CN114122230B - 一种掩模板、显示面板以及制作方法 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种掩模板、显示面板以及制作方法；该掩模板的掩模主体包括多个功能单元区，各功能单元区包括第一区域、第二区域以及第三区域，第二区域包括开孔子区和与开孔子区相邻的阻挡子区，掩模主体在功能单元区内包括第一阻挡部、第二阻挡部、以及第三阻挡部，分别对应设置在第一区域、第二区域的阻挡子区、以及第三区域，且第二阻挡部分别与第一阻挡部和第三阻挡部连接。该掩模板采用半环形镂空区设计，确保掩模板上对应的像素区上方金属有足够的支撑强度，且可以直接在黑色挡墙上蒸镀图案化的金属层，工艺简单且降低光罩成本，解决了当前通过光刻工艺制备金属Bank存在的制备难度大的技术问题。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩模板、显示面板以及制作方法。
背景技术
QD(量子点)-miniLED/microLED是一种miniLED/microLED结合量子点进行光色转换的新型显示技术。这种技术主要以蓝光miniLED/microLED作为背光，利用高能量的蓝光激发红量子点或绿量子点产生相应的红光或绿光，从而实现色转换。这种量子点彩膜技术需要将量子点墨水通过喷墨打印等方式沉积在像素限定区内，由于量子点墨水具有流动性，故需要制作黑色挡墙(Bank)结构将墨水限制在目标区域内。
当前使用黑色挡墙Bank材料作为像素限定层，由于其能够完全吸收量子点的激发光，因此会造成较大的亮度损失；可以通过在Bank上蒸镀一层金属(如银Ag等)形成金属镜面反射膜层(下文称这种结构为金属Bank)，以大幅度提高出光效率。
当前制作这种图案化的金属Bank需要使用到光刻工艺，由于Bank膜厚很高(10um以上)，所以在这种高低差异很大的地形上进行光刻工艺难度很大。
因此，当前通过光刻工艺制备金属Bank存在制备难度大等技术问题，需要改进。
发明内容
本申请提供一种掩模板、显示面板以及制作方法，以缓解当前通过光刻工艺制备金属Bank存在的制备难度大的技术问题。
为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：
本申请提供一种掩模板，包括掩模主体，所述掩模主体包括多个功能单元区，所述功能单元区包括第一区域、围绕所述第一区域的第二区域、以及围绕所述第二区域的第三区域；所述第二区域至少包括连续的开孔子区和与所述开孔子区相邻的阻挡子区；所述掩模主体在所述功能单元区内包括：
第一阻挡部：对应所述第一区域设置；
第三阻挡部：对应所述第三区域设置；
第二阻挡部：对应所述第二区域的阻挡子区设置，且分别与所述第一阻挡部和所述第三阻挡部连接。
在本申请的实施例中，所述阻挡子区占所述第二区域的面积比值小于50％、且大于30％。
在本申请的实施例中，所述开孔子区的数量为1个，且所述开孔子区占所述第二区域的面积比值大于50％。
在本申请的实施例中，所述开孔子区的形状为U型，且所述开孔子区邻接所述第一区域的三边。
在本申请的实施例中，呈U型的所述开孔子区的相对两侧边中，其中一侧边的长度大于另一侧边的长度。
在本申请的实施例中，所述开孔子区的形状为L型，且所述开孔子区邻接所述第一区域的两边。
在本申请的实施例中，呈L型的所述开孔子区的长边长度与所述第二区域的长度相等。
本申请还提供一种显示面板，包括至少一透光功能层，所述透光功能层包括多个透光区，所述透光功能层包括：
黑色挡墙，设置于各所述透光区之间；
反射层，设置于所述黑色挡墙的侧壁上，且位于各所述透光区之间；
出光层，设置于各所述透光区内；
所述反射层使用本申请提供的掩模板蒸镀形成。
本申请还提供一种显示面板的制作方法，该制作方法包括提供一透光功能层的步骤，所述透光功能层包括多个透光区；所述提供一透光功能层的步骤包括：
提供一基板，在所述基板上形成位于各所述透光区之间的黑色挡墙；
使用掩模板在所述黑色挡墙的侧壁上形成反射层；掩模板包括上面实施例中的掩模板；
在所述透光区内形成出光层。
在本申请提供的显示面板的制作方法中，所述反射层包括第一部分反射层和第二部分反射层，所述使用掩模板在所述黑色挡墙的侧壁上形成反射层的步骤，包括：
使用所述掩模板在所述掩模板的所述开孔子区内蒸镀形成于所述黑色挡墙侧壁的第一部分反射层；
旋转所述掩模板，以使所述第一部分反射层在垂直于所述掩模板方向上的投影覆盖所述阻挡子区；
使用所述掩模板在所述掩模板的所述开孔子区内蒸镀形成于所述黑色挡墙的侧壁的第二部分反射层，以形成所述反射层。
本申请的有益效果：本申请提供了一种掩模板、显示面板以及制作方法；该掩模板的掩模主体包括多个功能单元区，各功能单元区包括第一区域、第二区域、以及第三区域，第二区域包括开孔子区和与开孔子区相邻的阻挡子区，掩模主体在功能单元区内包括第一阻挡部、第二阻挡部、以及第三阻挡部，分别对应设置在第一区域、第二区域的阻挡子区、以及第三区域，且第二阻挡部分别与第一阻挡部和第三阻挡部连接。该蒸镀掩模板采用半环形镂空区设计，确保掩模板上对应的像素区上方金属有足够的支撑强度，且可以直接在黑色挡墙上蒸镀图案化的金属反射层，工艺简单且降低光罩成本，解决了当前通过光刻工艺制备金属Bank存在的制备难度大的技术问题。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其他有益效果显而易见。
图1为本申请实施例提供的掩模板的第一种结构示意图。
图2为本申请实施例提供的掩模板的第二种结构示意图。
图3至图8为本申请实施例提供的显示面板制备示意图。
图9为本申请实施例提供的显示面板示意图。
图10为本申请实施例提供的显示面板制作方法流程图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有的特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含的包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或者两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
在本申请中，掩模主体是指掩模板上除固定区以外的功能区，掩模主体是由阵列分布的功能单元区组成的；每个功能单元区包括第一区域、围绕第一区域的第二区域和围绕第二区域的第三区域，其中，第二区域包括连续的开孔子区和与开孔子区相邻的阻挡子区。
在本申请中，出光层指的是像素区域内的量子点材料，例如红量子点或绿量子点。
如图1所示，在一种实施例中，本申请实施例提供的掩模板包括：
固定区11；
掩模主体12，所述掩模主体12包括多个功能单元区S，所述功能单元区S包括第一区域13、围绕所述第一区域13的第二区域14、以及围绕所述第二区域14的第三区域15；所述第二区域14至少包括连续的开孔子区141和与所述开孔子区141相邻的阻挡子区142；所述掩模主体12在所述功能单元区内包括第一阻挡部N1、第二阻挡部N2以及第三阻挡部N3，第一阻挡部N1对应所述第一区域13设置，第二阻挡部N2对应所述第二区域14的阻挡子区142设置，第三阻挡部N3对应所述第三区域15设置，且第二阻挡部N2分别与第一阻挡部N1和第三阻挡部N3连接。
本实施例提供一种掩模板，该掩模板包括掩模主体，所述掩模主体包括多个功能单元区，所述功能单元区包括第一区域、围绕所述第一区域的第二区域、以及围绕所述第二区域的第三区域，所述第二区域至少包括连续的开孔子区和与所述开孔子区相邻的阻挡子区，所述阻挡子区占所述第二区域的面积比值小于50％、且大于30％所述掩模板在所述重复区域内包括第一阻挡部、第二阻挡部、以及第三阻挡部，分别对应设置在所述第一区域、所述第二区域的阻挡子区、以及所述第三区域。该蒸镀掩模板采用半环形镂空区设计，确保掩模板上对应的像素区上方金属有足够的支撑强度，且实现了直接在黑色挡墙(Bank)上蒸镀图案化的金属层(即反射层)，这种方法无需涉及涂布-曝光-显影-蚀刻-剥离等反射层的光刻制程，其工艺简单，且节省大量的光罩成本，解决了当前通过光刻工艺制备金属Bank存在的制备难度大的技术问题。
在一种实施例中，固定区11设置有一些对位标记，用于在蒸镀时和玻璃基板上设置的相应标记进行对位，在对位标记和相应标记对位之后固定掩模板，以避免在后面的蒸镀过程中反射层出现位置偏差。
在一种实施例中，第一阻挡部N1、第二阻挡部N2及第三阻挡部N3共同来遮挡黑色挡墙(Bank)的顶部及像素区域，且第一阻挡部与第二阻挡部相连接，这样避免了第一阻挡部支撑强度不足的现象，同时也满足了只蒸镀黑色挡墙侧壁而不蒸镀在黑色挡墙顶部及底部的工艺需求。
在一种实施例中，第二区域14包括开孔子区141和阻挡子区142两部分，其中开孔子区141即为掩模板上的半环形镂空图案区域，阻挡子区142对应的部分也就是第二阻挡部N2，连接第一阻挡部N1及第三阻挡部N3。
在一种实施例中，所述阻挡子区142占所述第二区域14的面积比值小于50％、且大于30％。这样第二阻挡部N2有足够大的面积，且与第一阻挡部N1和第三阻挡部N3连接成为整体，这样就保证了在蒸镀过程中第二阻挡部N2能够起到足够的支撑作用而不会使第一阻挡部N1因为重力作用下沉。
在一种实施例中，如图1所示，所述开孔子区141的数量为1个，并且所述开孔子区141占所述第二区域14的面积比值大于50％。开孔子区的面积比值大于50％，以保证将掩模板旋转180°后再蒸镀剩下的另一半环形区域时，两边蒸镀过的半环形对接的地方能够完全重叠而无缝隙，也就是确保了使黑色挡墙侧壁蒸镀的金属层完整性。
在一种实施例中，如图1所示，所述开孔子区141的形状为U型，且所述开孔子区141邻接所述第一区域13的三边。
在一种实施例中，呈U型的所述开孔子区141的相对两侧边中，其中一侧边的长度大于另一侧边的长度；镂空区图形图案这样设计便于制备，降低制备掩模板的工艺要求。当然，在其他实施例中，U型开孔区141的两边长度可以相同，不小于第二区域14对应方向(纵向或者横向)尺寸的一半。
如图2所示，在另一实施例中，本申请实施例提供的掩模板包括：
固定区21；
掩模主体22，所述掩模主体22包括多个功能单元区Z；所述功能单元区Z包括第一区域25、围绕所述第一区域25的第二区域24、以及围绕所述第二区域24的第三区域23；所述第二区域24至少包括连续的开孔子区241和与所述开孔子区241相邻的阻挡子区242；所述掩模主体22在所述功能单元区内包括第一阻挡部R1、第二阻挡部R2以及第三阻挡部R3，第一阻挡部R1对应所述第一区域25设置，第二阻挡部R2对应所述第二区域24的阻挡子区242设置，第三阻挡部R3对应所述第三区域23设置，且第二阻挡部R2分别与第一阻挡部R1和第三阻挡部R3连接。
在一种实施例中，固定区21设置有一些对位标记，用于在蒸镀时和玻璃基板上设置的相应标记进行对位，在对位标记和相应标记对位之后固定掩模板，以避免在后面的蒸镀过程中反射层出现位置偏差。
在一种实施例中，第一阻挡部R1、第二阻挡部R2及第三阻挡部R3共同来遮挡黑色挡墙(Bank)的顶部及像素区域，且第一阻挡部与第二阻挡部相连接，这样避免了第一阻挡部支撑强度不足的现象，同时也满足了只蒸镀黑色挡墙侧壁而不能蒸镀在黑色挡墙顶部及底部的需求。
在一种实施例中，第二区域24包括开孔子区241和阻挡子区242两部分，其中开孔子区241即为掩模板上的半环形镂空图案区域，阻挡子区242对应部分也就是第二阻挡部R2，连接第一阻挡部R1及第三阻挡部R3。
在一种实施例中，所述阻挡子区242占所述第二区域24的面积比值小于50％、且大于30％。这样第二阻挡部R2有足够大的面积，且与第一阻挡部R1和第三阻挡部R3连接成为整体，这样就保证了在蒸镀过程中第二阻挡部R2能够起到足够的支撑作用而不会使第一阻挡部R1因为重力作用下沉。
在一种实施例中，所述开孔子区241的数量为1个，并且所述开孔子区241占所述第二区域24的面积比值大于50％。开孔子区的面积比值大于50％，以保证将掩模板旋转180°后再蒸镀剩下的另一半环形区域时，两边蒸镀过的半环形对接的地方能够完全重叠而无缝隙，也就是确保使黑色挡墙侧壁蒸镀的金属层完整性。
在一种实施例中，如图2所示，所述开孔子区241的形状为L型，且所述开孔子区241邻接所述第一区域25的两边。
在一种实施例中，呈L型的所述开孔子区241的长边长度与所述第二区域24的长度相等，以保证掩模板在旋转180°后，两边蒸镀的半环形区金属区域能够重叠无缝对接。
本实施例提供一种掩模板，该掩模板包括掩模主体，所述掩模主体包括多个功能单元区，所述功能单元区包括第一区域、围绕所述第一区域的第二区域、以及围绕所述第二区域的第三区域；所述第二区域至少包括连续的开孔子区和与所述开孔子区相邻的阻挡子区，所述阻挡子区占所述第二区域的面积比值小于50％、且大于30％，所述开孔子区的数量为1个，且所述开孔子区占所述第二区域的面积比值大于50％；所述开孔子区的形状为L型，且所述开孔子区邻接所述第一区域的两边，呈L型的所述开孔子区的长边长度与所述第二区域的长度相等；所述掩模板在所述重复区域内包括第一阻挡部、第二阻挡部、以及第三阻挡部，分别对应设置在所述第一区域、所述第二区域的阻挡子区以及所述第三区域。该蒸镀掩模板采用半环形镂空区设计，确保掩模板上对应的像素区上方金属有足够的支撑强度，且实现了直接在黑色挡墙(Bank)上蒸镀图案化的金属层，这种方法无需涉及涂布-曝光-显影-蚀刻-剥离等光刻制程，其工艺简单，且节省大量的光罩成本，解决了当前通过光刻工艺制备金属Bank存在的制备难度大的技术问题。
本实施例提供一种显示面板，如图9所示，该显示面板包括至少一透光功能层，所述透光功能层包括多个透光区93，所述透光功能层包括：
衬底91；
黑色挡墙92，设置于各所述透光区93之间；
反射层94，设置于所述黑色挡墙92的侧壁上，且位于各所述透光区93之间；
出光层(即图9中的G层和R层)，设置于各所述透光区93内；
所述反射层94使用上述实施例所述的半环形镂空区掩模板蒸镀形成。
在一种实施例中，将量子点墨水通过喷墨打印等方式沉积在透光区93形成出光层，由于量子点墨水具有流动性，因此在玻璃基板上制作黑色挡墙92结构，将量子点墨水限制在透光区93内，但是黑色挡墙材料能够完全吸收量子点的激发光，会造成较大的亮度损失，所以在黑色挡墙92侧壁蒸镀一层金属形成金属镜面反射膜层94，以大幅度提高出光效率。
在一种实施例中，以蓝光miniLED/microLED作为背光光源(即图9中的LED)，利用高能量的蓝光激发透光区93内的红量子点或绿量子点产生相应的红光或绿光，实现色转换。
本申请实施例还提供一种显示面板的制作方法，该方法包括提供一透光功能层的步骤，所述透光功能层包括多个透光区；所述提供一透光功能层的步骤包括以下步骤：
提供一基板；
在所述基板上形成位于各所述透光区之间的黑色挡墙；
使用掩模板在所述黑色挡墙的侧壁上形成反射层；掩模板包括上面实施例中的掩模板；
在所述透光区内形成出光层。
在一种实施例中，使用掩模板在所述黑色挡墙的侧壁上形成反射层的步骤包括：
使用所述掩模板在所述掩模板的所述开孔子区内蒸镀形成于所述黑色挡墙侧壁的第一部分反射层；
旋转所述掩模板，以使所述第一部分反射层在垂直于所述掩模板方向上的投影覆盖所述阻挡子区；
使用所述掩模板在所述掩模板的所述开孔子区内蒸镀形成于所述黑色挡墙的侧壁的第二部分反射层，以形成所述反射层。
现以显示面板为QD-miniLED/microLED面板为例，结合图3至图10对本申请实施例提供的显示面板的制作方法进行说明。
如图3至图8所示，本申请提供的显示面板制作方法包括以下步骤：
请参考图10显示面板制作方法流程图，如图10所示，本申请提供的制作方法包括：
步骤1、在玻璃基板上形成黑色挡墙阵列膜层。
如图3所示，提供一玻璃基板31等透明基板，在玻璃基板31上利用光刻工艺制备图案化的Bank膜层，图3中凸出的部分即为黑色挡墙32阵列，黑色挡墙之间为像素区，即透光区。
步骤2、用半环形镂空掩模板(即本申请提供的掩模板)在黑色挡墙上直接蒸镀金属膜层(反射层)。
如图4和图5所示，利用上面任一实施例中所述的半环形镂空掩模板直接在黑色挡墙的侧壁蒸镀图案化的金属膜层。
本步骤包括以下子步骤：
步骤21，如图4所示，使用所述掩模板在所述掩模板的所述开孔子区内蒸镀形成于所述黑色挡墙侧壁的第一部分反射层；
步骤22，如图5所示，旋转所述掩模板，以使所述第一部分反射层在垂直于所述掩模板方向上的投影覆盖所述阻挡子区；使用所述掩模板在所述掩模板的所述开孔子区内蒸镀形成于所述黑色挡墙的侧壁的第二部分反射层；例如旋转所述掩模板180°，使用所述掩模板在所述黑色挡墙的侧壁的第二区域蒸镀反射材料，在所述侧壁上形成第二部分反射层，所述反射层包括所述第一部分反射层和第二部分反射层。
如图6所示，经过这样两次蒸镀，在黑色挡墙侧壁形成了所需的环形蒸镀区(即反射层)，且露出了黑色挡墙的底部区域和顶部区域。
在本申请实施例中，蒸镀金属膜层所用的金属材料为银Ag等；通过蒸镀覆盖在黑色挡墙侧壁的银膜层形成金属镜面反射膜层，以大幅度提高出光效率。
步骤3、在透光区内形成出光层。
如图7所示，在红色子像素区和绿色子像素区的透光区内分别喷墨打印红色、绿色量子点墨水，并使它们沉积在透光区内，再进行紫外光固化后得到量子点膜。
在本申请实施例中，透光区指黑色挡墙之间的子像素区；出光层指沉积在像素区的量子点材料形成的量子点膜层。
步骤4、如图8所示，将蓝光miniLED或microLED驱动背板82与图7形成的量子点基板81进行对组贴合。
步骤5、将骤4中对组贴合的基板进行COF绑定和PCB绑定等模组制程，得到需要的QD-miniLED/microLED显示面板。
根据上述描述可知，在本申请提供的显示面板制作方法中，不需要使用光刻工艺制备反射层，降低了光刻技术所导致的各种问题。
根据上述实施例可知：
本申请提供一种掩模板、显示面板以及显示面板的制作方法，该掩模板包括掩模主体，所述掩模主体包括多个功能单元区，所述功能单元区包括第一区域、围绕所述第一区域的第二区域、以及围绕所述第二区域的第三区域，所述第二区域至少包括连续的开孔子区和与所述开孔子区相邻的阻挡子区，所述阻挡子区占所述第二区域的面积比值小于50％、且大于30％，所述开孔子区的数量为1个，且所述开孔子区占所述第二区域的面积比值大于50％；所述开孔子区的形状为U型，且所述开孔子区邻接所述第一区域的三边，呈U型的所述开孔子区的相对两侧边中，其中一侧边的长度大于另一侧边的长度；或者所述开孔子区的形状为L型，且所述开孔子区邻接所述第一区域的两边，呈L型的所述开孔子区的长边长度与所述第二区域的长度相等；所述掩模板在所述重复区域内包括第一阻挡部、第二阻挡部、以及第三阻挡部，分别对应设置在所述第一区域、所述第二区域的阻挡子区、以及所述第三区域。该蒸镀掩模板采用半环形镂空区设计，确保掩模板上对应的像素区上方金属有足够的支撑强度，且实现了直接在黑色挡墙上蒸镀图案化的金属反射层，这种方法无需涉及涂布-曝光-显影-蚀刻-剥离等光刻制程，其工艺简单，且节省大量的光罩成本，解决了当前通过光刻工艺制备金属Bank存在的制备难度大的技术问题。
综上所述，虽然本申请已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (9)
1.一种掩模板，其特征在于，包括掩模主体，所述掩模主体包括多个功能单元区，所述功能单元区包括第一区域、围绕所述第一区域的第二区域、以及围绕所述第二区域的第三区域；所述第二区域至少包括连续的开孔子区和与所述开孔子区相邻的阻挡子区；所述掩模主体在所述功能单元区内包括：
第一阻挡部：对应所述第一区域设置；
第三阻挡部：对应所述第三区域设置；
第二阻挡部：对应所述第二区域的阻挡子区设置，且分别与所述第一阻挡部和所述第三阻挡部连接。
2.如权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述阻挡子区占所述第二区域的面积比值小于50％、且大于30％。
3.如权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述开孔子区的数量为1个，且所述开孔子区占所述第二区域的面积比值大于50％。
4.如权利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述开孔子区的形状为U型，且所述开孔子区邻接所述第一区域的三边。
5.如权利要求4所述的掩模板，其特征在于，呈U型的所述开孔子区的相对两侧边中，其中一侧边的长度大于另一侧边的长度。
6.如权利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述开孔子区的形状为L型，且所述开孔子区邻接所述第一区域的两边。
7.如权利要求6所述的掩模板，其特征在于，呈L型的所述开孔子区的长边长度与所述第二区域的长度相等。
8.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括提供一透光功能层的步骤，所述透光功能层包括多个透光区，其中，所述提供一透光功能层的步骤包括：
提供一基板，在所述基板上形成位于各所述透光区之间的黑色挡墙；
使用掩模板在所述黑色挡墙的侧壁上形成位于各所述透光区之间的反射层；所述掩模板包括如权利要求1至7任一项所述的掩模板；
在所述透光区内形成出光层。
9.如权利要求8所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述反射层包括第一部分反射层和第二部分反射层，所述使用掩模板在所述黑色挡墙的侧壁上形成反射层的步骤，包括：
使用所述掩模板在所述掩模板的所述开孔子区内蒸镀形成于所述黑色挡墙侧壁的第一部分反射层；
旋转所述掩模板，以使所述第一部分反射层在垂直于所述掩模板方向上的投影覆盖所述阻挡子区；
使用所述掩模板在所述掩模板的所述开孔子区内蒸镀形成于所述黑色挡墙的侧壁的第二部分反射层，以形成所述反射层。
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