색상으로 이루어지는 컬러필터를 제조하는 방법으로는 안료분산법, 전착법등이 있으며, 안료분산법은 포토레지스트에 분산된 안료조성물을 코팅, 노광, 현상 및 소성함으로써 컬러필터기판을 형성하는 방법으로, 도 2a 및 도 2b를 참조하여 상기 안료분산법에 따른 컬러필터기판을 제조하는 방법을 살펴보기로 한다.

먼저, 도 2a에 도시된 바와 같이, 기판(21)위에 크롬과 같은 불투명물질을 증착한 다음, 포토리소그래피(photolithography) 공정을 이용하여 블랙매트릭스 패턴(22)을 형성한다. 이어서, 도 2b에 도시된 바와 같이, 적색(R) 컬러필터층 형성용 조성물(23)을 코팅한 다음, 포토마스크(25)를 이용하여 소정영역만을 노광한 다음, 이를 현상하여, 도 2c에 도시된 바와 같이, R 컬러필터층(23a)을 형성한다. 이후에, R 컬러필터층 형성용 조성물 대신, 녹색(G) 및 청색(B) 컬러필터층 형성용 조성물을 이용하여 상기 과정을 반복함으로써, 도 2d에 도시된 바와 같이, G,B색상의 컬러필터층(23b,23c,23d)을 각각 형성하여, R,G,B컬러필터층(23)을 제작한다.

이어서, 도 2e에 도시된 바와 같이, 상기 컬러필터층(23)의 평탄화를 위해 컬러필터층(23) 전면에 유기물질을 코팅한 후, 패터닝하여 오버코트막(over coat layer; 26)을 형성한 다음, 도 2f에 도시된 바와 같이, 오버코트막(26) 위에 스페이서(27)를 형성한다. 이때, 상기 스페이서(27)는 블랙매트릭스(22)와 대응하는 위치에 형성하며, 상기 오버코트막(26) 위에 유기물질을 도포한 다음, 포토리소그래피 공정을 통해 패터닝함으로써, 스페이서(27)를 형성하게 된다.

살펴본 바와 같이, 종래 컬러필터기판은 블랙매트릭스와, R,G,B 컬러필터와, 오버코트막과, 스페이서 형성공정을 통해 제작되어 있다. 그러나, 공정수의 증가는 공정시간 및 공정비가 증가로 인한 생산성 저하를 의미한다. 따라서, 공정의 횟수를 최소한으로 줄여 생산성을 높일 수 있는 컬러필터기판의 제작기술이 필요하다.

따라서, 본 발명의 목적은 컬러필터기판의 공정수를 줄임으로써, 공정시간 단축 및 생산성 향상을 꾀할 수 있는 액정표시소자의 컬러필터기판 제조방법을 제공하는 데 있다.

기타 본 발명의 목적 및 특징은 이하의 발명의 구성 및 특허청구범위에서 상세히 기술될 것이다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 컬러필터기판 제조방법은 투명한 기판을 준비하는 단계와, 상기 기판 상에 블랙매트릭스를 형성하는 단계; 상기 블랙매트릭스 상에 스페이서를 형성하는 단계와, 상기 기판 위에 컬러필터를 형성하는 단계를 포함하여 이루어진다.

상기 상기 블랙매트릭스를 형성하는 단계는 상기 투명한 기판 상에 크롬(Cr) 또는 크롬산화(CrOx)같은 금속층을 형성한 후, 상기 금속층에 상에 포토레지스를 도포하는 단계와, 상기 포토레지스트 상부에 패턴을 남기고자 하는 영역에 빛의 비투과영역이 마련된 마스크를 블로킹(blocking)하여, 자외선을 조사하는 단계와, 상기 자외선이 조사된 포토레지스트를 현상하여 자외선이 조사된 영역에 남아있는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트 패턴을 마스크층으로 하여 상기 금속층을 형성함으로써, 금속패턴을 형성하는 단계로 이루어진다.

상기 스페이서를 형성하는 단계는 상기 블랙매트릭스가 형성된 기판 전면에 유기막을 도포하는 단계와, 상기 유기막에 상부에 패턴을 남기고자 하는 영역에 빛의 비투과영역이 마련된 마스크를 블로킹(blocking)하여, 자외선을 조사하는 단계와, 상기 자외선이 조사된 유기막을 현상하여 블랙매트릭스 상부에 위치하는 유기막 패턴을 형성하는 단계로 이루어진다.

상기 컬러필터를 형성하는 단계는 상기 블랙매트릭스와 스페이서를 포함하는 기판 전면에 R 컬러필터 형성용 수지를 도포하는 단계와, 상기 R 컬러필터 형성용 수지막 위에 패턴을 남기고자 하는 영역에 빛의 비투과영역이 마련된 마스크를 블러킹하여, 자외선을 조사하는 단계와, 상기 자외선을 조사된 R 컬러필터 형성용 수지막을 현상하여 자외선이 조사된 영역에 남아있는 R 컬러필터를 형성하는 단계와, 상기 블랙매트릭스와 스페이서와 R 컬러필터가 형성된 기판 전면에 G 컬러필터 형성용 수지를 도포하는 단계와, 상기 G 컬러필터 형성용 수지막 위에 패턴을 남기고자 하는 영역에 빛의 비투과영역이 마련된 마스크를 블로킹하여, 자외선을 조사하는 단계와, 상기 자외선을 조사된 G 컬러필터 형성용 수지막을 현상하여 자외선이 조사된 영역에 남아있는 G 컬러필터를 형성하는 단계와, 상기 블랙매트릭스와 스페이서와 R 및 G 컬러필터가 형성된 기판 전면에 B 컬러필터 형성용 수지를 도포하는 단계와, 상기 B 컬러필터 형성용 수지막 위에 패턴을 남기고자 하는 영역에 빛의 비투과영역이 마련된 마스크를 블로킹하여, 자외선을 조사하는 단계와, 상기 자외선을 조사된 B 컬러필터 형성용 수지막을 현상하여 자외선이 조사된 영역에 남아있는 B 컬러필터를 형성하는 단계를 포함하여 이루어진다.

아울러, 상기 컬러필터는 잉크젯방식을 통해 형성될 수도 있으며, 잉크젯방식을 통해 컬러필터 형성방법은 이루어진다.

컬러필터가 형성될 영역에만, R,G,B컬러필터 형성용 잉크를 적하함으로써 컬러필터를 형성하는 것으로, 컬러필터 잉크를 적하하는 단계는 R컬러필터 잉크를 적하한 다음, G,B 칼라잉크를 반복하여 적하하거나, R,G,B 컬러필터 잉크가 동시에 적할 수 있다. R,G,B 잉크를 동시에 적하하는 경우, 컬러필터 공정시간을 1/3로 줄일 수 있다.

위와 같은 바와 같은 제조방법을 통해 제작된 컬러필터기판은 투명한 기판 위에 종횡으로 배열되어 복수의 화소영역을 정의하는 블랙매트릭스와, 상기 블랙매트릭스 상부에 직접 접촉되어 형성된 스페이서와, 상기 화소영역에 형성된 컬러필터를 포함하여 구성된다. 이때, 스페이서는 블랙매트릭스의 교차영역에 위치하게 된다.

상기한 바와 같이, 본 발명은 블랙매트릭스 상부에 바로 스페이서를 형성하고, 상기 블랙매트릭스 사이에 노출된 기판 이에 컬러필터를 형성하게 된다. 따라서, 종래 오버코트막 공정을 생략할 수 있으며, 이에 따라, 공정시간 단축 및 생산성을 향상시킬 수가 있다. 즉, 종래에는 기판 위에 블랙매트릭스를 형성한 다음, 그 상부에 컬러필터 형성한 후, 컬러필터의 평탄화를 위하여 별도의 오버코트막을 형성하고, 오버코트막 위에 스페이서를 형성하였다. 반면에, 본 발명에서는 블랙매트릭스 위에 스페이서를 직접 형성한 후, 컬러필터를 형성함으로써, 오버코트막을 형성하지 않고도, 컬러필터기판을 제작할 수가 있다.

이하, 첨부된 도면을 통해 본 발명에 의한 액정표시소자의 컬러필터 제조방법을 상세하게 설명하도록 한다.

도 3a ∼도 3d는 본 발명에 의한 액정표시소자의 컬러필터기판 제조방법을 나타낸 공정 단면도이다.

우선, 도 3a에 도시한 바와 같이, 유리 또는 플라스틱과 같은 절연특성을 지닌 투명한 기판(121)을 준비한 후, 그 상부에 Cr 또는 CrOx와 같은 반사특성이 우수한 불투명 금속막(122')을 증착한 다음, 불투명 금속물질층(122') 위에 포토레지스트(130')을 도포한다. 이어서, 빛에 대한 비투과영역이 선택적으로 형성된 제1마스크(125a)로 상기 포토레지스트(130)을 블로킹(blocking)한 다음 자외선(도면 상의 화살표)을 조사한다.

이후에, 도 3b에 도시한 바와 같이, 자외선이 조사된 포토레지스트(130')을 현상하여 불투명 금속막(122') 위에 선택적으로 잔류하는 포토레지스트패턴(130)을 형성한다. 이때, 자외선이 조사되지 않은 영역은 현상액에 의해서 제거되기 때문에, 포토레지스트 패턴(130)은 자외선이 조사된 영역에 형성된다. 한편, 자외선 이 조사되지 않은 영역에 잔류하는 포토레지스트를 사용할 수도 있다.

이어서, 금속막(122') 위에 선택적으로 잔류하는 포토레지스트패턴(130)을 마스크로 하여 금속막(122')을 식각한 후, 상기 포토레지스트패턴(130)을 제거함으로써, 패턴화된 금속막 즉, 블랙매트릭스(122)를 형성한다.

그 후, 도 3c에 도시된 바와 같이, 상기한 바와 같이, 블랙매트릭스(122)가 형성된 투명기판(121) 전면에 걸쳐서 스페이서 형성용물질(127')을 도포한 다음, 빛에 대한 비투과영역이 선택적으로 형성된 제2마스크(125b)를 통해 상기 스페이서 형성용막(127')을 블로킹하여 자외선을 조사한다. 이어서, 자외선을 조사된 스페이서 형성용막(127')을 현상함으로써, 도 3d에 도시된 바와 같이, 블랙매트리스(122) 위에 위치하는 스페이서(127)를 형성한다. 이때, 상기 스페이서(127)는 감광성수지와 같은 유기물질을 사용하며, 이것은 네거티브 포토레지스트 특성을 가지 때문에, 자외선이 조사된 영역에 패턴을 남기게된다.

그 다음으로, 도 3e에 도시된 바와 같이, 블랙매트릭(122) 및 스페이서(127')가 형성된 기판(121)에 R(red),G(green),B(blue) 컬러필터층(123)을 형성함으로써, 컬러필터기판을 완성한다.

이때, 상기 컬러필터(123)은 마스크를 이용한 안료분산법 또는 잉크젯방식을 통해 형성할 수 있다.

도 4a∼도 4f는 통해 안료분산법에 의한 컬러필터 형성방법을 나타내 것이고, 도 5a ∼도 5c는 잉크젯방식을 이용한 컬러필터 형성방법을 나타낸 것이다.

먼저, 안료분산법을 이용한 컬러필터의 형성방법을 설명한다.

우선, 도 4a에 도시된 바와 같이, 블랙매트릭스(122) 및 스페이서(127)가 형성된 기판 상부에 R 컬러필터 형성용 수지막(123a')을 도포한 후, 빛에 대한 비투과영역이 선택적으로 형성된 마스크(125c)로 상기 R 컬러필터 형성용 수지막(123a')을 블로킹(blocking)한 다음 자외선(도면 상의 화살표)을 조사한다. 이어서, 자외선이 조사된 R 컬러필터 형성용 수지막(123a')을 현상하여 도 4b에 도시한 바와 같이, 기판(121) 위에 선택적으로 잔류하는 R 컬러필터(123a)를 형성한다. 이때, 자외선이 조사되지 않은 영역은 현상액에 의해서 제거되기 때문에, R 컬러필터(123a)는 자외선이 조사된 영역에 형성된다. 한편, 자외선이 조사되지 않은 영역에 잔류하는 R 컬러필터 형성용 수지를 사용할 수도 있다.

이후에, 도 4c에 도시한 바와 같이, 상기 블랙매트릭스(122)와 스페이서(127) 그리고, R 컬러필터(123a)가 형성된 기판(121) 상부에 G 컬러필터 형성용 수지막(123b')을 도포한 후, 빛에 대한 비투과영역이 선택적으로 형성된 마스크(125d)로 상기 G 컬러필터 형성용 수지막(126b)을 블로킹(blocking)한 다음 자외선(도면 상의 화살표)을 조사한다. 그 다음, 자외선이 조사된 G 컬러필터 형성용 수지막(123b')을 현상하여 도 4d에 도시한 바와 같이, 기판(121) 위에 선택적으로 잔류하는 G 컬러필터(123b)를 형성한다. 이때, 자외선이 조사되지 않은 영역은 현상액에 의해서 제거되기 때문에, G 컬러필터(123a)는 자외선이 조사된 영역에 형성되며, 이때에도 자외선이 조사되지 않은 영역에 잔류하는 G 컬러필터 형성용 수지를 사용할 수도 있다.

그리고 나서, 도 4e에 도시한 바와 같이, 블랙매트릭스(122)와 스페이서(127), R 컬러필터(123a), 그리고, G 컬러필터(123b)가 형성된 기판(121) 상부에 B 컬러필터 형성용 수지막(123c')을 도포한 후, 빛에 대한 비투과영역이 선택적으로 형성된 마스크(125e)로 상기 B 컬러필터 형성용 수지막(126c')을 블로킹(blocking)한 다음 자외선(도면 상의 화살표)을 조사한다. 이어서, 자외선이 조사된 B 컬러필터 형성용 수지막(123c')을 현상함으로써, 도 4f에 도시한 바와 같이, 기판(121) 위에 선택적으로 잔류하는 B 컬러필터(123c)를 형성한다. 이때에도, 자외선이 조사되지 않은 영역은 현상액에 의해서 제거되고, 자외선이 조사된 영역에 B 컬러필터(123c)가 형성된다.

그러나, 상기와 같은 안료분산법에 의한 컬러필터의 제조공정은 안료를 수지에 분산한 후, 이것을 도포한 후 각각의 R,G,B별로 패턴화하는 단계로 이루어지는 것으로, 안료를 포함하는 수지를 도포하는 단계로부터 각 패턴을 형성시키는 단계까지의 공정이 적색과 녹색 및 청색에 대해서 각각 반복되어지게 되므로써 제조공정의 시간이 오래 걸리고 경비가 증가되는 문제점이 있었다. 또한, 각각의 R, G, B 컬러필터를 형성하기 위해서는 기판 전체에 걸쳐 컬러필터수지를 도포한 후, 필요한 부분만 남기고 그 외의 부분은 제거하게 되는데, 이때, 필요한 부분인 1/3정도만 남기고, 2/3은 제거해야 하기 때문에 안료의 낭비가 심한 단점이 있다.

따라서, 상기와 같은 안료분산법의 단점을 보완하여 필요한 부분에만 컬러필터를 형성하는 잉크젯방식이 제안되었다.

도 5는 잉크젯방식에 의한 컬러필터 제조공정을 타나낸 것으로, 도면에 도시된 바와 같이, 블랙매트릭스(122) 및 그 상부에 스페이서(127)가 형성된 기판(121)에 잉크젯 장치의 분사노즐(160)을 통해 각각의 칼라별 잉크(123')를 R, G, B 순으로 반복하여 적하시킴으로써, 컬러필터(123)를 형성할 수 있다. 이때, 블랙매트릭스(122)는 잉크가 이웃 화소로 흘러넘치는 것을 막아주는 격벽 역할을 한다. 아울러, R,G,B 칼라잉크를 동시에 적하할 수도 있으며, 이러한 경우, 공정시간을 1/3로 단축시킬 수가 있다.

이와 같은 잉크젯 공정은 R,G,B 각 색에 대하여 필요한 영역에만 칼라잉크를 도포하기 때문에, 패터닝공정이 필요없으며, 잉크낭비를 막을 수 있기 때문에 공정시간을 단축시키고, 재료비를 절감할 후 있는 잇점이 있다.

상기와 같은 제조공정을 통해 제작된 액정표시소자의 컬러필터기판은 투명한 기판(121) 위에 형성된 블랙매트릭스(122)와, 상기 블랙매트릭스(122)와 상에 직접 형성된 스페이서(127)와, 컬러필터(123)로 구성된다.

이때, 상기 블랙매트릭스(122)는 도 6에 도시된 바와 같이, 종횡으로 배열된 격자구조를 가지며, 상기 블랙매트릭스(122)에 의해 구획된 영역에는 컬러필터(123)가 형성된다. 또한, 스페이서(127)는 종횡방향으로 배치된 블랙매트릭스(122)의 교차영역에 위치한다. 이때, 스페이서(127)는 블랙매트릭스(122)의 모든 교차영역에 형성되거나, 일부 선택된 영역에만 형성될 수 있다. 또한, 교차영역이 아닌 다른 영역에도 형성될 수 있다. 다면, 상기 스페이서(127)는 블랙매트릭스(122) 상에 형성되어야 한다.

살펴본 바와 같이, 본 발명은 블랙매트릭스를 형성하고, 그 위에 바로 스페이서를 형성한 다음, 블랙매트릭스에 의해 정의된 화소영역에 컬러필터를 형성함으로써, 컬러필터기판의 공정을 단순화할 수 있다. 즉, 종래에는 블랙매트릭스 형성이후, 컬러필터 및 오버코트막을 형성한 다음, 그 상부에 스페이서를 형성하는 반면, 본 발명에서는 오버코트막 공정을 생략하고, 컬러필터기판을 제작할 수 있다.

상술한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 컬러필터기판 형성시, 블랙매트릭스를 형성한 후, 그 위에 스페이서를 형성하고, 그 다음 공정으로 컬러필터를 형성함으로써, 종래 오버코막 형성공정을 생략할 수 있으며, 공정시간을 단축시키고, 생산성을 향상을 꾀할 수 있다.

Claims (10)

1. 삭제
2. 삭제
3. 투명한 기판을 준비하는 단계;

   상기 기판 상에 종횡으로 배열되어 복수의 화소영역을 정의하며, 금속물질로 이루어진 블랙매트릭스를 형성하는 단계;

   상기 블랙매트릭스가 형성된 기판 상에 유기물질을 도포하여 유기막을 형성하는 단계;

   상기 유기막 상부의 패턴을 남기고자 하는 영역에 빛의 비투과영역이 마련된 마스크를 블로킹(blocking)한 상태에서 자외선을 조사하는 단계;

   자외선이 조사된 유기막을 현상하여 블랙매트릭스 상부에 스페이서를 형성하는 단계; 및

   상기 화소영역의 블랙매트릭스 사이에 컬러잉크를 적하하여 컬러필터를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 액정표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
4. 제3항에 있어서, 상기 블랙매트릭스를 형성하는 단계는,

   상기 투명한 기판 상에 크롬(Cr) 또는 크롬산화(CrOx)같은 금속층을 형성한 후, 상기 금속층에 상에 포토레지스를 도포하는 단계;

   상기 포토레지스트 상부에 패턴을 남기고자 하는 영역에 빛의 비투과영역이 마련된 마스크를 블로킹(blocking)하여, 자외선을 조사하는 단계;

   상기 자외선이 조사된 포토레지스트를 현상하여 자외선이 조사된 영역에 남아있는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 및

   상기 포토레지스트 패턴을 마스크층으로 하여 상기 금속층을 형성함으로써, 금속패턴을 형성하는 단계로 이루어지는 액정표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
5. 삭제
6. 삭제
7. 제3항에 있어서, 상기 컬러잉크는 잉크젯방식에 의해 블랙매트릭스 사이에 적하되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
8. 제7항에 있어서, 상기 컬러필터를 형성하는 방법은 블랙매트릭스 사이에 R,G,B컬러필터 형성용 컬러잉크를 적하함으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
9. 제8항에 있어서, 상기 R,G,B컬러필터 형성용 컬러잉크를 적하하는 방법은, R 컬러필터 형성용 컬러잉크를 적하한 다음, G,B 컬러필터 형성용 컬러잉크를 순차적으로 적하하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 컬러필터기판 제조방법.
10. 제8항에 있어서, 상기 R,G,B컬러필터 형성용 컬러잉크를 적하하는 방법은, R,G,B 컬러필터 형성용 컬러잉크를 동시에 적하하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 컬러필터기판 제조방법.

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