WO2012172642A1 - ペリクル貼付装置 - Google Patents

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WO2012172642A1
WO2012172642A1 PCT/JP2011/063587 JP2011063587W WO2012172642A1 WO 2012172642 A1 WO2012172642 A1 WO 2012172642A1 JP 2011063587 W JP2011063587 W JP 2011063587W WO 2012172642 A1 WO2012172642 A1 WO 2012172642A1
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WO
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pellicle
stage
photomask
pressing
pressing body
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Application number
PCT/JP2011/063587
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English (en)
French (fr)
Inventor
孝幸 村松
Original Assignee
松下精機株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by 松下精機株式会社 filed Critical 松下精機株式会社
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof

Definitions

  • the present invention relates to a pellicle attaching apparatus for attaching a pellicle assembly composed of a pellicle membrane and a pellicle frame to a pattern surface of a photomask.
  • FIG. 16 shows a state in which the pellicle assembly 101 is attached to a photomask 100 for exposure
  • FIG. 17 shows a state before the pellicle assembly 101 is attached to the photomask 100.
  • the pellicle assembly 101 is composed of a rectangular pellicle frame 102 made of metal such as aluminum and a transparent pellicle film 103 stretched on one side of the pellicle frame 102.
  • the photomask 100 a photomask for exposing and forming an integrated circuit on a silicon wafer or the like in a semiconductor manufacturing process, or a photomask for exposing and forming a circuit substrate of an FPD (flat panel display) such as a TFT liquid crystal substrate is applied. It is done.
  • One surface 100 a of the photomask 100 is a pattern surface (chrome surface) on which the circuit pattern is exposed and formed, and the other surface 100 b is generally called a glass surface.
  • the pellicle assembly 101 is attached to the outer peripheral portion of the pattern surface 100 a by an adhesive so as to cover the exposure pattern area of the pattern surface 100 a of the photomask 100 by the pellicle attachment device.
  • the pellicle assembly 101 By sticking the pellicle assembly 101 to the photomask 100 in this manner, the adhesion of foreign matter such as fine dust to the surface of the photomask 100 is prevented.
  • the mainstream semiconductor photomask 100 is, for example, a square of 152 mm (6 inches) on a side, and its thickness is about 6.3 mm.
  • Another size semiconductor photomask may be a square of 126.6 mm (5 inches) on a side, and its thickness is about 2.3 mm.
  • FIG. 18 is a schematic front view partially showing a main part of a conventional (Patent Document 1) horizontal arrangement type pellicle sticking apparatus.
  • the mask pressing body 202 horizontally supported by the upper support member 201 and the pellicle pressing body 204 horizontally supported by the lower pressing body stage 203 are disposed to be opposed to each other in the vertical direction.
  • the pellicle assembly 101 is mounted on the upper surface of the pellicle pressing body 204.
  • a pressure bonding type adhesive or adhesive film is applied or stuck.
  • the photomask 100 held by the frame-shaped mask stage 205 is horizontally disposed with the pattern surface 100a facing downward.
  • the mask stage 205 includes four horizontal support pins 210 for supporting the photomask 100 from below, and a plate spring 211 for pressing the left and right end edges of the photomask 100 and the front and rear end edges toward the other end edge in the horizontal direction. And.
  • the photomask 100 supported on the support pins 210 is pressed by the plate springs 211 so that the other end edge of the photomask 100 and the other end edge of the photomask 100 are on the inner peripheral surface of the mask stage 205. It is pressed to the other end side, whereby positioning in plan view is made.
  • the pellicle pressing body 204 is placed on the pressing body stage 203, and the pellicle assembly 101 is placed on the upper surface of the pellicle pressing body 204 with the pellicle film 103 facing downward, and the left and right end edges and The front and rear end edges are respectively pressed to the other end edge side by the movable claws 213 and are respectively pressed against the stopper claws 214 on the other end edge side.
  • a single air cylinder 221 is disposed in a vertical posture as a lifting device.
  • the rod 221a of the air cylinder 221 can be expanded and contracted in the vertical direction, and a push-up member 222 is integrally provided at an upper end portion thereof.
  • the push-up member 222 By extending the rod 221a of the air cylinder 221 upward, the push-up member 222 is raised integrally with the rod 221a.
  • the rising push-up member 222 first pushes up the pellicle pressing body 204 and the pellicle assembly 101 away from the pressing body stage 203 so that the upper end surface of the pellicle frame 102 abuts on the pattern surface 100 a of the photomask 100. After that, the pellicle pressing body 204, the pellicle assembly 101, and the photomask 100 are integrally pushed up so that the photomask 100 is lifted upward from the mask stage 205.
  • the glass surface 100b of the photomask 100 abuts against the lower surface of the mask pressing body 202, and is maintained in a pressed state for a fixed time while rising to a fixed pressing force (about 150N to 300N). . Thereby, the pellicle assembly 101 is attached to the photomask 100.
  • a state-of-the-art semiconductor with a high line width of about 20 nm (nanometers) has been developed, and the pellicle assembly 101 is attached to a photomask 100 for semiconductors with such a small line width.
  • the distortion (displacement) of the circuit pattern exposed and formed on the pattern surface 100a is required to be suppressed to 3 nm to 2 nm or less. That is, when distortion larger than about 3 nm to 2 nm occurs, the imaging position in the exposure step changes, and it becomes impossible to expose the circuit pattern with high accuracy.
  • the pressing condition at the time of pressing of the pellicle assembly 101 was about 150 N (newtons) to 300 N, but the distortion of the circuit pattern is about 3 nm to 2 nm or less. In order to suppress this, for example, it is required to reduce it as low as about 15N to 30N.
  • an operation (stroke) of the single cylinder 221 raises the pellicle pressure body 204, the pellicle assembly 101 and the photomask 100 by a predetermined stroke, and a constant pressing force. If the structure is such that the pellicle assembly 101 is pressed against the photomask 100, the following problem arises.
  • the mask pressing body 202, the mask stage 205 and the pressing body stage 203 are vertically arranged. It is necessary to keep the interval constant, and therefore, a long stroke is required as the cylinder 221 of the lifting device. In addition, since a static dynamic accuracy is required, and the structure to be lifted is heavy (10 kg to 15 kg), a cylinder or motor with a large push-up force (capacity) is required.
  • the photomask 100 when using a single cylinder 221 having a large push-up force and a long stroke, after raising the long stroke, for example, the photomask 100 with a low pressing force of 15 N (or 30 N) or less. Even if the pellicle assembly 101 is pressed, the pressing accuracy (pressing accuracy) can be maintained by overshooting upward even after reaching a predetermined pressing force or increasing the error of repetitive operation. It will be difficult.
  • the object of the present invention is that while it is required to press the pellicle assembly against the photomask with a low pressing force, any large lifting force, long upstroke, pushing up the heavy structure is required. It is an object of the present invention to provide a pellicle sticking apparatus which can meet the requirements and precisely attach the pellicle assembly to a mask stage.
  • the present invention is directed to a mask pressing body for pressing a photomask horizontally arranged with the pattern surface down from above, and a pellicle assembly formed by attaching a pellicle film to a pellicle frame.
  • the elevating device has an upper and lower two-stage structure having a lower first stage elevating mechanism and an upper second stage elevating mechanism which is elevated and lowered by the first stage elevating mechanism.
  • the second stage lifting mechanism has a lifting member for lifting the pellicle pressing body from below, and the lifting force by the second stage lifting mechanism is the first stage lifting mechanism Smaller than the push-up force by, and the rise stroke by the second stage lift mechanism is set to be smaller than the increase in the stroke by the first stage lift mechanism.
  • the present invention can provide the following configuration in the pellicle sticking apparatus.
  • the push-up member pushes up the pellicle assembly together with the pellicle pressing body from the lowermost position, and the pellicle assembly moves the pattern of the photomask on the mask stage It has a previous stroke before contacting the surface and a later stroke from the mask stage to push up the photomask, and the rising speed in the previous stroke is set to a value larger than the rising speed in the second stroke. It is done.
  • the first stage lifting mechanism is composed of a motor and a lifting rack connected to the motor to move in the vertical direction
  • the second stage lifting mechanism is composed of an air cylinder.
  • the entire pressing force by the second stage lifting mechanism is located between the air cylinder and the push-up member in a substantially central portion of the rectangular pellicle pressing body in a plan view.
  • a main load cell to be detected and four sub load cells distributed at least at four corners of the pellicle pressing body are provided.
  • the mask stage has a plurality of support ball members for supporting the rectangular photomask in a horizontally movable manner in plan view, and two adjacent sides of the four sides of the photomask as reference positions. And a pressing pin mechanism for pressing the remaining two sides of the photomask toward the respective stopper portions, wherein each pressing pin mechanism is separated from the photomask by a spring. And is moved toward the photomask against the spring by compressed air to press the photomask against the stopper portion.
  • the pellicle pressing body, the pellicle assembly, the photomask, the second step elevating mechanism, and the first step elevating mechanism by the first step elevating mechanism having a large pushing force and a long stroke.
  • Lift a heavy object such as a lift rack of the one-stage lift mechanism up close to the lower side of the mask pressing body, and as a second step, the glass surface of the photomask by the second lift mechanism with a small push-up force and a short stroke.
  • the working efficiency is further improved by raising the speed of the first stage lifting mechanism at high speed in the previous stroke, and the pellicle is raised at a low speed in the second stroke. It is possible to suppress the impact when the assembly abuts on the photomask, thereby improving the affixing accuracy and the quality.
  • the first stage lifting mechanism is a mechanism for lifting the vertical lifting rack with a pinion or the like, a large push-up force and a long stroke can be easily secured. Since the mechanism is an air cylinder, the size and weight can be reduced.
  • the light pressing force of the pressing pin mechanism allows the photomask to be positioned without being damaged, and further, when lifting the photomask from the mask stage, pressing of the pressing pin mechanism By releasing the pressure, it is possible to lightly lift while maintaining a normal horizontal posture with little resistance.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line V-V of FIG.
  • FIG. 6 is an enlarged horizontal cross-sectional view of a portion indicated by arrow VI in FIG. 5; It is an enlarged plan view of a pellicle pressing body.
  • It is a front view of a pellicle pressing body. It is a vertical front view of the whole raising / lowering apparatus. It is a vertical cross-section front enlarged view of a 2nd step raising / lowering mechanism.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line V-V of FIG.
  • FIG. 6 is an enlarged horizontal cross-sectional view of a portion indicated by arrow VI in FIG. 5; It is an enlarged plan view of a pellicle pressing body.
  • It is a front view of a pellicle pressing body. It is a vertical front view of the whole raising / lowering apparatus. It is a vertical cross-section front enlarged view of a 2nd step raising / lowering
  • FIG. 11 is a cross-sectional view taken along line XI-XI of FIG. It is a top view of the raising member of a 2nd step raising / lowering mechanism. It is a XIII-XIII sectional view of FIG. It is a vertical cross-section front enlarged view of a 2nd-step raising / lowering mechanism in the time of a 1st-step raising / lowering mechanism transferring to a late stroke from the early stroke. It is a vertical cross-sectional front enlarged view at the time of completion
  • FIG. 10 is a bottom view showing the pellicle assembly 101 attached to the photomask 100.
  • FIG. 7 is a perspective view showing a state before the pellicle assembly 101 is attached to the photomask 100. It is a longitudinal cross-sectional view of the conventional pellicle sticking apparatus. It is a longitudinal cross-sectional view which shows the state in action of the prior art example of FIG.
  • the pellicle assembly 101 is stuck on the exposure photomask 100 for exposing and forming the integrated circuit on a silicon wafer or the like in the semiconductor manufacturing process. It is a device to attach.
  • FIG. 1 is a front view showing a pellicle sticking apparatus according to the present invention in a partial cross section (however, hatching is omitted)
  • FIG. 2, FIG. 3 and FIG. 4 are respectively II-II, III-III and IV of FIG. -IV is a cross-sectional view.
  • the operation side front side of FIG. 1 where the operator is positioned with respect to the pellicle sticking apparatus is the front side of the pellicle sticking apparatus and other components, and the left and right seen from the operator are pellicles. The left and right of the sticking device and other components will be described below.
  • the pellicle sticking apparatus includes an apparatus main body 1 and a ceiling wall 3 supported above the apparatus main body 1 via a plurality of columns 2, and the ceiling wall 3 protrudes downward.
  • a mask pressing body support 4 is provided, and the mask pressing body 5 having a horizontal downward pressing surface 5 a is supported at the lower end of the mask pressing body support 4.
  • a pair of left and right guide rails 7 extending in the front and rear direction are laid, and on the guide rails 7, a horizontal mask stage 11 for holding the photomask 100 horizontally, and pellicle addition
  • a horizontal pressing body stage 13 for holding the pressing body 12 horizontally is supported slidably in the front-rear direction.
  • a moving air cylinder 15 is disposed.
  • a lifting device 20 for lifting and lowering the pellicle pressing body 12, the pellicle assembly 101 and the photomask 100 is disposed in the device body 1, and the lifting device 20 has a two-stage structure in the upper and lower sides.
  • the lower first stage elevator mechanism 21 composed of the elevator rack 23 and the variable speed electric motor 24 and the like, and the elevator base 26 of the first stage elevator mechanism 21 via the cylinder support table 27
  • An upper second stage lifting mechanism 22 comprising an air cylinder 25 is provided.
  • the pressing body stage 13 is supported by the slide support plate 29 via a plurality of cylindrical legs 28, and the slide support plate 29 is provided with a pair of sliders 30 on the left and right, respectively.
  • the slider 30 is engaged with the guide rail 7 so as to be movable in the front-rear direction.
  • the mask stage 11 is disposed above the pressing body stage 13 by a fixed height, and the rear end portion of the mask stage 11 is connected to the intermediate support plate 33 having the same height as the pressing stage 13. It is supported through.
  • the intermediate support plate 33 is supported by the slide support plate 36 via a plurality of cylindrical legs 35.
  • the slide support plate 36 is provided with a pair of sliders 37 on the left and right, respectively.
  • the guide rail 7 is engaged with the guide rail 7 so as to be movable back and forth.
  • the pressing body stage 13 and the mask stage 11 can be respectively moved in the front-rear direction independently between the front attachment / detachment position A1 indicated by the imaginary line and the rear operation position A2 indicated by the solid line. It has become.
  • the slide support plate 29 for the pressing body stage 13 and the slide support plate 36 for the mask stage 11 are arranged in a pair on the left and right, respectively, It is provided.
  • Each moving air cylinder 14, 15 is disposed parallel to the guide rail 7 and incorporates a piston movable in the front-rear direction inside, and the built-in piston and the outer peripheral surface of each air cylinder 14, 15
  • the metal slide cylinders 38 and 39 fitted so as to be movable in the front-rear direction are coupled so as to move integrally in the front-rear direction by magnetic force.
  • the slide cylinders 38 and 39 are coupled to the slide support plate 36 for the mask stage 11 and the slide support plate 29 for the pressing body stage 13 via a connecting member.
  • FIG. 5 is a VV cross section of FIG. 1 corresponding to a plan view of the mask stage 11 and the pressing body stage 13, and FIG. 6 is an enlarged horizontal cross section of the pressing pin mechanism 41 of the mask stage 11.
  • the mask stage 11 is formed in a substantially square frame shape, and the inner circumferential hole 11a has a size and a shape through which the push-up member 77 of the pellicle pressing body 12 and the second lifting mechanism 22 can pass. ing.
  • an L-shaped air passage forming member 44 is provided in plan view from the left outer periphery to the front outer periphery of the mask stage 11, and the pressing pin mechanism 41 presses the left end edge of the air passage forming member 44.
  • a pair of air supply ports 46 for supplying compressed air for air and a pair of air suction ports 47 for suctioning dust and the like in the air passage forming member 44 and around the pressing pin mechanism 41 are formed.
  • the intermediate support plate 33 disposed below the mask stage 11 is formed to be long in the left-right direction, and a rectangular recess 33 a that is recessed rearward is formed at the center of the width. That is, the intermediate support plate 33 as a whole is formed in a forward U-shape in plan view.
  • an air passage joint block 52 for connecting air passages is provided, and the front ends of the plurality of air supply passages and air suction passages formed in the joint block 52 are respectively air It is connected to the air supply port 46 and the air suction port 47 of the air passage forming member 44 through the pipes 50 and 51.
  • Each air port (not shown) formed on the rear end face of the joint block 52 is connected to the body side air joint 49 erected on the apparatus body side when the mask stage 11 moves to the rear work position A2. It is connected to the air supply unit and the air suction unit via the air joint 49.
  • the pressing body stage 13 is formed in a rectangular shape elongated in the left-right direction, and a rectangular protrusion 13 b fitted in the recess 33 a of the intermediate support 33 at the working position A 2 is formed at the center in the left-right direction. ing. In a portion corresponding to the convex portion 13b, a rectangular passage hole 13a through which the push-up member 77 of the second stage lifting mechanism 22 can pass at the work position A2 is formed. Support protrusions 54 for supporting the four corners of the pellicle pressing body 12 are provided in the vicinity of the four corners of the passage hole 13a.
  • the pressing pin mechanism 41 has a pressing pin 55 having a hemispherical tip, a boss member (bush) 56 slidably supporting the pressing pin 55, and the pressing pin 55 via a connecting rod 55a. It comprises a connected piston 58, a cylindrical case 57 slidably accommodating the piston 58, and a coil spring 59 disposed in the cylindrical case 57 to bias the piston 58 in a direction away from the photomask 100. ing.
  • the boss member 56 and the cylindrical case 57 are screwed into a through hole 60 formed in the mask stage 11.
  • An air chamber 58 a formed behind the piston 58 communicates with the air supply port 46 via an air pipe 62 and the like in the air passage forming member 44.
  • FIG. 7 is a plan view of the pellicle pressing body 12, and FIG. 8 is a front view of the pellicle pressing body 12.
  • the pellicle pressing body 12 is formed in a rectangular shape having substantially the same shape as the pellicle assembly 101 in plan view, and the left end surface and the front end surface of the pellicle pressing body 12 are the pellicle assembly 101
  • a movable pressing claw 64 is provided for pushing the left end edge and the front end edge to the right and to the rear, respectively.
  • each pressing movable claw 64 is biased toward the pellicle assembly 101 (pressing side) by a spring.
  • a pair of positioning stopper claws 65 for locking the pellicle assembly 101 at the reference position are provided respectively.
  • a pair of positioning pin holes 66 for positioning the pellicle pressing body 12 with respect to the push-up member 77 are formed, and as shown in FIG.
  • An air suction port 67 is provided for retracting the claw 64 against the spring by suction air.
  • the upper surface of the apparatus main body 1 can be pulled up to a position corresponding to the air suction port 67 of the pellicle pressing body 12 at the attachment / detachment position A1.
  • a nozzle 68 is provided. That is, when the pellicle pressing body 12 is positioned at the mounting and dismounting position A1, the suction nozzle 68 is projected upward and connected to the air suction port 67 by manual operation or automatically, and the air suction action resists the spring. Thus, the movable claw 64 can be retracted. As a result, the pellicle pressing body 12 is in a state where the pellicle assembly 101 can be easily mounted.
  • FIG. 10 is a front elevational view of the second stage lifting mechanism 22
  • FIG. 11 is a cross sectional view taken along line XI-XI in FIG. 13 is a cross-sectional view taken along line XIII-XIII of FIG. 10
  • FIG. 14 is an enlarged vertical cross-sectional front view of the second stage lifting mechanism 22 when the first stroke S1a of the first stage lifting mechanism 21 is completed
  • FIG. 6 is a vertical cross-sectional front enlarged view of the second stage elevator mechanism 22 at the end of the ascent of the second stage elevator mechanisms 21 and 22.
  • FIG. 10 is a front elevational view of the second stage lifting mechanism 22
  • FIG. 11 is a cross sectional view taken along line XI-XI in FIG. 13 is a cross-sectional view taken along line XIII-XIII of FIG. 10
  • FIG. 14 is an enlarged vertical cross-sectional front view of the second stage lifting mechanism 22 when the first stroke S1a of the first stage lifting mechanism 21 is completed
  • FIG. 6 is
  • the first stage lifting mechanism 21 of the lifting device 20 includes the electric motor 24 fixed to the apparatus main body 1 and the lifting rack 23 connected to the output shaft of the electric motor 24 via a pinion gear mechanism. And.
  • the elevating rack 23 is vertically movable with respect to the apparatus main body 1 by the electric motor 24, and the elevating table 26 for mounting the second stage elevating mechanism 22 is fixed to the upper end portion of the elevating rack 23. It is done.
  • the second stage lift mechanism 22 is the air cylinder 25 installed in a vertical posture on the lift platform 26 via the cylinder support 27 and a push-up assembly 76 which is lifted and lowered by the rod 25 a of the air cylinder 25.
  • the rod 25a of the air cylinder 25 is configured to project (extend and retract) upward in the vertical direction.
  • the push-up assembly 76 includes the push-up member 77 formed in a substantially square shape in plan view, a reinforcing member (stabilizer member) 78 at the lower end portion formed in substantially the same shape as the push-up member 77 in plan view, It is comprised from the connection member 79 which is arrange
  • the bushes 77a and 78a provided thereon are vertically movably fitted and supported by four guide rods 81 erected in the vertical direction on the cylinder base 27. .
  • the reinforcing members 78 are integrally connected to the connecting member 79 by cylindrical spacers 80a and bolts 80b arranged at the four corners, and the connecting members 79 are provided at the upper end of the rod 25a of the air cylinder 25.
  • the main load cell 82 arranged at the center of the connecting member 79 in plan view. That is, the single main load cell 82 measures the overall push-up force and push-down force (N: Newton) transmitted from the rod 25a to the connecting member 79 (push-up assembly 76).
  • sub load cells 83 are disposed at four corners of the upper surface of the connecting member 79 in order to measure the distribution of the lifting force and the pressing force, and the four sub load cells 83 have four corners of the lifting member 77.
  • the lower end head portion of the transmission bolt 75 fixed in a downwardly projecting manner abuts against the lower end. That is, the push-up force and the pressing force are transmitted to the push-up member 77 from the connection member 79 through the four sub load cells 83, whereby the distribution of the four corners of the push-up force and the pressing force is measured. It can be done.
  • the push-up member 77 contains a magnet, and the adsorption force of the magnet enables the pellicle pressure body 12 to be adsorbed on the upper surface of the push-up member 77. Further, on the upper surface of the push-up member 77, two positioning pins 86 projecting upward are provided, and these positioning pins 86 are formed on the lower surface of the pellicle pressing body 12 as shown in FIG. By fitting the positioning pin hole 66, the position of the pellicle pressing body 12 with respect to the push-up member 77 is fixed at the reference position in plan view.
  • a return disc 88 is integrally provided at the upper end of the rod 25a of the air cylinder 25, while the push-up member 77 has a plurality of return bolts 89 projecting downward. Is provided so as to adjust the amount of projection, and the disc 88 is engaged with the upper surface of the lower end head of the return bolt 89 via a cushioning member 90. That is, when the air cylinder 25 is lowered, the push-up member 77 can be forcibly lowered via the return disc 88, the cushion member 90, and the return bolt 89. Further, on the upper surface of the push-up member 77, a suction nozzle 95 connectable to the suction port 67 formed on the lower surface of the pellicle pressing body 12 is provided. By suctioning air from the suction port 95, the pellicle The movable claws 64 of the pressing body 12 are suctioned to release the clamp.
  • the ascending stroke S2 of the rod 25a of the second stage elevator mechanism 22 is set to, for example, about 20 mm, and the ascending speed is set to a low speed of, for example, about 0.5 mm / second.
  • the upward stroke S1 of the rack 71 of the first-stage elevation mechanism 21 is set to about 70 mm, and the earlier stroke S1a (for example, about 6 mm / sec) with a high rise speed and the low rise speed (for example 0) And a later stroke S1 b).
  • the pellicle assembly 101 is on the mask stage 11 as shown in FIG.
  • the stroke is the stroke just before contacting the pattern surface 100 a of the photomask 100
  • the post-stroke S 1 b is after the pellicle assembly 101 contacts the pattern surface 100 a of the photomask 100 and pushes up the photomask 100 from the mask stage 11.
  • the position is such that the glass surface 100b of the photomask 100 approaches a distance of about 20 mm (stroke S2 of the second stage lifting mechanism 22) with respect to the pressing surface 5a of the mask pressing body 5.
  • the glass surface 100b of the photomask 100 faces the mask pressing body 5 at an interval of about 20 mm (stroke S2). Then, the lifting assembly 76 is raised by the stroke S2 by the air cylinder 25 so that the glass surface 100b of the photomask 100 comes into contact with the mask pressing body 5 and the mask application is performed with a constant pressing force. The pressure body 5 is pressed.
  • control panel 91 and the display unit 93 for the main load cell 82 are provided on the front side of the device body 1, and the display unit 94 for the four subload cells 83 is provided on the left of the device body 1. Is provided.
  • the photomask 100 is placed on the support ball member 40 (see FIG. 5) of the mask stage 11 at the mounting and demounting position A1. At this time, since air is not supplied into the pressing pin mechanism 41, as shown by the solid line in FIG. 6, the pressing pin 55 is retracted into the through hole 60 and does not press the photomask 100.
  • each air port on the rear end face of the air passage joint block 52 is automatically connected to each air port on the main body side joint 49.
  • a work space for attachment / detachment is secured above the pellicle pressure body 12 at the attachment / detachment position A1.
  • the pellicle assembly 101 is mounted. At this time, the pellicle assembly 101 is mounted such that the pellicle film 103 is positioned below the pellicle frame 102, and the upper end surface of the pellicle frame 102 is coated with a pressure-adhesive or adhesive film or It is stuck.
  • the right end edge and the rear end edge of the photomask 100 are respectively pressed against the right stopper pin 42 and the rear stopper pin 42, and the photomask 100 is positioned at the reference position. Further, by suctioning the air in the air passage forming body 44, dust and the like in the air passage forming body 44 and the mask stage 11 are removed.
  • the push-up member 77 ascends by the stroke S1 of the first stage, and the glass surface (upper surface) 100b of the photomask 100 approaches the pressure surface 5a of the mask pressing body 5 to a predetermined distance (about 20 mm) At this point, the lift rack 23 of the first-stage lift mechanism 21 is stopped.
  • the operator confirms whether the pressing force of the entire pellicle assembly 101 against the photomask 100 and the pressing force of the four corners are maintained at predetermined pressing forces (for example, 20N and 5N). Do. At this time, air is sucked from the movable claw 64 through the suction opening 67 of the pellicle pressing body 12 by the air suction opening 95 of the push-up member 77, whereby the movable claw 64 is retracted. Therefore, the tightening state of the pellicle assembly 101 by the movable claws 64 is released.
  • predetermined pressing forces for example, 20N and 5N.
  • the lift rack 23 of the first stage lift mechanism 21 is lowered at high speed (for example, about 3 mm / sec), and the photomask 100 and the pellicle assembly 101 are lowered together with the push-up assembly 76.
  • the pellicle pressing body 12 adsorbed on the push-up member 77 is separated downward from the pellicle assembly 101 by the photomask 100 being in contact with the mask stage 11 and being locked. . That is, with the photomask 100 and the pellicle assembly 101 adhered to the photomask 100 remaining on the mask stage 11, the pellicle pressing body 12 and the push-up assembly 76 are integrally lowered. As described above, when the pellicle pressing body 12 is separated from the pellicle assembly 101 as described above, since the tightening state of the pellicle assembly 101 by the movable claw 64 has already been released, the pellicle pressing body 12 is Are separated downward from the pellicle assembly 101 without resistance.
  • the first stage lifting mechanism 21 is constituted by the electric motor 24 and the lifting rack 23 connected to the electric motor 24 via the pinion mechanism, so that a large push-up force and a long stroke can be easily secured.
  • the second stage lifting mechanism 22 is configured by the air cylinder 25, the size and weight can be reduced.
  • the rising stroke S1 by the first stage lifting mechanism 21 is the same as the stroke S1a until the pellicle assembly 101 abuts the photomask 100 held by the mask stage 11 and the photomask 100 from the mask stage 11 Lifting, and the second stroke S1b until the glass surface 100b of the photomask 100 approaches the mask pressing body 5 up to a predetermined distance, and the rising speed in the first stroke S1a is set to a high speed (for example, 6 mm / sec); Since the rising speed in the late stroke S1b is set to a lower speed (for example, 0.5 mm / second) than the rising speed of the stroke S1a, the shock when the pellicle assembly 101 abuts on the photomask 100 is suppressed.
  • the pellicle assembly 101 is brought into contact with the photomask 100 with high accuracy. Rukoto can.
  • the main load cell 82 for detecting the entire pressing force (push-up force) by the push-up member 77, and four sub-load cells 83 distributed at the four corners of the pellicle pressure body 12. Since the pressing force of the entire pellicle assembly 101 against the photomask 100 and the distribution of the four corners can be confirmed, the pressing force can be easily made uniform and the quality can be improved.
  • the mask stage 11 has a plurality of support ball members 40 for supporting the photomask 100 movably in the horizontal direction, and the left end edge and the front end edge of the photomask 100 respectively directed to the right and rear positioning stopper pins 42.
  • each pressing pin mechanism 41 is normally urged away from the photo mask 100 by a spring 59, and is pressed against the spring 59 by compressed air. Since it is configured to move to the photo mask side and position the photo mask 100, it can be positioned smoothly without damaging the photo mask 100 by a light pressure, and moreover, the photo mask from the mask stage 11 When lifting 100, there is almost no resistance, maintaining a normal horizontal posture, and lifting slightly That.
  • the first stage lifting mechanism 21 is a pinion rack type
  • the second stage lifting mechanism 22 is an air cylinder type
  • the first stage lifting mechanism 21 has a large capacity and a long stroke. It is also possible to use an air cylinder or to use a lead screw and a lift nut or a ball nut screwed with the lead screw. Further, it is also possible to use a rack type or screw feed type mechanism as the second stage lifting mechanism.
  • the present invention is also applicable to a pellicle attaching apparatus for attaching a pellicle assembly to an exposure photomask for exposing and forming a circuit substrate of FPD (flat panel display) such as a TFT liquid crystal substrate.
  • FPD flat panel display

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Abstract

　水平配置されたフォトマスク(100)を加圧するマスク加圧体(5)と、ペリクル組立体(101)を下方から加圧するペリクル加圧体(12)と、該ペリクル加圧体(12)を昇降する昇降装置(20)と、を備え、該昇降装置(20)により前記ペリクル組立体(101)を前記ペリクル加圧体(12)と共に上昇させ、前記フォトマスク(100)のパターン面にペリクルフレーム(102)を接着するペリクル貼付装置である。前記昇降装置(20)は、下側の第１段昇降機構(21)と上側の第２段昇降機構(22)とを有する上下２段構造となっており、前記第２段昇降機構(22)は、前記ペリクル加圧体(12)を下方から押し上げる押し上げ部材(77)を有している。前記第２段昇降機構(22)による押し上げ力は、前記第１段昇降機構(21)による押し上げ力よりも小さく、かつ、前記第２段昇降機構(22)による上昇ストロークは、前記第１段昇降機構(21)による上昇ストロークよりも小さく設定されている。

Description

ペリクル貼付装置
本発明は、ペリクル膜及びペリクルフレームによって構成されるペリクル組立体を、フォトマスクのパターン面に貼り付けるためのペリクル貼付装置に関する。
　図１６はペリクル組立体１０１を露光用のフォトマスク１００に貼り付けた状態を示し、図１７はペリクル組立体１０１をフォトマスク１００に貼り付ける前の状態を示している。図１７において、ペリクル組立体１０１は、アルミ等の金属でできた矩形状のペリクルフレーム１０２と、該ペリクルフレーム１０２の片面に張設された透明のペリクル膜１０３とから構成されている。フォトマスク１００としては、半導体製造工程においてシリコンウエハ等に集積回路を露光形成するためのフォトマスク、あるいはＴＦＴ液晶基板等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の回路基板を露光形成するためのフォトマスクが適用されている。フォトマスク１００の一方の面１００ａは、回路パターンが露光形成されたパターン面（クロム面）となっており、他方の面１００ｂは、一般的にはガラス面と呼ばれている。
　図１６のように、ペリクル組立体１０１は、ペリクル貼付装置により、フォトマスク１００のパターン面１００ａの露光パターン領域を覆うように、接着剤によりパターン面１００ａの外周部に貼り付けられる。このようにペリクル組立体１０１をフォトマスク１００に貼り付けることにより、フォトマスク１００の表面に微細な塵等の異物が付着するのを防いでいる。
　現在、主流の半導体用フォトマスク１００は、たとえば、一辺が１５２ｍｍ（６インチ）の正方形であり、その厚みは、約６．３ｍｍである。別の大きさの半導体用フォトマスクとしては、一辺が１２６．６ｍｍ（５インチ）の正方形のものもあり、その厚みは、約２．３ｍｍである。
　図１８は、従来（特許文献１）の水平配置式のペリクル貼付装置の要部を一部断面でしめす正面略図である。ペリクル貼付装置は、上側支持部材２０１に水平支持されたマスク加圧体２０２と、下側の加圧体ステージ２０３に水平支持されたペリクル加圧体２０４とが、上下に対向配置されており、ペリクル加圧体２０４の上面にペリクル組立体１０１が載置されている。ペリクルフレーム１０２の上端には、圧力接着式の接着剤又は接着膜が塗布あるいは貼着されている。
　ペリクル組立体１０１とマスク加圧体２０２との間には、枠状のマスクステージ２０５に保持されたフォトマスク１００が、パターン面１００ａを下に向けて水平配置されている。
　マスクステージ２０５は、フォトマスク１００を下方から支持する４本の水平な支持ピン２１０と、フォトマスク１００の左右の一端縁及び前後の一端縁をそれぞれ水平方向の他端縁側に押圧する板ばね２１１とを有している。支持ピン２１０上に支持されたフォトマスク１００は、前記各板ばね２１１で押圧されることにより、フォトマスク１００の左右の他端縁及び前後の他端縁がマスクステージ２０５の内周面の各他端側に押し付けられ、これにより平面視での位置決めがなされている。
　ペリクル加圧体２０４は加圧体ステージ２０３に載置され、ペリクル組立体１０１は、ペリクル膜１０３を下側に向けてペリクル加圧体２０４の上面に載置されると共に、左右の一端縁及び前後の一端縁がそれぞれ可動爪２１３で他端縁側へ押圧され、それぞれ他端縁側のストッパー爪２１４に押し付けられている。
　ペリクル加圧体２０４の下方には、昇降装置として、単一のエアシリンダ２２１が垂直姿勢に配置されている。エアシリンダ２２１のロッド２２１ａは上下方向に伸縮可能であり、その上端部に、押し上げ部材２２２が一体的に設けられている。
　作用を簡単に説明すると、エアシリンダ２２１のロッド２２１ａを上方に伸張させることにより、ロッド２２１ａと一体的に押し上げ部材２２２が上昇する。上昇する押し上げ部材２２２は、まず、ペリクル加圧体２０４及びペリクル組立体１０１を加圧体ステージ２０３から上方に離すように押し上げ、ペリクルフレーム１０２の上端面がフォトマスク１００のパターン面１００ａに当接した後は、フォトマスク１００をマスクステージ２０５から上方に離すように、ペリクル加圧体２０４、ペリクル組立体１０１及びフォトマスク１００を一体的に押し上げる。
　そして、図１９のように、フォトマスク１００のガラス面１００ｂがマスク加圧体２０２の下面に当接し、一定の押し付け力（１５０Ｎ～３００Ｎ程度）まで上昇した状態で、一定時間、押圧状態を保つ。これにより、ペリクル組立体１０１はフォトマスク１００に貼り付けられる。
国際公開第２００９／０６００８４号
　最先端の半導体として、回路線幅が２０ｎｍ（ナノメータ）程度の高密度のものが開発されており、このように回路線幅が微細な半導体用のフォトマスク１００にペリクル組立体１０１を貼り付ける場合、貼り付け作業において、パターン面１００ａに露光形成されている回路パターンの歪み（位置ずれ）は、３ｎｍ～２ｎｍ以下に抑制することが要求される。すなわち、３ｎｍ～２ｎｍ程度よりも大きい歪みが発生すると、露光工程における結像位置が変化し、精度良く回路パターンを露光形成できなくなる。
　上記歪の発生を抑える対策として、ペリクル組立体１０１をフォトマスク１００に押し付ける時の押し付け力を低くし、かつ、ペリクル加圧体２０４全体を、より均一に加圧することが必要となる。
　具体的には、従来の半導体製造工程においては、ペリクル組立体１０１の押し付け時における加圧条件は、１５０Ｎ（ニュートン）～３００Ｎ程度であったが、回路パターンの歪みを、３ｎｍ～２ｎｍ程度以下に抑制するためには、たとえば１５Ｎ～３０Ｎ程度に低く抑えることが要望される。
　ところが、図１８及び図１９のように、単一のシリンダ２２１の動作（ストローク）により、ペリクル加圧体２０４、ペリクル組立体１０１及びフォトマスク１００を所定ストロークだけ上昇させる動作と、一定の押し付け力でペリクル組立体１０１をフォトマスク１００に押し付ける動作とを行う構造であると、次のような課題が生じる。
（１）フォトマスク１００、ペリクル組立体１０１及びペリクル加圧体２０４を個々に着脱できるスペースを確保するために、マスク加圧体２０２とマスクステージ２０５と加圧体ステージ２０３とを、上下方向に一定間隔を保って配置する必要があり、そのため、昇降装置のシリンダ２２１として、長いストロークのものが要求される。しかも、静的動的精度が必要となることから、上昇させる構造物は重量が大きくなるので（１０kg～１５kg)、押し上げ力（容量）の大きいシリンダあるいはモータ等が要求される。
　ところが、上記のように、押し上げ力が大きくて長いストロークを有する単一のシリンダ２２１を使用していると、長いストロークを上昇後に、たとえば１５Ｎ（又は３０Ｎ）以下の低い押し付け力によって、フォトマスク１００にペリクル組立体１０１を押し付けようとしても、所定の押し付け力に到達後も上方へオーバーシュートしたり、あるいは繰り返し作業の誤差が大きくなったりして、押し付け精度（加圧精度）を維持することが困難になる。
　本発明の目的は、低い押し付け力によりフォトマスクにペリクル組立体を押し付けることが要求される一方、重量のある構造体を大きな押し上げ力で長い上昇ストローク、押し上げることが要求される場合でも、いずれの要求も満足させ、精度良く、ペリクル組立体をマスクステージに貼り付けることができる、ペリクル貼付装置を提供することである。
　上記課題を解決するため、本発明は、パターン面を下に向けて水平配置されたフォトマスクを上方から加圧するマスク加圧体と、ペリクルフレームにペリクル膜を貼り付けてなるペリクル組立体を下方から加圧するペリクル加圧体と、該ペリクル加圧体を昇降する昇降装置と、を備え、該昇降装置により前記ペリクル組立体を前記ペリクル加圧体と共に上昇させ、前記パターン面に前記ペリクルフレームを接着するペリクル貼付装置において、前記昇降装置は、下側の第１段昇降機構と、該第１段昇降機構により昇降される上側の第２段昇降機構と、を有する上下２段構造となっており、前記第２段昇降機構は、前記ペリクル加圧体を下方から押し上げる押し上げ部材を有し、前記第２段昇降機構による押し上げ力は、前記第１段昇降機構による押し上げ力よりも小さく、かつ、前記第２段昇降機構による上昇ストロークは、前記第１段昇降機構による上昇ストロークよりも小さく設定されている。
　本発明は、上記ペリクル貼付装置において、次のような構成を備えることができる。
（ａ）前記第１段昇降機構による上昇ストロークは、前記押し上げ部材が、最下位置から前記ペリクル加圧体と共に前記ペリクル組立体を押し上げ、該ペリクル組立体がマスクステージ上の前記フォトマスクのパターン面に当接する前までの前期ストロークと、前記マスクステージから前記フォトマスクを押し上げるまでの後期ストロークと、を有し、前記前期ストロークにおける上昇速度が、前記後期ストロークにおける上昇速度よりも大きい値に設定されている。
（ｂ）前記第１段昇降機構は、モータと、該モータに連結されて上下方向に移動する昇降ラックと、から構成され、前記第２段昇降機構は、エアシリンダにより構成されている。この場合、好ましくは、前記エアシリンダと前記押し上げ部材との間には、平面視で、矩形の前記ペリクル加圧体の略中央部に位置して前記第２段昇降機構による押し付け力の全体を検出するメインロードセルと、前記ペリクル加圧体の少なくとも四隅部に分散配置された４個のサブロードセルと、を備えている。
（ｃ）前記マスクステージは、平面視で矩形の前記フォトマスクを水平方向移動可能に支持する複数の支持ボール部材と、前記フォトマスクの４辺のうち、隣り合う２辺をそれぞれ基準位置に係止する位置決め用ストッパー部と、前記各ストッパー部側に向けて前記フォトマスクの残り２辺をそれぞれ押圧する押圧ピン機構と、を備え、前記各押圧ピン機構は、ばねにより前記フォトマスクから離れるように付勢され、圧縮エアにより、前記ばねに抗して前記フォトマスク側に移動し、フォトマスクを前記ストッパー部に押し付けるように構成されている。
（１）本発明によると、貼付作業の第１段階として、押し上げ力が大きくてストロークが長い第１段昇降機構により、ペリクル加圧体、ペリクル組立体、フォトマスク、第２段昇降機構及び第１段昇降機構の昇降ラック等の重量物を、マスク加圧体の下側近傍まで上昇させ、第２段階として、押し上げ力が小さくてストロークが短い第２段昇降機構により、フォトマスクのガラス面をマスク加圧体に圧接させ、低い押し付け力によりマスク加圧体とペリクル加圧体との間でフォトマスク及びペリクル組立体を一定時間挟圧するので、作業能率を維持しつつ、フォトマスクに生じる歪の発生を抑制することができ、品質の良いペリクル組立体付きフォトマスクを提供できる。
（２）構成（ａ）によると、前期ストロークで第１段昇降機構を高速上昇させることにより、作業能率をさらに向上させ、かつ、後期ストロークで第１段昇降機構を低速上昇させることにより、ペリクル組立体がフォトマスクに当接する際の衝撃を抑え、これにより、貼り付け精度を向上させ、品質を向上させることができる。
（２）構成（ｂ）によると、第１段昇降機構は、垂直な昇降ラックをピニオン等で上昇させる機構であるので、大きな押し上げ力及び長いストロークを容易に確保でき、一方、第２段昇降機構はエアシリンダであるので、小型軽量化できる。
（３）また、第２段昇降機構による押し付け力の全体を検出するメインロードセルと、前記ペリクル加圧体の少なくとも四隅部に分散配置された４個のサブロードセルと、を備えていることにより、フォトマスクに対するペリクル組立体全体の押し付け力及びその分布を確認でき、容易に押し付け力の均一化を図り、品質を向上させることができる。
（４）上記構成（ｃ）によると、押圧ピン機構の軽い押圧力により、フォトマスクを、傷付けることなく位置決めすることができ、しかも、マスクステージからフォトマスクを持ち上げる際に、押圧ピン機構の押圧力を解除することにより、抵抗が殆どかからず、正常な水平姿勢を保って、軽く持ち上げることができる。
本発明にかかるペリクル貼付装置を一部断面で示す正面図である。 図１のII-II断面図である。 図１のIII-III断面である。 図１のIV-IV断面図である。 図１のV-V断面図である。 図５の矢印VI部分の水平断面拡大図である。 ペリクル加圧体の拡大平面図である。 ペリクル加圧体の正面図である。 昇降装置全体の縦断正面図である。 第２段昇降機構の縦断正面拡大図である。 図１０のXI-XI断面図である。 第２段昇降機構の押し上げ部材の平面図である。 図１０のXIII-XIII断面図である。 第１段昇降機構が前期ストロークから後期ストロークに移行する時点での第２段昇降機構の縦断正面拡大図である。 第２段昇降機構の上昇終了時点での縦断正面拡大図である。 ペリクル組立体１０１をフォトマスク１００に貼り付けた状態を示す底面図である。 ペリクル組立体１０１をフォトマスク１００に貼り付ける前の状態を示す斜視図である。 従来のペリクル貼付装置の縦断面図である。 図１８の従来例の作動中の状態を示す縦断面図である。
［ペリクル貼付装置の全体構成の概略］
　該実施の形態におけるペリクル貼付装置は、図１６及び図１７で説明したように、半導体製造工程においてシリコンウエハ等に集積回路を露光形成するための露光用フォトマスク１００に、ペリクル組立体１０１を貼り付けるための装置である。
　図１は、本発明にかかるペリクル貼付装置を一部断面で示す正面図（ただし、ハッチングは省略）、図２、図３及び図４は、それぞれ図１のII-II、III-III及びIV-IV断面図である。なお、説明の都合上、ペリクル貼付装置に対して作業者が位置する操作側（図１の手前側）を、ペリクル貼付装置及び他の構成部品の前側とし、作業者から見た左右を、ペリクル貼付装置及び他の構成部品の左右として、以下説明する。
　図１において、ペリクル貼付装置は、装置本体１と、該装置本体１の上方に複数の支柱２を介して支持された天井壁３とを、備えており、天井壁３には、下方に突出するマスク加圧体支持台４が設けられ、該マスク加圧体支持台４の下端に、水平な下向きの加圧面５ａを有するマスク加圧体５が支持されている。
　装置本体１の上面には、前後方向に延びる左右一対のガイドレール７が敷設されており、該ガイドレール７には、フォトマスク１００を水平に保持するための水平なマスクステージ１１と、ペリクル加圧体１２を水平に保持するための水平な加圧体ステージ１３とが、それぞれ前後方向にスライド自在に支持されている。各ガイドレール７の左右方向の内側には、マスクステージ１１を前後方向に移動させるためのマスクステージ移動用のエアシリンダ１４と、加圧体ステージ１３を前後方向に移動させるための加圧体テージ移動用のエアシリンダ１５とが配置されている。
　装置本体１内には、ペリクル加圧体１２、ペリクル組立体１０１及びフォトマスク１００を昇降するための昇降装置２０が配設されており、この昇降装置２０は、上下２段構造となっており、昇降ラック２３及び速度可変型の電動モータ２４等からなる下側の第１段昇降機構２１と、該第１段昇降機構２１の昇降台２６上にシリンダ支持台２７を介して載置されたエアシリンダ２５からなる上側の第２段昇降機構２２とを備えている。
［加圧体ステージ１３及びマスクステージ１１の支持構造］
　図２において、加圧体ステージ１３は、複数本の筒状脚２８を介してスライド支持板２９に支持されており、該スライド支持板２９には、左右にそれぞれ一対のスライダー３０が設けられ、該スライダー３０が前記ガイドレール７に前後方向移動自在に係合している。
　マスクステージ１１は、前記加圧体ステージ１３よりも一定高さ上方に配置され、マスクステージ１１の後端部が、前記加圧体ステージ１３と同一高さの中間支持板３３に脚部材３４を介して支持されている。前記中間支持板３３は、複数本の筒状脚３５を介してスライド支持板３６に支持されており、該スライド支持板３６には、左右にそれぞれ一対のスライダー３７が設けられ、該スライダー３７は前記ガイドレール７に前後方向移動自在に係合している。
　上記構成により、加圧体ステージ１３とマスクステージ１１とは、仮想線で示す前側の着脱位置Ａ１と、実線で示す後側の作業位置Ａ２との間で、それぞれ独立して、前後方向移動可能となっている。
　図４において、加圧体ステージ１３用のスライド支持板２９と、マスクステージ１１用のスライド支持板３６とは、それぞれ左右一対配置されており、左右それぞれに前後一対の前記スライダー３０，３７がそれぞれ設けられている。
　各移動用エアシリンダ１４，１５は、ガイドレール７と平行に配置されると共に、内部に前後方向移動可能なピストンを内蔵しており、該内蔵ピストンと、各エアシリンダ１４，１５の外周面に前後方向移動可能に嵌合する金属製のスライド筒３８，３９とが、磁力により一体的に前後方向に移動するように結合されている。各スライド筒３８，３９は、それぞれマスクステージ１１用のスライド支持板３６と、加圧体ステージ１３用のスライド支持板２９とに、連結部材を介して結合されている。
［マスクステージ１１及び加圧体ステージ１３の構造］
　図５は図１のV-V断面であって、マスクステージ１１及び加圧体ステージ１３の平面図に相当し、図６はマスクステージ１１の押圧ピン機構４１の水平断面拡大図である。図５において、マスクステージ１１は略正方形の枠状に形成されており、内周孔１１ａは、ペリクル加圧体１２及び第２昇降機構２２の押し上げ部材７７が通過可能な大きさ及び形状となっている。
　マスクステージ１１の内周孔１１ａの四隅部には、フォトマスク１００の四隅部を下方から支持する４個の支持ボール部材４０が回転自在に支持されている。マスクステージ１１の左枠部分及び前枠部分には、フォトマスク１００の左端縁及び前端縁をそれぞれ右方及び後方に押圧するための押圧ピン機構４１が、それぞれ一対配置されている。一方、内周孔１１ａの右端縁と後端縁には、フォトマスク１００を所定の基準位置に係止するためのストッパーピン（ストッパー部）４２がそれぞれ一対ずつ設けられている。
　また、マスクステージ１１の左端外周から前端外周に亘り、平面視でＬ字形のエア通路形成部材４４が設けられており、該エア通路形成部材４４の左端縁には、各押圧ピン機構４１に押圧用の圧縮エアを供給するための一対のエア供給口４６と、エア通路形成部材４４内及び押圧ピン機構４１の周辺の塵埃等を吸引するための一対のエア吸引口４７が形成されている。
　マスクステージ１１の下方に配置された前期中間支持板３３は、左右方向に長く形成されると共に、左右幅の中央部に、後方に凹む矩形の凹部３３ａが形成されている。すなわち、中間支持板３３全体として、平面視で、前向きコの字状に形成されている。
　中間支持板３３の左端部には、エア通路接続用のエア通路継手ブロック５２が設けられており、該継手ブロック５２内に形成された複数のエア供給通路及びエア吸引通路の前端は、それぞれエア管５０、５１を介して前記エア通路形成部材４４のエア供給口４６及びエア吸引口４７に接続されている。継手ブロック５２の後端面に形成された各エア口（図示せず）は、マスクステージ１１が後方の作業位置Ａ２まで移動した時に、装置本体側に立設された本体側エア用継手４９に接続し、該エア用継手４９を介してエア供給部及びエア吸引部に接続するようになっている。
　加圧体ステージ１３は、左右方向に長い長方形状に形成されると共に、左右方向の中央部には、作業位置Ａ２において前記中間支持体３３の凹部３３ａに嵌る矩形状の凸部１３ｂが形成されている。該凸部１３ｂに対応する部分には、作業位置Ａ２において第２段昇降機構２２の押し上げ部材７７が通過可能な矩形の通過孔１３ａが形成されている。該通過孔１３ａの四隅近傍部分には、ペリクル加圧体１２の四隅を支持するための支持突部５４が設けられている。
　図６において、押圧ピン機構４１は、先端が半球状の押圧ピン５５と、該押圧ピン５５を摺動自在に支持するボス部材（ブッシュ）５６と、前記押圧ピン５５に連結ロッド５５ａを介して連結されたピストン５８と、該ピストン５８を摺動自在に収納する円筒ケース５７と、該円筒ケース５７内に配置されてピストン５８をフォトマスク１００から離れる方向に付勢するコイルばね５９とを備えている。前記ボス部材５６及び円筒ケース５７は、マスクステージ１１に形成された貫通孔６０内に螺着されている。ピストン５８の背後に形成されたエア室５８ａは、エア通路形成部材４４内のエア管６２等を介して、前記エア供給口４６に連通している。
　すなわち、エア室５８ａに圧縮エアが供給されていない時には、コイルばね５９よりピストン５８がフォトマスク１００と反対側に押され、これにより、押圧ピン５５は、フォトマスク１００から離れている。一方、エア室５８ａに圧縮エアが供給された時には、コイルばね５９に抗してピストン５８がフォトマスク１００側に移動し、これにより、押圧ピン５５は貫通孔６０から内周孔１１ａ内に押し出され、仮想線で示すようにフォトマスク１００を押圧する。
［ペリクル加圧体１２の構成］
　図７はペリクル加圧体１２の平面図、図８はペリクル加圧体１２の正面図である。図７において、ペリクル加圧体１２は、平面視でペリクル組立体１０１と略同形状の矩形状に形成されており、ペリクル加圧体１２の左端面と前端面には、ペリクル組立体１０１の左端縁と前端縁とをそれぞれ右方と後方とに押すための押圧用可動爪６４が設けられている。各押圧用可動爪６４は、図示しないが、ばねによりペリクル組立体１０１側（押圧側）に付勢されている。一方、ペリクル加圧体１２の後端縁及び右端縁には、ペリクル組立体１０１を基準位置に係止するための位置決め用ストッパー爪６５がそれぞれ一対ずつ設けられている。また、ペリクル加圧体１２の下面には、ペリクル加圧体１２を押し上げ部材７７に対して位置決めするための一対の位置決め用のピン孔６６が形成されると共に、図８のように、前記可動爪６４を吸引エアによりばねに抗して後退作動させるためのエア吸引口６７が設けられている。
　また、前記エア吸引口６７からエアを吸引するために、装置本体１の上面には、着脱位置Ａ１のペリクル加圧体１２のエア吸引口６７に対応する位置に、上方に突退自在な吸引ノズル６８が設けられている。すなわち、ペリクル加圧体１２が着脱位置Ａ１に位置した時に、手動操作により、あるいは自動的に、吸引ノズル６８が上方に突出してエア吸引口６７に接続され、エア吸引作用により、ばねに抗して可動爪６４を後退させることができる。これにより、ペリクル加圧体１２は、ペリクル組立体１０１を容易に載置できる状態となる。
［昇降装置２０の構造］
　図９は、昇降装置２０を一部断面で示す正面図、図１０は第２段昇降機構２２の縦断正面図、図１１は図１０のXI-XI断面図、図１２は押し上げ部材７７の平面図、図１３は図１０のXIII-XIII断面図、図１４は第１段昇降機構２１の前期ストロークＳ１ａが終了した時点での第２段昇降機構２２の縦断正面拡大図、図１５は第１及び第２段昇降機構２１，２２の上昇終了時点での第２段昇降機構２２の縦断正面拡大図である。
　図９において、昇降装置２０の第１段昇降機構２１は、装置本体１に固定された前記電動モータ２４と、該電動モータ２４の出力軸にピニオンギヤ機構を介して連結された前記昇降ラック２３と、を備えている。昇降ラック２３は、電動モータ２４により、装置本体１に対して上下方向に移動可能であり、昇降ラック２３の上端部には、第２段昇降機構２２を搭載するための前記昇降台２６が固着されている。
　図１０において、第２段昇降機構２２は、昇降台２６上にシリンダ支持台２７を介して垂直姿勢に設置された前記エアシリンダ２５と、該エアシリンダ２５のロッド２５ａにより昇降する押し上げ組立体７６とを備えており、エアシリンダ２５のロッド２５ａは、垂直方向の上方に突退（伸縮）するように構成されている。
　押し上げ組立体７６は、平面視で略正方形状に形成された前記押し上げ部材７７と、平面視で前記押し上げ部材７７と略同形状に形成された下端部の補強部材（スタビライザー部材）７８と、前記押し上げ部材７７と補強部材７８との上下方向間に配置されると共に平面視で前記押し上げ部材７７と略同形状に形成された連結部材７９と、から構成されている。押し上げ部材７７及び補強部材７８は、それらに設けられたブッシュ７７ａ、７８ａが、シリンダ台２７に垂直方向に立設された４本のガイドロッド８１に、上下方向移動可能に嵌合支持されている。
　図１１において、補強部材７８は、四隅に配置された筒状のスペーサ８０ａ及びボルト８０ｂにより連結部材７９に一体的に連結されており、連結部材７９は、エアシリンダ２５のロッド２５ａの上端部に対し、平面視で連結部材７９の中央部に配置されたメインロードセル８２を介して載置されている。すなわち、単一のメインロードセル８２により、ロッド２５ａから連結部材７９（押し上げ組立体７６）に伝達される全体の押し上げ力及び押し付け力（Ｎ：ニュートン）が測定されるようになっている。
　また、連結部材７９の上面の四隅部分には、押し上げ力及び押し付け力の分布を測定するために、サブロードセル８３がそれぞれ配置されており、該４個のサブロードセル８３に、押し上げ部材７７の四隅に下方突出状に固定された伝達ボルト７５の下端頭部が当接している。すなわち、押し上げ部材７７に対し、連結部材７９から４個のサブロードセル８３を介して押し上げ力及び押し付け力が伝達されるようになっており、これにより、押し上げ力及び押し付け力の四隅の分布が測定できるようになっている。
　押し上げ部材７７は磁石を内蔵しており、該磁石の吸着力により、押し上げ部材７７の上面にペリクル加圧体１２を吸着できるようになっている。また、押し上げ部材７７の上面には、上方に突出する２本の位置決めピン８６が設けられており、これらの位置決めピン８６は、図９のように、ペリクル加圧体１２の下面に形成された位置決め用ピン孔６６に嵌合することにより、平面視で、押し上げ部材７７に対するペリクル加圧体１２の位置を、基準位置に固定するようになっている。
　図１０において、エアシリンダ２５のロッド２５ａの上端部には、リターン用の円板８８が一体的に設けられており、一方、押し上げ部材７７には、下方に突出する複数本のリターン用ボルト８９が突出量調節自在に設けられており、該リターン用ボルト８９の下端頭部の上面に、クッション材９０を介して前記円板８８が係合している。すなわち、エアシリンダ２５が下降する時に、リターン用円板８８、クッション材９０及びリターン用ボルト８９を介して、押し上げ部材７７を強制的に下降させられるようになっている。さらに押し上げ部材７７の上面には、ペリクル加圧体１２の下面に形成された前記吸引口６７に接続可能な吸引ノズル９５が設けられており、該吸引口９５からエア吸引することにより、前記ペリクル加圧体１２の可動爪６４を吸引作動して、クランプ解除するようになっている。
　第２段昇降機構２２のロッド２５ａの上昇ストロークＳ２は、たとえば２０ｍｍ程度に設定され、上昇速度は、たとえば０．５ｍｍ／秒程度の低速に設定されている。一方、前記第１段昇降機構２１のラック７１の上昇ストロークＳ１は、７０ｍｍ程度に設定され、かつ、上昇速度の速い（たとえば６ｍｍ／秒程度）の前期ストロークＳ１ａと、上昇速度の遅い（たとえば０．５ｍｍ／秒程度）の後期ストロークＳ１ｂとに分けられている。
　前期ストロークＳ１ａは、たとえば、昇降ラック２３が最も下降した最下位置から、押し上げ部材７７がペリクル加圧体１２を押し上げて後、図１４に示すように、ペリクル組立体１０１がマスクステージ１１上のフォトマスク１００のパターン面１００ａに当接する直前までのストロークであり、後期ストロークＳ１ｂは、ペリクル組立体１０１がフォトマスク１００のパターン面１００ａに当接してマスクステージ１１からフォトマスク１００を押し上げた後、フォトマスク１００のガラス面１００ｂが、マスク加圧体５の加圧面５ａに対して２０ｍｍ程度（第２段昇降機構２２のストロークＳ２）の距離に近づいた位置まで設定されている。すなわち、第１段昇降機構２１の昇降ラック２３が、後期ストロークＳ１ｂを上昇し終えた時には、フォトマスク１００のガラス面１００ｂが略２０ｍｍ程度の間隔（ストロークＳ２）でマスク加圧体５に対向しており、次に、エアシリンダ２５により押し上げ組立体７６が前記ストロークＳ２だけ上昇することにより、フォトマスク１００のガラス面１００ｂがマスク加圧体５と接触し、かつ、一定の押し付け力でマスク加圧体５に押し付けられる。
　なお、図２において、装置本体１の正面側には、操作盤９１及びメインロードセル８２用の表示部９３が設けられ、装置本体１の左側には、４個のサブロードセル８３用の表示部９４が設けられている。
［貼り付け作業］
（１）着脱作業工程においては、図２に仮想線で示すように、マスクステージ１１及び加圧体ステージ１３は、それぞれ装置正面側（前側）の着脱位置Ａ１に位置している。この時、加圧体ステージ１３の上面にはペリクル加圧体１２が搭載されている。しかも、図８のように、ペリクル加圧体１２の下面吸引口６７は、突出状態の吸引ノズル６８に接続されており、エア吸引作用により、ペリクル加圧体１２の可動爪６４は非押圧位置まで後退している。
（２）最初の着脱作業として、着脱位置Ａ１のマスクステージ１１の支持ボール部材４０（図５参照）上にフォトマスク１００を載置する。この時、押圧ピン機構４１内にはエアが供給されていないので、図６の実線で示すように、押圧ピン５５は貫通孔６０内に後退しており、フォトマスク１００を押圧していない。
（３）図２の操作盤９１のマスクステージ移動用ボタン（またはキー）を操作することにより、マスクステージ１１を仮想線で示す着脱位置Ａ１から後方の作業位置Ａ２まで移動させる。作業位置Ａ２まで移動すると、図５に示すように、エア通路継手ブロック５２の後端面の各エア口が本体側継手４９の各エア口に自動的に接続される。
（４）上記のようにマスクステージ１１が作業位置Ａ２まで移動することにより、着脱位置Ａ１のペリクル加圧体１２の上方に着脱作業スペースが確保され、この状態において、ペリクル加圧体１２上にペリクル組立体１０１を搭載する。このとき、ペリクル組立体１０１は、ペリクル膜１０３がペリクルフレーム１０２の下側に位置するように搭載され、かつ、ペリクルフレーム１０２の上端面には、圧力接着式の接着剤又は接着膜が塗布あるいは貼着されている。
（５）操作盤９１のペリクル加圧体１２用の操作ボタン（又は操作キー）を押すことにより、まず、図８のエア吸引ノズル６８が下降し、エア吸引が停止されることにより、ペリクル加圧体１２の可動爪６４がばね力によりペリクル組立体１０１側に移動し、ペリクル組立体１０１を、右側及び後側のストッパー爪６５に当接させる。これにより、ペリクル組立体１０１が基準位置に位置決めされる。続いて、図２に実線で示すように、ペリクル加圧体１２が着脱位置Ａ１から後方の作業位置Ａ２まで移動し、マスクステージ１１の直下で停止する。
（６）次に、操作盤９１の貼付操作ボタン（又は操作キー）を押すことにより、まず、図５に示す本体側継手４９からエア管５０を介して各押圧ピン機構４１に圧縮エアが供給されると同時に、エア管５１を介してエア通路形成体４４内のエアが吸引される。各押圧ピン機構４１に圧縮エアが供給されることにより、図６において、ピストン５８がコイルばね５９のばね力に抗してマスクステージ１１の内周孔１１ａ内に突出し、フォトマスク１００の左端縁及び前端縁を押圧する。これにより、図５において、フォトマスク１００の右端縁及び後端縁がそれぞれ右側のストッパーピン４２及び後側のストッパーピン４２に押し付けられ、フォトマスク１００が基準位置に位置決めされる。また、エア通路形成体４４内のエアが吸引されることにより、エア通路形成体４４内及びマスクステージ１１内の塵等が除去される。
（７）続いて、図９において、第１段昇降機構２１の電動モータ２４が駆動し、昇降ラック２３が最下位置から、たとえば６ｍｍ／秒程度の高速で上昇する。この時、第２段昇降機構２２のエアシリンダ２５のロッド２５ａは、下方に収縮した状態である。
（８）第１段昇降機構２１の昇降ラック２３が高速で上昇する前期ストロークＳ１ａでは、まず、図１０において、押し上げ部材７７がペリクル加圧体１２の下面に当接し、ペリクル加圧体１２を磁力により吸着すると共に、位置決めピン８６が位置決め孔６６に嵌合することにより、押し上げ部材７７に対してペリクル加圧体１２を基準位置に位置決めし、加圧体ステージ１３からペリクル加圧体１２を上方に押し上げる。
（９）図１４のように、ペリクル組立体１０１の上端縁がマスクステージ１１上のフォトマスク１００のパターン面１００ａの間近に到達した時点で、前期ストロークＳ１ａが終了し、続いて、たとえば０．５ｍｍ／秒程度の低速による後期ストロークＳ１ｂに移行する。この低速上昇行程中、ペリクル組立体１０１がフォトマスク１００のパターン面１００ａに当接し、マスクステージ１１からペリクル組立体１０１と共にフォトマスク１００を上方に持ち上げる。フォトマスク１００をマスクステージ１１から上方に離反させる時に、マスクステージ１１の押圧ピン機構４１の圧縮エアが解放され、それにより押圧ピン機構４１による押圧力が解除される。したがって、フォトマスク１００は、大きな抵抗を受けることなく、速やかにマスクテージ１１から離れることができる。
（１０）押し上げ部材７７が第１段目のストロークＳ１だけ上昇し、フォトマスク１００のガラス面（上面）１００ｂがマスク加圧体５の加圧面５ａに対して所定距離（２０ｍｍ程度）まで近づいた時点で、第１段昇降機構２１の昇降ラック２３は停止する。
（１１）昇降ラック２３の停止に続いて、第２段昇降機構２２のエアシリンダ２５のロッド２５ａが上方に伸張する。これにより、昇降台２６に対して押し上げ組立体７６が上昇し、上端部の押し上げ部材７７により、フォトマスク１００及びペリクル組立体１０１を、ペリクル加圧体１２と共に、低速（たとえば０．５ｍｍ／秒程度）で押し上げる。
（１２）フォトマスク１００のガラス面１００ｂがマスク加圧体５の加圧面５ａに当接した後、更にエアシリンダ２５のロッド２５ａにより下方から加圧する。これにより、フォトマスク１００とペリクル組立体１０１との圧接力が所定の押し付け力（たとえば２０Ｎ）まで上昇すると、その押し付け力を維持した状態でエアシリンダ２５のロッド２５ａが停止し、所定時間（たとえば６０秒）だけ、上記所定の押し付け力による押し付け状態を維持する。これにより、ペリクル組立体１０１のペリクルフレーム１０２が、フォトマスク１００のパターン面１００ａの外周部に接着される。この接着工程において、作業者は、フォトマスク１００に対するペリクル組立体１０１の全体の押し付け力並びに四隅部の押し付け力が、所定の押し付け力（たとえば２０Ｎ並びに５Ｎ）に維持されているか否かを、確認する。なお、この時点では、押し上げ部材７７のエア吸引口９５により、ペリクル加圧体１２の吸引口６７を介して可動爪６４部分からエアが吸引され、これにより可動爪６４が後退した状態となっており、したがって、可動爪６４によるペリクル組立体１０１の締め付け状態は解除されている。
（１３）接着完了後は、第１段昇降機構２１の昇降ラック２３が高速（たとえば３ｍｍ／秒程度）で下降することにより、押し上げ組立体７６と共にフォトマスク１００及びペリクル組立体１０１が下降する。
（１４）上記下降行程において、フォトマスク１００がマスクステージ１１に当接し、係止されることにより、押し上げ部材７７上に吸着されているペリクル加圧体１２はペリクル組立体１０１から下方に離される。すなわち、フォトマスク１００及びこれに接着されたペリクル組立体１０１をマスクステージ１１に残した状態で、ペリクル加圧体１２及び押し上げ組立体７６が一体的に下降する。上記のようにペリクル加圧体１２をペリクル組立体１０１から離反させる際には、前述のように、可動爪６４によるペリクル組立体１０１の締め付け状態は既に解除されているので、ペリクル加圧体１２は、抵抗を受けることなく、ペリクル組立体１０１から下方に離反する。
（１５）続いて、ペリクル加圧体１２が加圧体テージ１３に係止されると、ペリクル加圧体１２から押し上げ部材７７が下方に引き離される。この時、ロッド２５ａに設けたリターン用ディスク８８が、クッション部材９０及びリターン用ボルト８９を介して押し上げ部材７７を引き下げることにより、押し上げ部材７７をその磁力に抗してペリクル加圧体１２から引き離す。
（１６）第１段昇降機構２１の昇降ラック２３が最下位位置まで下降し、続いて、第２段昇降機構２２のエアシリンダ２４のロッド２５ａが下方に収縮する。
（１７）第２段昇降機構２２のエアシリンダ２５のロッド２５ａが最下位置まで収縮した後、加圧体ステージ１３及びマスクステージ１１は、前方の着脱位置Ａ１まで前進する。そして、着脱位置Ａ１のマスクステージ１１上から、フォトマスク１００及びこれに接着されたペリクル組立体１０１の一体物を取り外す。
［実施の形態による効果］
（１）押し上げ力が大きくてストロークが長い第１段昇降機構２１により、ペリクル加圧体１２、ペリクル組立体１０１、フォトマスク１００、第２段昇降機構２２及び第１段昇降機構２１の昇降ラック２３等の重量物をマスク加圧体５の下側近傍まで上昇させ、第２段階として、押し上げ力が小さくてストロークが短い第２段昇降機構２２により、フォトマスク１００のガラス面１００ｂをマスク加圧体５に圧接させ、低い押し付け力でマスク加圧体５とペリクル加圧体１２との間でフォトマスク１００及びペリクル組立体１０１を一定時間挟圧するので、作業能率を維持しつつ、フォトマスクに生じる歪の発生を抑制することができ、品質の良いペリクル組立体付きフォトマスクを提供できる。
（２）第１段昇降機構２１は、電動モータ２４とこれにピニオン機構を介して連結された昇降ラック２３とで構成されているので、大きな押し上げ力及び長いストロークを容易に確保することができる。一方、第２段昇降機構２２はエアシリンダ２５で構成されているので、小型軽量化できる。
（３）第１段昇降機構２１による上昇ストロークＳ１は、マスクステージ１１に保持されたフォトマスク１００に、ペリクル組立体１０１が当接する寸前までの前期ストロークＳ１ａと、フォトマスク１００をマスクステージ１１から持ち上げ、フォトマスク１００のガラス面１００ｂがマスク加圧体５に所定間隔まで近づくまでの後期ストロークＳ１ｂと、を有し、前記前期ストロークＳ１ａにおける上昇速度が高速（たとえば６ｍｍ／秒）に設定され、前記後期ストロークＳ１ｂにおける上昇速度が前記ストロークＳ１ａの上昇速度よりも低速（たとえば０．５ｍｍ／秒）に設定されているので、ペリクル組立体１０１がフォトマスク１００に当接する際の衝撃を抑制し、精度良く、ペリクル組立体１０１をフォトマスク１００に当接させることができる。なお、前記第１段昇降機構２１の後期ストロークＳ１ｂにおける上昇速度並びに第２段昇降機構２２の上昇速度は、遅ければ遅い程、当接時の衝撃を効果的に抑制し、精度を向上させることができる。
（４）押し上げ部材７７によるによる押し付け力（押し上げ力）の全体を検出するメインロードセル８２と、ペリクル加圧体１２の四隅部に分散配置された４個のサブロードセル８３とを備えていることにより、フォトマスク１００に対するペリクル組立体１０１全体の押し付け力及びその四隅分布を確認できるので、容易に押し付け力の均一化を図り、品質を向上させることができる。
（５）マスクステージ１１は、フォトマスク１００を水平方向移動可能に支持する複数の支持ボール部材４０と、フォトマスク１００の左端縁と前端縁をそれぞれ右側及び後側の位置決め用ストッパーピン４２に向けて押圧する押圧ピン機構４１と、を備えており、各押圧ピン機構４１は、常時は、ばね５９によりフォトマスク１００から離れるように付勢され、圧縮エアにより、前記ばね５９に抗して前記フォトマスク側に移動し、フォトマスク１００を位置決めするように構成されているので、軽い押圧力により、フォトマスク１００を傷付けることなく、円滑に位置決めすることができ、しかも、マスクステージ１１からフォトマスク１００を持ち上げる際に、抵抗が殆どかからず、正常な水平姿勢を保って、軽く持ち上げることができる。
［その他の実施の形態］
（１）前記実施の形態では、第１段昇降機構２１をピニオン・ラック式とし、第２段昇降機構２２をエアシリンダ式としているが、第１段昇降機構２１として、大きな容量及び長いストロークのエアシリンダを用いたり、親ねじとこれに螺合する昇降ナットあるいはボールナットを用いたりすることも可能である。また、第２段昇降機構として、ラック式あるいはねじ送り式の機構を用いることも可能である。
（２）ＴＦＴ液晶基板等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の回路基板を露光形成するための露光用フォトマスクにペリクル組立体を貼り付けるペリクル貼り付け装置にも適用可能である。
　１　装置本体
　５　マスク加圧体
　１１　マスクステージ
　１２　ペリクル加圧体
　１３　加圧体ステージ
　２０　昇降装置
　２１　第１段昇降機構
　２２　第２段昇降機構
　４０　支持ボール部材
　４１　押圧ピン機構
　４２　位置決め用ストッパーピン（ストッパー部）
　６４　押圧用可動爪
　６５　位置決め用ストッパー爪
　７６　押し上げ組立体
　７７　押し上げ部材
　７８　補強部材
　７９　連結部材
　８２　メインロードセル
　８３　サブロードセル
　１００　露光用フォトマスク
　１０１　ペリクル組立体
　１０２　ペリクルフレーム
　１０３　ペリクル膜

Claims (5)

  1. 　パターン面を下に向けて水平配置されたフォトマスクを上方から加圧するマスク加圧体と、ペリクルフレームにペリクル膜を貼り付けてなるペリクル組立体を下方から加圧するペリクル加圧体と、該ペリクル加圧体を昇降する昇降装置と、を備え、該昇降装置により前記ペリクル組立体を前記ペリクル加圧体と共に上昇させ、前記パターン面に前記ペリクルフレームを接着するペリクル貼付装置において、
    　前記昇降装置は、下側の第１段昇降機構と、該第１段昇降機構により昇降される上側の第２段昇降機構と、を有する上下２段構造となっており、
    　前記第２段昇降機構は、前記ペリクル加圧体を下方から押し上げる押し上げ部材を有し、
    　前記第２段昇降機構による押し上げ力は、前記第１段昇降機構による押し上げ力よりも小さく、かつ、前記第２段昇降機構による上昇ストロークは、前記第１段昇降機構による上昇ストロークよりも小さく設定されている、ことを特徴とするペリクル貼付装置。
  2. 　請求項１に記載のペリクル貼付装置において、
    　前記第１段昇降機構による上昇ストロークは、前記押し上げ部材が、最下位置から前記ペリクル加圧体と共に前記ペリクル組立体を押し上げ、該ペリクル組立体がマスクステージ上の前記フォトマスクのパターン面に当接する前までの前期ストロークと、前記マスクステージから前記フォトマスクを押し上げるまでの後期ストロークと、を有し、
    　前記前期ストロークにおける上昇速度が、前記後期ストロークにおける上昇速度よりも大きい値に設定されている、ペリクル貼付装置。
  3. 　　請求項１又は２に記載のペリクル貼付装置において、
    　前記第１段昇降機構は、モータと、該モータに連結されて上下方向に移動する昇降ラックと、から構成され、
    　前記第２段昇降機構は、エアシリンダにより構成されている、ペリクル貼付装置。
  4. 　請求項３に記載のペリクル貼付装置において、
    　前記エアシリンダと前記押し上げ部材との間には、
    　平面視で、矩形の前記ペリクル加圧体の略中央部に位置して前記第２段昇降機構による押し付け力の全体を検出するメインロードセルと、前記ペリクル加圧体の少なくとも四隅部に分散配置された４個のサブロードセルと、を備えている、ペリクル貼付装置。
  5. 　請求項２乃至４のいずれか一つに記載のペリクル貼付装置において、
    　前記マスクステージは、平面視で矩形の前記フォトマスクを水平方向移動可能に支持する複数の支持ボール部材と、前記フォトマスクの４辺のうち、隣り合う２辺をそれぞれ基準位置に係止する位置決め用ストッパー部と、前記各ストッパー部側に向けて前記フォトマスクの残り２辺をそれぞれ押圧する押圧ピン機構と、を備え、
    　前記各押圧ピン機構は、ばねにより前記フォトマスクから離れるように付勢され、圧縮エアにより、前記ばねに抗して前記フォトマスク側に移動し、フォトマスクを前記ストッパー部に押し付けるように構成されている、ペリクル貼付装置。
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