CN111028705A - 一种显示面板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示面板及显示装置，包括基板层、发光层和复合黑色矩阵层；其中所述发光层设置于所述基板层上，所述发光层两侧的所述基板层上分别设置有所述复合黑色矩阵层，其中所述复合黑色矩阵层包括黑色矩阵层和反光层。在黑色矩阵层上形成一层反光层或者在反光层上形成具有遮光作用的黑色矩阵层，既满足RGB三色芯片相互遮蔽漏光的作用，同时反光层可将发光层发出的光反射至上层由顶端发出，避免发光层发出的光被黑色矩阵层吸收，从而使亮度提高，提升器件的发光效率。

Description

一种显示面板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示面板技术领域，特别涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术
微米级发光二极管(Micro-light emitting diodes)是一种新型发光显示技术，可提供比OLED技术亮度更高，发光效率更好，功耗更低的显示器件，是目前继OLED之后新一代的显示技术，深受各大厂商垂青和布局。MicroLED主要是将微缩后的LED(<100um)在基板上进行阵列排布，而形成具有高密度微小尺寸的LED阵列。
将MicroLED作为显示屏幕时，首先要实现MicroLED全彩化，其中最直接的方法是将RGB三种颜色LED芯片分别转移到基板上，再进行封装。传统的LCD全彩化工艺中，由于RGB三种颜色光阻距离较近，会发生漏光等现象，造成屏幕对比度降低，为克服这一问题，通常在彩色滤光片的制程中采用在RGB三色光阻之间增加黑色矩阵层(Black Matrix，BM)的方式来遮蔽漏光区，来提高对比度。
请参阅图1，图1所示为现有技术中的显示面板的结构示意图，包括依次设置的衬底基板11、遮光层12、缓冲层13、有源层14、绝缘层15、栅极层16、源漏极层17、平坦层18、黑色矩阵层2和发光层3。由于发光层3中自发光的LED为六面发光芯片，与黑色矩阵层相邻的非显示方向上，在发光时会因为黑色矩阵层具有一定的吸光性，使得LED所发出的光线部分被BM所吸收，芯片亮度降低，进而影响器件的发光效率。
因此，确有必要来开发一种新型的显示面板，以克服现有技术的缺陷。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种显示面板，其能够解决现有技术中LED所发出的光线部分被黑色矩阵层所吸收，芯片亮度降低，进而影响器件的发光效率等问题。
为实现上述目的，本发明提供一种显示面板，包括基板层、发光层和复合黑色矩阵层；其中所述发光层设置于所述基板层上，所述发光层两侧的所述基板层上分别设置有所述复合黑色矩阵层，其中所述复合黑色矩阵层包括黑色矩阵层和反光层。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述黑色矩阵层设置于所述基板层上，所述反光层覆盖在所述黑色矩阵层的侧部上。
其中所述黑色矩阵层上设置的所述反光层，将所述发光层中斜射到所述黑色矩阵层上的光线不断反射重新利用，同时避免所述发光层发出的光被所述黑色矩阵层吸收，提高光线的利用率。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述黑色矩阵层设置在所述基板上，所述反光层设置在所述黑色矩阵层上。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述复合黑色矩阵层的厚度小于10μm。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述黑色矩阵层的厚度小于2μm，所述反光层的厚度范围为2-8μm。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述黑色矩阵层的厚度小于2μm，所述反光层的厚度范围为2-8μm。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述反光层设置于所述基板层上，所述黑色矩阵层设置于所述反光层上。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述反光层的厚度大于所述发光层的厚度。
进一步的，在其他实施方式中，其中其中所述黑色矩阵层的厚度小于2μm，所述反光层的厚度范围为2-8μm。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述反光层的构成材料采用金属、有机材料、无机材料或其他具有反光特性的材料。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述反光层可通过溅镀、蒸镀、光刻等可图形化的方法形成的。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述反光层的构成材料采用光阻材料。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述发光层中设置有微米级发光二极管。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述基板层包括依次设置的衬底基板、缓冲层、有源层、绝缘层、栅极层、层间介质层、源漏极层、平坦层和像素电极层。
为实现上述目的，本发明还提供了一种显示装置，其包括本体，所述本体上设置有本发明涉及的所述显示面板。
相对于现有技术，本发明的有益效果在于提供一种显示面板及显示装置，在黑色矩阵层上形成一层反光层或者在反光层上形成具有遮光作用的黑色矩阵层，既满足RGB三色芯片相互遮蔽漏光的作用，同时反光层可将发光层发出的光反射至上层由顶端发出，避免发光层发出的光被黑色矩阵层吸收，从而使亮度提高，提升器件的发光效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中提供的显示面板的结构示意图；
图2为本发明实施例1提供的显示面板的结构示意图；
图3为本发明实施例2提供的显示面板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
这里所公开的具体结构和功能细节仅仅是代表性的，并且是用于描述本发明的示例性实施例的目的。但是本发明可以通过许多替换形式来具体实现，并且不应当被解释成仅仅受限于这里所阐述的实施例。
实施例1
请参阅图2，图2为本实施例提供的显示面板的结构示意图，为实现上述目的，本发明提供一种显示面板，包括依次设置的基板层1、发光层2、黑色矩阵层3和反光层4。
发光层2设置于基板层1上，发光层2两侧的基板层1上分别设置有黑色矩阵层3，黑色矩阵层3的侧部和上部覆盖有反光层4。
黑色矩阵层3和其上部的反光层4的总厚度小于10μm，黑色矩阵层3的厚度小于2μm，反光层4的厚度范围为2-8μm。
其中发光层2中设置有多个微米级发光二极管，其中反光层4可将发光层2中微米级发光二极管发出的光反射至上层由顶端发出，避免发光层发出的光被黑色矩阵层吸收，从而使亮度提高，提升器件的发光效率。
在本实施例中，反光层4的构成材料采用铝金属，铝金属是通过溅镀方法形成的。在其他实施方式中，反光层4的构成材料也可以采用其他具有反射功能的金属，或通过曝光显影、刻蚀等可图形化具有反光作用的有机材料或无机材料等，在此不做限定。
基板层1包括衬底基板11、设置于衬底基板11上的缓冲层12、设置于缓冲层12上的有源层13、设置于有源层13上的绝缘层14、设置于绝缘层14上的栅极层15、设置于栅极层15上的层间介质层16、设置于层间介质层16上的源漏极层17、设置于源漏极层17上的平坦层18和设置于平坦层18上的像素电极层19。
衬底基板11可为玻璃基板，或PI膜层，即聚酰亚胺薄膜，作为显示面板的基底；所述聚酰亚胺薄膜是世界上性能较好的薄膜类绝缘材料，具有较强的拉伸强度，由均苯四甲酸二酐和二氨基二苯醚在强极性溶剂中经缩聚并流延成膜再经亚胺化而成。
在本实施例中，绝缘层14采用的材料为氮化硅，也可以使用氧化硅和氮氧化硅等，具体可以随需要而定，并无限定。平坦层18采用透明的有机材料，具有良好的弹性和柔韧性，起到平坦化及缓冲膜层应力的作用。
实施例2
请参阅图3，图3所示为本实施例提供的显示面板的结构示意图，本实施例中的显示面板结构与实施例1大致相同，其相同的结构可参照上述方式，此处不再赘述，其主要不同之处在于，反光层4设置于基板层1上，黑色矩阵层3设置于反光层4上。
反光层4将发光层2斜射到黑色矩阵层3上的光线不断反射重新利用，同时避免发光层2发出的光被黑色矩阵层3吸收，提高光线的利用率。
在本实施例中，反光层4的厚度大于发光层2的厚度，黑色矩阵层3的厚度小于2μm，反光层4的厚度范围为2-8μm。
实施例3
本发明的另一目的是提供一种显示装置，其包括本体，所述本体上设置有本发明涉及的所述显示面板。
本发明的有益效果在于提供一种显示面板及显示装置，在黑色矩阵层上形成一层反光层或者在反光层上形成具有遮光作用的黑色矩阵层，既满足RGB三色芯片相互遮蔽漏光的作用，同时反光层可将发光层发出的光反射至上层由顶端发出，避免发光层发出的光被黑色矩阵层吸收，从而使亮度提高，提升器件的发光效率。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括基板层、发光层和复合黑色矩阵层；其中所述发光层设置于所述基板层上，所述发光层两侧的所述基板层上分别设置有所述复合黑色矩阵层，其中所述复合黑色矩阵层包括黑色矩阵层和反光层。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述黑色矩阵层设置于所述基板层上，所述反光层覆盖在所述黑色矩阵层的侧部上。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述黑色矩阵层设置在所述基板上，所述反光层设置在所述黑色矩阵层上。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述复合黑色矩阵层的厚度小于10μm。
5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述黑色矩阵层的厚度小于2μm，所述反光层的厚度范围为2-8μm。
6.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述黑色矩阵层的厚度小于2μm，所述反光层的厚度范围为2-8μm。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述反光层设置于所述基板层上，所述黑色矩阵层设置于所述反光层上。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述反光层的厚度大于所述发光层的厚度。
9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述反光层的构成材料采用金属或有机材料。
10.一种显示装置，其包括本体，其特征在于，其包括本体，所述本体上设置有根据权利要求1-9任一项所述的显示面板。
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