CN109739030B - 一种显示面板及其制备方法、掩膜板、显示装置 - Google Patents
一种显示面板及其制备方法、掩膜板、显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109739030B CN109739030B CN201910002454.5A CN201910002454A CN109739030B CN 109739030 B CN109739030 B CN 109739030B CN 201910002454 A CN201910002454 A CN 201910002454A CN 109739030 B CN109739030 B CN 109739030B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pattern
- alignment mark
- substrate
- mark pattern
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
本申请公开了一种显示面板及其制备方法、掩膜板、显示装置，用以避免掩膜板对位混淆。本申请公开的显示面板的制备方法包括：利用掩膜板中的第一对位标记图案与衬底基板的第二对位标记图案进行一次对位；采用掩膜板在衬底基板上制作第一膜层的图案，该图案覆盖衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，利用掩膜板中的掩模图形在衬底基板上制作出新的第二对位标记图案；采用第一对位标记图案与衬底基板上制作出新的第二对位标记图案进行一次对位；采用掩膜板在衬底基板上制作第二膜层的图案，该图案覆盖衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，利用掩模图形在衬底基板上制作出新的第二对位标记图案，直至完成采用掩膜板制作出的全部膜层为止。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、掩膜板、显示装置。
背景技术
薄膜场效应晶体管液晶显示器（Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay，TFT-LCD）是当今主流的平板显示设备，显示面板是该显示设备的主要组成，显示面板主要由彩膜基板（Color film，CF）和TFT阵列基板对盒而成，彩膜基板和阵列基板间填充液晶。彩膜基板一般包括：衬底基板、背侧ITO导电膜、黑矩阵、色阻层、平坦化层和隔垫柱，其中色阻层由不同色阻单元排列形成。现有技术在制作彩膜基板时通常采用接近式曝光机，以形成红色色阻单元、蓝色色阻单元以及绿色色阻单元为例，需要在黑矩阵层形成3个色阻层的对位标记以对应制作不同色阻单元，为了减少成本，不同色阻单元的掩膜板通常一样，因此黑矩阵层形成3个色阻层对位标记通常形状相同且具有一定位移，这就会导致曝光机在对位时容易产生混淆，会发生掩膜板无法对位而报警，需要人工进行调试，影响产能嫁动。综上，现有技术利用同一掩膜板制备不重叠的不同膜层的过程中，容易产生对位混淆，影响产能嫁动。
发明内容
本申请实施例提供了一种显示面板及其制备方法、掩膜板、显示装置，用以避免掩膜板对位混淆。
本申请实施例提供的一种显示面板的制备方法，该方法包括：
利用掩膜板中的第一对位标记图案与衬底基板的第二对位标记图案进行一次对位；
采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第一膜层的图案，所述第一膜层的图案覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案；
采用所述掩膜板中的第一对位标记图案与所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案进行一次对位；
采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案，所述第二膜层的图案覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案，直至完成采用所述掩膜板制作出的全部膜层为止。
本申请实施例提供的显示面板制备方法，初始衬底基板上仅包括一个第二对位标记图案，在利用掩膜板完成一次对位以及膜层制作后，形成覆盖所述衬底基板上的第二对位标记图案的膜层，以及在衬底基板上形成新的第二对位标记图案，从而在每次利用掩膜板进行对位之前，衬底基板上仅存之一个可以被识别的第二对位标记图案，从而不会出现掩膜板对位混淆，可以避免对位出错。
可选地，所述第一膜层为第一颜色色阻层，所述第二膜层为第二颜色色阻层；
利用掩膜板中的第一对位标记图案与衬底基板的第二对位标记图案进行一次对位之前，该方法包括：在所述衬底基板上形成第一颜色光刻胶；
采用所述掩膜板中的第一对位标记图案与所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案进行一次对位之前，该方法包括：在所述衬底基板上形成第二颜色光刻胶；
采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案之后，该方法还包括：在所述衬底基板上形成第三颜色光刻胶。
可选地，在所述衬底基板上形成第一颜色光刻胶具体包括：在所述衬底基板上形成第一颜色负性光刻胶；
在所述衬底基板上形成第二颜色光刻胶具体包括：在所述衬底基板上形成第二颜色负性光刻胶；
在所述衬底基板上形成第三颜色光刻胶具体包括：在所述衬底基板上形成第三颜色负性光刻胶。
负性光刻胶的成本较低，选择负性光刻胶作为彩色色阻层的材料从而可以节省显示面板制备工艺成本。
可选地，所述衬底基板包括黑矩阵，所述第二对位标记位于所述黑矩阵对应的区域；
采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案，所述第二膜层的图案覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案，具体包括：采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案，所述第二膜层的图案覆盖所述黑矩阵对应的区域存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述黑矩阵对应的区域制作出新的第二对位标记图案。
将第二对位标记图案设置在黑矩阵对应的区域，工艺简单易于实现并且不会影响显示区的显示效果。
可选地，采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案，所述第二膜层的图案覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案之后，该方法还包括：沿预设方向将所述掩膜板移动预设距离；其中，所述预设距离等于在所述预设方向上所述掩模图形的几何中心与所述第一对位标记的几何中心之间的距离。
本申请实施例提供的一种在根据本申请实施例提供的上述显示面板制备方法中使用的掩膜板，所述掩膜板包括：第一对位标记图案，以及与所述第一对位标记图案不重叠的掩膜图形；所述第一对位标记图案用于：与第二对位标记图案对准，以及形成覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，所述掩膜图形用于在所述衬底基板上形成新的第二对位标记图案。
可选地，所述第一对位标记图案包括：第一透光区，包围所述第一透光区的非透光区，以及包围所述非透光区的第二透光区。
本申请实施例提供的一种显示面板，所述显示面板采用本申请实施例提供的上述显示面板的制备方法制得，所述显示面板包括利用所述掩膜板依次制作出的膜层，每一所述膜层包括第二对位标记图案，按照所述掩膜板依次制作出的膜层的顺序，后制作的所述膜层覆盖先制作的所述膜层的所述第二对位标记图案。
可选地，所述显示面板包括彩膜基板，所述彩膜基板包括黑矩阵和彩色色阻，所述彩色色阻为利用所述掩膜板制作所述膜层，所述第二对位标记图案位于所述黑矩阵的区域。
本申请实施例提供的一种显示装置，包括本申请实施例提供的显示面板。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的一种显示面板制备方法流程示意图；
图2为本申请实施例提供的一种显示面板制备方法中使用的掩膜板的结构示意图；
图3为本申请实施例提供的一种显示面板制备方法中使用的衬底基板的结构示意图；
图4为本申请实施例提供的一种显示面板制备方法中掩膜板与衬底基板一次对位的示意图；
图5为利用本申请实施例提供的一种显示面板制备方法形成第一颜色色组层图案后衬底基板的结构示意图；
图6为利用本申请实施例提供的一种显示面板制备方法形成第二颜色色组层图案后衬底基板的结构示意图；
图7为利用本申请实施例提供的一种显示面板制备方法形成第三颜色色组层图案后衬底基板的结构示意图。
具体实施方式
本申请实施例提供了一种显示面板的制备方法，如图1所示，该方法包括：
S101、利用掩膜板中的第一对位标记图案与衬底基板的第二对位标记图案进行一次对位；
S102、采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第一膜层的图案，所述第一膜层的图案覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案；
S103、采用所述掩膜板中的第一对位标记图案与所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案进行一次对位；
S104、采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案，所述第二膜层的图案覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案，直至完成采用所述掩膜板制作出的全部膜层为止。
本申请实施例提供的显示面板制备方法，初始衬底基板上仅包括一个第二对位标记图案，在利用掩膜板完成一次对位以及膜层制作后，形成覆盖所述衬底基板上的第二对位标记图案的膜层，以及在衬底基板上形成新的第二对位标记图案，从而在每次利用掩膜板进行对位之前，衬底基板上仅存之一个可以被识别的第二对位标记图案，从而不会出现掩膜板对位混淆，可以避免对位出错。
可选地，所述第一膜层为第一颜色色阻层，所述第二膜层为第二颜色色阻层；
利用掩膜板中的第一对位标记图案与衬底基板的第二对位标记图案进行一次对位之前，该方法包括：在所述衬底基板上形成第一颜色光刻胶；
采用所述掩膜板中的第一对位标记图案与所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案进行一次对位之前，该方法包括：在所述衬底基板上形成第二颜色光刻胶；
采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案之后，该方法还包括：在所述衬底基板上形成第三颜色光刻胶。
可选地，在所述衬底基板上形成第一颜色光刻胶具体包括：在所述衬底基板上形成第一颜色负性光刻胶；
在所述衬底基板上形成第二颜色光刻胶具体包括：在所述衬底基板上形成第二颜色负性光刻胶；
在所述衬底基板上形成第三颜色光刻胶具体包括：在所述衬底基板上形成第三颜色负性光刻胶。
负性光刻胶的成本较低，选择负性光刻胶作为彩色色阻层的材料从而可以节省显示面板制备工艺成本。
本申请实施例提供的显示面板制备方法中的掩膜板例如可以是如图2所示的掩膜板，该掩膜板包括第一对位标记图案1以及掩膜板图形2；第一对位标记图案1包括：第一透光区3，包围所述第一透光区3的非透光区4，以及包围所述非透光区4的第二透光区5，其中，非透光区4的图案可以在曝光工艺中与第二对位标记图案完成一次对位，当光刻胶为负性光刻胶，第一透光区以及第二透光区即对应曝光区，曝光、显影工艺后第一透光区以及第二透光区对应的光刻胶保留，从而可以覆盖衬底基板上的第二对位标记图案，掩模图形2对应的区域也为透光区，从而在曝光、显影工艺后掩模图形对应的区域的光刻胶保留，形成新的第二对位标记图案。衬底基板如图3所示，衬底基板8上具有一个第二对位标记图案7。
接下来以彩色色阻层的材料为负性光刻胶为例，对本申请实施例提供的显示面板制备方法进行举例说明，该方法包括：
S201、在衬底基板上形成第一颜色负性光刻胶层；
在衬底基板上形成第一颜色负性光刻胶层具体包括：在衬底基板上涂覆一层第一颜色负性光刻胶，该第一颜色负性光刻胶覆盖衬底基板上的第二对位标记图案；
S202、利用掩膜板中的第一对位标记图案与衬底基板的第二对位标记图案进行一次对位；
掩膜板6中的第一对位标记图案1与衬底基板的第二对位标记图案7对位的示意图如图4所示，图4中第一颜色负性光刻胶层未示出；
S203、采用一次对位后的所述掩膜板，在衬底基板上制作第一颜色色阻层的图案，第一颜色色阻层的图案覆盖衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用掩膜板中的掩模图形在衬底基板上制作出新的第二对位标记图案；
采用如图2所示的掩膜板，对第一颜色负性光刻胶层进行曝光、显影，掩膜板透光区对应的光刻胶保留，如图5所示，第一颜色色阻层的图案包括覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层9，以及新的第二对位标记图案10；
S204、在衬底基板上形成第二颜色负性光刻胶层；
在衬底基板上形成第二颜色负性光刻胶层具体包括：在图5形成的第一颜色色阻层的图案的基础上，在衬底基板上涂覆一层第二颜色负性光刻胶，该第二颜色负性光刻胶覆盖衬底基板上的新的第二对位标记图案；
S205、采用掩膜板中的第一对位标记图案与衬底基板上制作出新的第二对位标记图案进行一次对位；
S206、采用一次对位后的掩膜板，在衬底基板上制作第二颜色色阻层的图案，第二颜色色阻层的图案覆盖衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用掩膜板中的掩模图形在衬底基板上制作出新的第二对位标记图案；
采用如图2所示的掩膜板，对第二颜色负性光刻胶层进行曝光、显影，掩膜板透光区对应的光刻胶保留，如图6所示，第二颜色色阻层的图案包括：覆盖第一颜色负性光刻胶形成的第二对位标记图案10的膜层11，以及新的第二对位标记图案12；
S207、在衬底基板上形成第三颜色负性光刻胶层；
在衬底基板上形成第三颜色负性光刻胶层具体包括：在如图6所示的结构基础上，在衬底基板上涂覆一层第三颜色负性光刻胶，该第三颜色负性光刻胶覆盖衬底基板上的新的第二对位标记图案，即第三颜色负性光刻胶覆盖第二颜色负性光刻胶形成的新的第二对位标记图案12；
S208、采用掩膜板中的第一对位标记图案与衬底基板上制作出新的第二对位标记图案进行一次对位；
S209、采用一次对位后的掩膜板，在衬底基板上制作第三颜色色阻层的图案，第三颜色色阻层的图案覆盖衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用掩膜板中的掩模图形在衬底基板上制作出新的第二对位标记图案；
采用如图2所示的掩膜板，对第三颜色负性光刻胶层进行曝光、显影，掩膜板透光区对应的光刻胶保留，如图7所示，第三颜色色阻层的图案包括：覆盖第二颜色负性光刻胶形成的第二对位标记图案12的膜层13，以及新的第二对位标记图案14。
图2～图7中仅以掩膜板或衬底基板的其中一部分区域为例进行举例说明。第一颜色色阻层、第二颜色色阻层以及第三颜色色阻层例如可以分别为红色色阻层、蓝色色阻层以及绿色色阻层。衬底基板上的初始第二对位标记图案在被第一颜色色阻层的覆盖图案覆盖之后，在制备第二颜色色阻层的过程中，在衬底基板和掩膜板对位之前，初始第二对位标记图案上的第一颜色色阻层的图案还被整层涂覆的第二颜色负性光刻胶覆盖，因此在曝光工艺中该初始对位标记图案不会被识别，同理，被第二颜色色阻层的图案覆盖的第二对位标记图案，在涂覆第三颜色负性光刻胶之后在曝光工艺中该初始对位标记图案不会被识别，即本申请实施例提供的显示面板制备方法，在利用掩膜板对膜层进行图形化的工艺中，仅存在一个可以被识别的第二对位标记图案，从而不会出现掩膜板对位混淆，可以避免对位出错。
当然，形成彩色色阻也可以利用正性光刻胶，相应地，采用的掩膜板的透光区图案和非透光区图案的区域与对负性光刻胶进行图案化采用的掩膜板的透光区图案和非透光区图案的区域相反。第一对位标记图案和第二对位标记图案也可以根据实际需要进行选择。
可选地，所述衬底基板包括黑矩阵，所述第二对位标记位于所述黑矩阵对应的区域；
采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案，所述第二膜层的图案覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案，具体包括：采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案，所述第二膜层的图案覆盖所述黑矩阵对应的区域存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述黑矩阵对应的区域制作出新的第二对位标记图案。
将第二对位标记图案设置在黑矩阵对应的区域，工艺简单易于实现并且不会影响显示区的显示效果。
可选地，采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案，所述第二膜层的图案覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案之后，该方法还包括：沿预设方向将所述掩膜板移动预设距离；其中，所述预设距离等于在所述预设方向上所述掩模图形的几何中心与所述第一对位标记的几何中心之间的距离。
仍以图2所示的掩膜板为例，预设距离等于在所述预设方向X上所述掩模图形2的几何中心与所述第一对位标记1的几何中心之间的距离h。
基于同一发明构思，本申请实施例提供的一种在根据本申请实施例提供的上述显示面板制备方法中使用的掩膜板，如图2所示，所述掩膜板包括：第一对位标记图案1，以及与所述第一对位标记图案1不重叠的掩膜图形2；所述第一对位标记图案1用于：与第二对位标记图案对准，以及形成覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，所述掩膜图形2用于在所述衬底基板上形成新的第二对位标记图案。
利用本申请实施例提供的掩膜板，初始阵列基板上可以仅包括一个第二对位标记图案，在利用掩膜板完成一次对位以及膜层制作后，形成覆盖所述衬底基板上的第二对位标记图案的膜层，以及在衬底基板上形成新的第二对位标记图案，从而在每次利用掩膜板进行对位之前，衬底基板上仅存之一个可以被识别的第二对位标记图案，从而不会出现掩膜板对位混淆，可以避免对位出错。
可选地，如图2所示，所述第一对位标记图案1包括：第一透光区3，包围所述第一透光区3的非透光区4，以及包围所述非透光区4的第二透光区5。
需要说明的是，本申请实施例提供的如图2所示的掩膜板可以用于对负性光刻胶的图形化工艺。掩膜板透光区和非透光区的图案可以根据实际需要进行选择，并且需要根据光刻胶的正性或者负性来确定透光区和非透光区的图案。
本申请实施例提供的一种显示面板，所述显示面板采用本申请实施例提供的上述显示面板的制备方法制得，所述显示面板包括利用所述掩膜板依次制作出的膜层，每一所述膜层包括第二对位标记图案，按照所述掩膜板依次制作出的膜层的顺序，后制作的所述膜层覆盖先制作的所述膜层的所述第二对位标记图案。
本申请实施例提供的显示面板例如可以是如图7所示，所述显示面板包括利用所述掩膜板依次制作出的第一颜色色阻层、第二颜色色阻层以及第三颜色色阻层，第一颜色色阻层的图案包括：覆盖衬底基板上的初始对位标记7的膜层9以及第二对位标记图案10，第二颜色色阻层的图案包括：覆盖第一颜色色组层的图案的第二对位标记图案10的膜层11以及第二对位标记图案12，第三颜色色阻层的图案包括：覆盖第二颜色色组层的图案的第二对位标记图案12的膜层13以及第二对位标记图案14。
可选地，所述显示面板包括彩膜基板，所述彩膜基板包括黑矩阵和彩色色阻，所述彩色色阻为利用所述掩膜板制作所述膜层，所述第二对位标记图案位于所述黑矩阵的区域。
本申请实施例提供的一种显示装置，包括本申请实施例提供的显示面板。本申请实施例提供的显示装置例如可以是手机、电脑、电视等装置。
综上所述，本申请实施例提供的显示面板及其制备方法、掩膜板、显示装置，初始衬底基板上仅包括一个第二对位标记图案，在利用掩膜板完成一次对位以及膜层制作后，形成覆盖所述衬底基板上的第二对位标记图案的膜层，以及在衬底基板上形成新的第二对位标记图案，从而在每次利用掩膜板进行对位之前，衬底基板上仅存之一个可以被识别的第二对位标记图案，从而不会出现掩膜板对位混淆，可以避免对位出错。
显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (8)
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，该方法包括：
利用掩膜板中的第一对位标记图案与衬底基板的第二对位标记图案进行一次对位；
采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第一膜层的图案，所述第一膜层的图案覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案；
采用所述掩膜板中的第一对位标记图案与所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案进行一次对位；
采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案，所述第二膜层的图案覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案，直至完成采用所述掩膜板制作出的全部膜层为止；
所述衬底基板包括黑矩阵，所述第二对位标记位于所述黑矩阵对应的区域；
采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案，所述第二膜层的图案覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案，具体包括：采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案，所述第二膜层的图案覆盖所述黑矩阵对应的区域存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述黑矩阵对应的区域制作出新的第二对位标记图案；
所述第一对位标记图案包括：第一透光区，包围所述第一透光区的非透光区，以及包围所述非透光区的第二透光区。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一膜层为第一颜色色阻层，所述第二膜层为第二颜色色阻层；
利用掩膜板中的第一对位标记图案与衬底基板的第二对位标记图案进行一次对位之前，该方法包括：在所述衬底基板上形成第一颜色光刻胶；
采用所述掩膜板中的第一对位标记图案与所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案进行一次对位之前，该方法包括：在所述衬底基板上形成第二颜色光刻胶；
采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案之后，该方法还包括：在所述衬底基板上形成第三颜色光刻胶。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述衬底基板上形成第一颜色光刻胶具体包括：在所述衬底基板上形成第一颜色负性光刻胶；
在所述衬底基板上形成第二颜色光刻胶具体包括：在所述衬底基板上形成第二颜色负性光刻胶；
在所述衬底基板上形成第三颜色光刻胶具体包括：在所述衬底基板上形成第三颜色负性光刻胶。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，采用一次对位后的所述掩膜板，在所述衬底基板上制作第二膜层的图案，所述第二膜层的图案覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，同时利用所述掩膜板中的掩模图形在所述衬底基板上制作出新的第二对位标记图案之后，该方法还包括：沿预设方向将所述掩膜板移动预设距离；其中，所述预设距离等于在所述预设方向上所述掩模图形的几何中心与所述第一对位标记的几何中心之间的距离。
5.一种在根据权利要求1～4任一项所述的显示面板制备方法中使用的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：第一对位标记图案，以及与所述第一对位标记图案不重叠的掩模图形；所述第一对位标记图案用于：与第二对位标记图案对准，以及形成覆盖所述衬底基板上存在的第二对位标记图案的膜层，所述掩模 图形用于在所述衬底基板上形成新的第二对位标记图案；
所述第一对位标记图案包括：第一透光区，包围所述第一透光区的非透光区，以及包围所述非透光区的第二透光区。
6.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板采用权利要求1～4任一项所述的方法制得，所述显示面板包括利用所述掩膜板依次制作出的膜层，每一所述膜层包括第二对位标记图案，按照所述掩膜板依次制作出的膜层的顺序，后制作的所述膜层覆盖先制作的所述膜层的所述第二对位标记图案。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括彩膜基板，所述彩膜基板包括黑矩阵和彩色色阻，所述彩色色阻为利用所述掩膜板制作所述膜层，所述第二对位标记图案位于所述黑矩阵的区域。
8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求6或7所述的显示面板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910002454.5A CN109739030B (zh) | 2019-01-02 | 2019-01-02 | 一种显示面板及其制备方法、掩膜板、显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910002454.5A CN109739030B (zh) | 2019-01-02 | 2019-01-02 | 一种显示面板及其制备方法、掩膜板、显示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109739030A CN109739030A (zh) | 2019-05-10 |
| CN109739030B true CN109739030B (zh) | 2022-03-01 |
Family
ID=66363210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201910002454.5A Active CN109739030B (zh) | 2019-01-02 | 2019-01-02 | 一种显示面板及其制备方法、掩膜板、显示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN109739030B (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114122230B (zh) * | 2021-11-01 | 2023-08-22 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种掩模板、显示面板以及制作方法 |
| CN117957485A (zh) * | 2022-08-31 | 2024-04-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板及其制备方法、以及显示面板 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2694267B2 (ja) * | 1987-08-17 | 1997-12-24 | カシオ計算機株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
| JP2003084120A (ja) * | 2001-09-14 | 2003-03-19 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| KR20030058213A (ko) * | 2001-12-29 | 2003-07-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 배향막 및 그의 제조방법 |
| CN102681251A (zh) * | 2012-05-14 | 2012-09-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片及其制作方法以及液晶面板和显示装置 |
| CN102681240A (zh) * | 2011-03-11 | 2012-09-19 | 元太科技工业股份有限公司 | 彩色显示装置及其彩色滤光片 |
| CN206400216U (zh) * | 2017-01-03 | 2017-08-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩膜基板及显示装置 |
-
2019
- 2019-01-02 CN CN201910002454.5A patent/CN109739030B/zh active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2694267B2 (ja) * | 1987-08-17 | 1997-12-24 | カシオ計算機株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
| JP2003084120A (ja) * | 2001-09-14 | 2003-03-19 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| KR20030058213A (ko) * | 2001-12-29 | 2003-07-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 배향막 및 그의 제조방법 |
| CN102681240A (zh) * | 2011-03-11 | 2012-09-19 | 元太科技工业股份有限公司 | 彩色显示装置及其彩色滤光片 |
| CN102681251A (zh) * | 2012-05-14 | 2012-09-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片及其制作方法以及液晶面板和显示装置 |
| CN206400216U (zh) * | 2017-01-03 | 2017-08-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩膜基板及显示装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109739030A (zh) | 2019-05-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103487971B (zh) | 彩膜基板、触控显示装置及彩膜基板的制作方法 | |
| CN103605263B (zh) | 一种检测彩膜基板拼接曝光误差的方法以及掩膜板 | |
| US10620472B2 (en) | Display substrate, manufacturing method thereof and display device | |
| US9581906B2 (en) | Device substrate and fabricating method thereof | |
| CN107450224B (zh) | Coa型阵列基板的制备方法 | |
| KR101890130B1 (ko) | 표시 장치의 제조방법 | |
| CN105652527A (zh) | 彩膜基板及其制造方法和显示装置 | |
| CN109739030B (zh) | 一种显示面板及其制备方法、掩膜板、显示装置 | |
| CN104865754A (zh) | 显示面板及其制作方法、显示装置 | |
| CN104808434A (zh) | 基板、掩膜板及显示装置、对位方法 | |
| US20190265544A1 (en) | Mask plate, display substrate and method for manufacturing the same, display panel and display device | |
| CN103092005A (zh) | 玻璃基板的曝光对位方法 | |
| WO2019075900A1 (zh) | 液晶显示面板及其制作方法 | |
| US10509254B2 (en) | Method for manufacturing display substrate, display substrate, display panel and display apparatus | |
| KR100672645B1 (ko) | 컬러필터 기판의 제조방법 | |
| US20070148565A1 (en) | Method for manufacturing a color filter | |
| KR101409696B1 (ko) | 액정표시장치 및 그의 제조방법 | |
| CN105404050A (zh) | 彩膜基板及其制作方法、显示装置 | |
| CN105824148A (zh) | 一种彩膜基板的制备方法、彩膜基板及相关装置 | |
| CN110488405B (zh) | 彩色滤光片的制作方法及彩色滤光片 | |
| KR20070065077A (ko) | 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법 | |
| KR100710178B1 (ko) | 액정표시장치용 컬러 필터 기판 및 그 제조방법 | |
| KR20070119261A (ko) | 칼라필터기판 및 이를 포함하는 액정표시소자의 제조방법 | |
| CN111128878B (zh) | 薄膜晶体管的图案制作方法、薄膜晶体管以及光罩 | |
| CN108445708A (zh) | 一种紫外掩膜版及其制造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |